氯化三苯基硫 | 4270-70-6

• 物质功能分类: 医药中间体 - 原料药中间体
• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 中文名称: 氯化三苯基硫
• 中文别名: 三苯基氯化硫；三苯基氯化硫鎓盐；三苯基硫氯化物；氟哌噻吨癸酸酯；三苯基氯化锍；氯化三苯基锍；三苯基氯化硫盐
• 英文名称: triphenylsulfonium chloride
• 英文别名: triphenylsulphonium chloride；triphenylsulfanium;chloride
• CAS: 4270-70-6
• 化学式: C₁₈H₁₅S*Cl
• 分子量: 298.836
• InChiKey: ZFEAYIKULRXTAR-UHFFFAOYSA-M

物化性质

• 熔点：
  277 °C
• 稳定性/保质期：
  在常温常压下保持稳定

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.79
• 重原子数：
  20
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  1
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

安全信息

• 危险品标志：
  Xi
• 危险类别码：
  R36/37/38
• WGK Germany：
  3
• 海关编码：
  2930909090
• 安全说明：
  S26
• 危险性防范说明：
  P264,P302+P352,P304+P340,P305+P351+P338,P332+P313,P337+P313
• 危险性描述：
  H315,H319,H335
• 储存条件：
  请将药品存放在避光、通风干燥的地方，并密封保存。

制备方法与用途

应用

三苯基氯化硫盐作为一种新型光致产酸剂，广泛应用于248nm及以下深紫外光致抗蚀剂，在集成电路和半导体工业中得到了广泛应用。

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  氯化三苯基硫 以 二氯甲烷 为溶剂， 反应 1.0h， 生成 三苯基锍与三氟甲磺酸的盐
  参考文献：
  名称：

  A Photo Lewis 酸发生器 (PhLAG)：B(C6F5)3 的受控光释放

  摘要：

  已开发出一种在 254 nm 光照射下释放强有机金属路易斯酸 B(C(6)F(5))(3) 的分子。这种光路易斯酸生成剂 (PhLAG) 现在可以光控引发由这种重要的路易斯酸催化的几种反应。本文描述了基于咔唑功能的氨基甲酸硼酸三苯基锍盐的合成，其作为 PhLAG 的建立，以及 B(C(6)F(5))(3) 的光释放在制造聚硅氧烷材料的薄膜。

  DOI：

  10.1021/ja3042977
• 作为产物：
  描述：

  苯基氯化镁 在 三甲基氯硅烷 、 盐酸 、 水 作用下， 以 二氯甲烷 、 四氢呋喃 、 乙醚 为溶剂， 反应 1.5h， 生成 氯化三苯基硫
  参考文献：
  名称：

  Novel fluorosulfonyloxyalkyl sulfonate salts and derivatives, photoacid generators, resist compositions, and patterning process

  摘要：

  公开号：

  EP1780198B1
• 作为试剂：
  描述：

  5-甲基尿甙 在 吡啶 、 盐酸 、 4-二甲氨基吡啶 、 ammonium hydroxide 、 sodium azide 、 水 、 氯化三苯基硫 、 氯化铵 、 三乙胺 、 sodium hydroxide 作用下， 以 吡啶 、 甲醇 、 二氯甲烷 、 水 、 N,N-二甲基甲酰胺 、 丙酮 、 乙腈 为溶剂， 反应 26.0h， 生成
  参考文献：
  名称：

  [EN] S-ANTIGEN TRANSPORT INHIBITING OLIGONUCLEOTIDE POLYMERS AND METHODS
  [FR] POLYMÈRES OLIGONUCLÉOTIDIQUES INHIBANT LE TRANSPORT DE L'ANTIGÈNE S ET MÉTHODES

  摘要：

  各种实施方式提供了STOPS™聚合物，这些聚合物是S-抗原转运抑制寡核苷酸聚合物，提供了制备它们的方法以及使用它们治疗疾病和症状的方法。在某些实施方式中，STOPS™修饰的寡核苷酸包括至少部分磷硫酸酯化的交替A和C单元序列，具有如本文所述的修饰。通过HBsAg分泌测定确定的STOPS™修饰的寡核苷酸对乙型肝炎的序列无关抗病毒活性，其EC50小于100 nM。

  公开号：

  WO2021119325A1

文献信息

• [EN] COMPOUNDS CONTAINING ALKYL-CYANO-BORATE OR ALKYL-CYANO-FLUOROBORATE ANIONS<br/>[FR] COMPOSÉS CONTENANT LES ANIONS ALKYLE, CYANO, BORATE OU ALKYLE, CYANO, FLUOROBORATE
  申请人：MERCK PATENT GMBH

  公开号：WO2013010641A1

  公开（公告）日：2013-01-24

  The invention relates to new compounds containing alkyl/alkenyl-cyano- borate or alkyl/a!kenyl-cyano-fluoroborate anions, their preparation and their use, in particular as part of electrolyte formulations for electrochemical or optoelectronic devices.

