1-((三甲基甲硅烷基)甲基)环己烷-1-醇 | 55287-96-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 中文名称: 1-((三甲基甲硅烷基)甲基)环己烷-1-醇
• 英文名称: 1-Trimethylsilylmethylcyclohexanol
• 英文别名: 1-(trimethylsilylmethyl)cyclohexan-1-ol
• CAS: 55287-96-2
• 化学式: C₁₀H₂₂OSi
• mdl: MFCD03931959
• 分子量: 186.37
• InChiKey: LWZOXVQMYFPPRL-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.6
• 重原子数：
  12
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  20.2
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1-((三甲基甲硅烷基)甲基)环己烷-1-醇 生成 环己烯-1-基甲基(三甲基)硅烷
  参考文献：
  名称：

  Formation of vinylsilanes and allylsilanes in thermal elimination reactions of esters of .beta.-hydroxyalkyltrimethylsilanes

  摘要：

  DOI：

  10.1021/jo00873a016
• 作为产物：
  描述：

  (三甲基硅基)甲基氯化镁 、 环己酮 生成 1-((三甲基甲硅烷基)甲基)环己烷-1-醇
  参考文献：
  名称：

  Formation of vinylsilanes and allylsilanes in thermal elimination reactions of esters of .beta.-hydroxyalkyltrimethylsilanes

  摘要：

  DOI：

  10.1021/jo00873a016

文献信息

• Tris(trimethylsilylmethyl)alane: an aldehyde selective peterson methylenation reagent
  作者：Vahak Abedi、Merle A. Battiste

  DOI：10.1016/j.jorganchem.2004.02.009

  日期：2004.5

  Tris(trimethylsilylmethyl)alane (TTMA) is a rapid, efficient, and highly aldehyde-selective trimethylsilylmethylating reagent. A solid lithium halide complex of the reagent, TTMA · 3LiBr (TTMAs), is particularly effective in this transformation to the Peterson alcohol intermediate.

  三（三甲基甲硅烷基甲基）烷烃（TTMA）是一种快速，高效且对醛具有高选择性的三甲基甲硅烷基甲基化试剂。试剂TTMA 3LiBr（TTMAs）的固态卤化锂络合物在向彼得森醇中间体的这种转化中特别有效。
• Polymer, resist composition and patterning process
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US20020061465A1

  公开（公告）日：2002-05-23

  A polymer bearing specific silicon-containing groups is novel. A resist composition comprising the polymer as a base resin is sensitive to high-energy radiation and has excellent sensitivity and resolution at a wavelength of less than 300 nm, and high resistance to oxygen plasma etching. The resist composition lends itself to micropatterning for the fabrication of VLSIs.

  一种具有特定硅含基团的聚合物轴承是新颖的。以该聚合物为基础树脂的抗蚀剂组合物对高能辐射敏感，在小于300纳米的波长下具有良好的敏感度和分辨率，并且对氧等离子体刻蚀具有很高的抵抗力。该抗蚀剂组合物适用于微型图案制作，用于制造VLSI。