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四[1-(甲氧基)-2-甲基-2-丙醇基]铈,[Ce(mmp)4] | 1262520-82-0

中文名称
四[1-(甲氧基)-2-甲基-2-丙醇基]铈,[Ce(mmp)4]
中文别名
——
英文名称
[Ce(1-methoxy-2-methylpropan-2-olate)4]
英文别名
Tetrakis[1-(methoxy)-2-methyl-2-propanolato] cerium;cerium(4+);1-methoxy-2-methylpropan-2-olate
四[1-(甲氧基)-2-甲基-2-丙醇基]铈,[Ce(mmp)4]化学式
CAS
1262520-82-0
化学式
C20H44CeO8
mdl
——
分子量
552.685
InChiKey
GJUYZTSPMLBGEX-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    -0.91
  • 重原子数:
    29
  • 可旋转键数:
    8
  • 环数:
    0.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    1.0
  • 拓扑面积:
    129
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    8

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    四[1-(甲氧基)-2-甲基-2-丙醇基]铈,[Ce(mmp)4]二苯甲酰基甲烷甲苯 为溶剂, 以31.2%的产率得到[Ce(1-methoxy-2-methylpropan-2-olate)2(dibenzoylmethane(1-))2]
    参考文献:
    名称:
    Ce(IV)配合物与供体官能化的烷氧基配体:化学气相沉积CeO 2的改进的前体。
    摘要:
    氧化铈(CeO 2)薄膜具有许多应用,并且通过液体注入MOCVD(金属有机化学气相沉积)或ALD(原子层沉积)进行合成需要挥发性前体化合物。在这里我们报告与供体功能化的醇盐配体mmp(1-甲氧基-2-甲基丙烷-2-油酸酯),dmap(1-(二甲基氨基)丙烷-2-醇酸酯)的一系列均配和杂配Ce(IV)配合物的合成),以及DMOP(2-(4,4-二甲基-4,5-二氢恶唑-2-基)丙-2-醇钠)和它们作为MOCVD和铈的ALD前体的潜在2。通过与[Ce(OBu t)4 ]的醇交换反应合成了新的配合物。[Ce(mmp)4 ]和[Ce(dmap)4均被认为是CeO 2液体注入MOCVD的极佳前体,可沉积出具有极低碳污染的高纯度薄膜,并且都具有大的扩散控制生长温度范围([Ce(mmp)为350-600°C )4 ]; [Ce(dmap)4 ]的温度为300-600°C 。[Ce(mmp)4 ]也是使用H
    DOI:
    10.1021/ic201593s
  • 作为产物:
    描述:
    sodium t-butanolate1-甲氧基-2-甲基-2-丙醇 、 ammonium cerium (IV) nitrate 以 乙二醇二甲醚 为溶剂, 以52%的产率得到四[1-(甲氧基)-2-甲基-2-丙醇基]铈,[Ce(mmp)4]
    参考文献:
    名称:
    Ce(IV)配合物与供体官能化的烷氧基配体:化学气相沉积CeO 2的改进的前体。
    摘要:
    氧化铈(CeO 2)薄膜具有许多应用,并且通过液体注入MOCVD(金属有机化学气相沉积)或ALD(原子层沉积)进行合成需要挥发性前体化合物。在这里我们报告与供体功能化的醇盐配体mmp(1-甲氧基-2-甲基丙烷-2-油酸酯),dmap(1-(二甲基氨基)丙烷-2-醇酸酯)的一系列均配和杂配Ce(IV)配合物的合成),以及DMOP(2-(4,4-二甲基-4,5-二氢恶唑-2-基)丙-2-醇钠)和它们作为MOCVD和铈的ALD前体的潜在2。通过与[Ce(OBu t)4 ]的醇交换反应合成了新的配合物。[Ce(mmp)4 ]和[Ce(dmap)4均被认为是CeO 2液体注入MOCVD的极佳前体,可沉积出具有极低碳污染的高纯度薄膜,并且都具有大的扩散控制生长温度范围([Ce(mmp)为350-600°C )4 ]; [Ce(dmap)4 ]的温度为300-600°C 。[Ce(mmp)4 ]也是使用H
    DOI:
    10.1021/ic201593s
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文献信息

  • Ce(IV) Complexes with Donor-Functionalized Alkoxide Ligands: Improved Precursors for Chemical Vapor Deposition of CeO<sub>2</sub>
    作者:Helen C. Aspinall、John Bacsa、Anthony C. Jones、Jacqueline S. Wrench、Kate Black、Paul R. Chalker、Peter J. King、Paul Marshall、Matthew Werner、Hywel O. Davies、Rajesh Odedra
    DOI:10.1021/ic201593s
    日期:2011.11.21
    Thin films of ceria (CeO2) have many applications, and their synthesis by liquid-injection MOCVD (metal–organic chemical vapor deposition) or ALD (atomic layer deposition) requires volatile precursor compounds. Here we report the synthesis of a series of homoleptic and heteroleptic Ce(IV) complexes with donor-functionalized alkoxide ligands mmp (1-methoxy-2-methylpropan-2-olate), dmap (1-(dimethylamino)propan-2-olate)
    氧化铈(CeO 2)薄膜具有许多应用,并且通过液体注入MOCVD(金属有机化学气相沉积)或ALD(原子层沉积)进行合成需要挥发性前体化合物。在这里我们报告与供体功能化的醇盐配体mmp(1-甲氧基-2-甲基丙烷-2-油酸酯),dmap(1-(二甲基氨基)丙烷-2-醇酸酯)的一系列均配和杂配Ce(IV)配合物的合成),以及DMOP(2-(4,4-二甲基-4,5-二氢恶唑-2-基)丙-2-醇钠)和它们作为MOCVD和铈的ALD前体的潜在2。通过与[Ce(OBu t)4 ]的醇交换反应合成了新的配合物。[Ce(mmp)4 ]和[Ce(dmap)4均被认为是CeO 2液体注入MOCVD的极佳前体,可沉积出具有极低碳污染的高纯度薄膜,并且都具有大的扩散控制生长温度范围([Ce(mmp)为350-600°C )4 ]; [Ce(dmap)4 ]的温度为300-600°C 。[Ce(mmp)4 ]也是使用H
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