  该发明涉及包含烷基/烯基-氰基硼酸或烷基/烯基-氰基氟硼酸阴离子的新化合物，它们的制备及其用途，尤其是作为电化学或光电子设备电解质配方的一部分。
• Photo Lewis acid generators: photorelease of B(C₆F₅)₃ and applications to catalysis
  作者：Andrey Y. Khalimon、Bryan K. Shaw、Adam J. V. Marwitz、Warren E. Piers、James M. Blackwell、Masood Parvez

  DOI：10.1039/c5dt03008k

  日期：——

  A series of molecules capable of releasing of the strong organometallic Lewis acid B(C6F5)3 upon exposure to 254 nm light have been developed. These photo Lewis acid generators (PhLAGs) can now serve as photoinitiators for several important B(C6F5)3-catalyzed reactions. Herein is described the synthesis of the triphenylsulfonium and diphenyliodonium salts of carbamato- and hydridoborates, their establishment

  已经开发出了一系列能够在暴露于254 nm的光后释放出强有机金属路易斯酸B（C 6 F 5）3的分子。这些光路易斯酸产生剂（PhLAG）现在可以用作几个重要的B（C 6 F 5）3催化反应的光引发剂。本文描述了氨基甲酸酯和氢硼酸酯的三苯基s盐和二苯基碘鎓盐的合成，它们作为PhLAG的建立以及旨在确定硼烷释放机理的研究。还讨论了影响这些光解反应的因素以及该概念在光诱导的氢化硅烷化反应中的应用以及硅氧烷支架的构建。
• PROCESS FOR PRODUCING ALKOXYCARBONYLFLUOROALKANESULFONATES
  申请人：FUJIWARA Masaki

  公开号：US20080108846A1

  公开（公告）日：2008-05-08

  A process for producing an alkoxycarbonylfluoroalkanesulfonate represented by the formula [1] is provided. This process includes the steps of (a) reacting a halofluoroalkanoate represented by the formula [2], with a sulfinating agent, thereby obtaining an alkoxycarbonylfluoroalkanesulfinate represented by the formula [3]; and (b) reacting the alkoxycarbonylfluoroalkanesulfinate with an oxidizing agent, thereby obtaining the target alkoxycarbonylfluoroalkanesulfonate. Furthermore, it is possible to react the obtained alkoxycarbonylfluoroalkanesulfonate with a monovalent onium salt to conduct a salt exchange, thereby obtaining a alkoxycarbonylfluoroalkanesulfonic acid onium salt represented by the formula [4].

  提供了一种制备由公式[1]表示的烷氧羰基氟代烷磺酸盐的方法。这个过程包括以下步骤：(a)使由公式[2]表示的卤氟代烷酸盐与亚磺化剂反应，从而获得由公式[3]表示的烷氧羰基氟代烷亚磺酸盐；以及(b)使烷氧羰基氟代烷亚磺酸盐与氧化剂反应，从而获得目标烷氧羰基氟代烷磺酸盐。此外，可以将获得的烷氧羰基氟代烷磺酸盐与单价阳离子盐进行反应，进行盐交换，从而获得由公式[4]表示的烷氧羰基氟代烷磺酸阳离子盐。
• Salt suitable for an acid generator and a chemically amplified resist composition containing the same
  申请人：Harada Yukako

  公开号：US20070078269A1

  公开（公告）日：2007-04-05

  The present invention provides a salt of the formula (I): wherein ring Y represents monocyclic or polycyclic hydrocarbon group having 3 to 30 carbon atoms, in which one —CH 2 — group is substituted with —COO— group, and at least one hydrogen atom in the monocyclic or polycyclic hydrocarbon group may optionally be substituted with alkyl group having 1 to 6 carbon atom, alkoxy group having 1 to 6 carbon atom, perfluoroalkyl group having 1 to 4 carbon atoms, hydroxyalkyl group having 1 to 6 carbon atoms, hydroxyl group or cyano group; Q 1 and Q 2 each independently represent fluorine atom or perfluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms; A + represents organic counter ion; and n shows an integer of 0 to 12. The present invention also provides a chemically amplified resist composition comprising the salt of the formula (I).

  本发明提供了一种具有公式(I)的盐： 其中环Y代表具有3至30个碳原子的单环或多元环烃基团，其中一个—CH2—基团被—COO—基团取代，并且单环或多元环烃基团中的至少一个氢原子可以可选地被具有1至6个碳原子的烷基取代，具有1至6个碳原子的烷氧基，具有1至4个碳原子的全氟烷基，具有1至6个碳原子的羟基烷基，羟基或腈基；Q1和Q2各自独立地代表氟原子或具有1至6个碳原子的全氟烷基；A+代表有机反离子；n表示0至12的整数。 本发明还提供了一种含有公式(I)盐的化学放大抗蚀剂组合物。
• SALT AND PHOTORESIST COMPOSITION CONTAINING THE SAME
  申请人：ICHIKAWA Koji

  公开号：US20100304293A1

  公开（公告）日：2010-12-02

  A salt represented by the formula (a): wherein Q 1 and Q 2 each independently represent a fluorine atom etc., X 1 represents a single bond etc., X 2 represents a single bond etc., Y 1 represents a C3-C6 alicyclic hydrocarbon group etc., with the proviso that —X 2 —Y 1 group has one or more fluorine atoms, and Z + represents an organic counter cation, and a photoresist composition comprising the salt represented by the formula (a) and a resin comprising a structural unit having an acid-labile group and being insoluble or poorly soluble in an aqueous alkali solution but becoming soluble in an aqueous alkali solution by the action of an acid.

  由公式(a)表示的盐：其中Q1和Q2各自独立代表氟原子等，X1代表单键等，X2代表单键等，Y1代表C3-C6的脂环烃基等，但条件是—X2—Y1基团具有一个或多个氟原子，以及Z+代表有机反离子，以及包含由公式(a)表示的盐的光阻剂组合物和包含具有酸不稳定的基团并且在水性碱液中不溶或微溶于但在酸性作用下水性碱液中变得可溶的树脂的结构单元。