2,4,7,9-四甲基-4,7-癸烷二醇 | 17913-76-7

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 中文名称: 2,4,7,9-四甲基-4,7-癸烷二醇
• 英文名称: 2,4,7,9-Tetramethyl-decan-4,7-diol
• 英文别名: 2,4,7,9-tetramethyl-decane-4,7-diol；2,4,7,9-Tetramethyldecane-4,7-diol
• CAS: 17913-76-7
• 化学式: C₁₄H₃₀O₂
• 分子量: 230.391
• InChiKey: BTRWELPXUDWAGW-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  278℃[at 101 325 Pa]
• 密度：
  0.9[at 20℃]
• LogP：
  3.8 at 25℃

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.4
• 重原子数：
  16
• 可旋转键数：
  7
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  40.5
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  2

安全信息

• 海关编码：
  2905399090

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  2,4,7,9-四甲基-5-癸炔-4,7-二醇 在 palladium on activated charcoal 氢氧化钾 、 氢气 作用下， 以 正庚烷 为溶剂， 生成 2,4,7,9-四甲基-4,7-癸烷二醇
  参考文献：
  名称：

  Hydrogenation-Hydrogenolysis Studies of Symmetrically Substituted 1,4-Acetylenic Glycols

  摘要：

  DOI：

  10.1021/jo01054a028

文献信息

• IMAGE FORMING METHOD
  申请人：GOTOU Hiroshi

  公开号：US20130155145A1

  公开（公告）日：2013-06-20

  An image forming method applying a pretreatment liquid on the surface of a recording medium; and applying an inkjet ink including a colorant, a hydrosoluble organic solvent, a surfactant and water on the surface applied with the pretreatment liquid, wherein the hydrosoluble organic solvent includes at least one polyol including an equilibrium water content in an amount not less than 30% by weight at 23° C. and 80% RH; an amide compound having the following formula (I); and at least one of compounds having the following formulae (II) to (IV), and wherein a pure water transfers to the recording medium in an amount of from 1 to 15 mL/m 2 when measured by a dynamic scanning liquid absorptometer at a contact time of 100 ms.

  一种图像形成方法，其在记录介质的表面上应用预处理液，并在应用预处理液的表面上应用包括颜料、水溶性有机溶剂、表面活性剂和水的喷墨墨水，其中水溶性有机溶剂包括至少一种多元醇，其在23℃和80%相对湿度下的平衡含水量不少于30%（重量百分比），具有以下式（I）的酰胺化合物，以及具有以下式（II）至（IV）之一的化合物，其中在100ms接触时间下，通过动态扫描液体吸收计测量，纯水向记录介质转移的量为1至15 mL/m2。
• LIQUID COMPOSITION, RECORDING METHOD, AND RECORDED MATTER
  申请人：Gotou Hiroshi

  公开号：US20130101814A1

  公开（公告）日：2013-04-25

  A liquid composition for agglutinating particles having a negative charge which are dispersed in a dispersion liquid, the liquid composition including: an organic acid ammonium salt represented by Formula (1), and water, Formula (1) where R 1 represents a hydroxyl group, a methyl group or a hydrogen atom; and R 2 represents a hydroxyl group or a methyl group.

  一种用于凝聚分散在分散液中的带有负电荷的颗粒的液态组合物，该液态组合物包括：由式（1）表示的有机酸铵盐和水，其中，式（1）中R1表示羟基、甲基或氢原子；R2表示羟基或甲基。
• COPOLYMER, AQUEOUS INK, AND INK CARTRIDGE
  申请人：Harada Shigeyuki

  公开号：US20160032037A1

  公开（公告）日：2016-02-04

  A copolymer contains a structure unit represented by Chemical formula 1 and a structure unit represented by Chemical formula 2, where R represents a hydrogen atom or a methyl group, X represents a hydrogen atom or a cation, L1 and L2 each, independently represent alkylene groups having 2 to 18 carbon atoms.

  一个共聚物包含由化学式1表示的结构单元和由化学式2表示的结构单元，其中R表示氢原子或甲基基团，X表示氢原子或阳离子，L1和L2各自独立地表示具有2至18个碳原子的烷基基团。
• Diastereoisomeric enrichment of 1,4-enediols and H₂-splitting inhibition on Pd-supported catalysts
  作者：Jordi Ballesteros-Soberanas、Marta Mon、Antonio Leyva-Pérez

  DOI：10.1039/d3ob01025b

  日期：——

  Pd-supported catalysts are fundamental tools in organic reactions involving H2 splitting. Here we show that 1,4-enediols enriched in one diastereoisomer are produced from the classical Pd-catalyzed semi-hydrogenation reaction with H2, starting from the corresponding, widely available 1,4-diacetylenic diols. The semi-hydrogenation reaction proceeds concomitantly with the desymmetrization of the meso/racemic

  Pd负载的催化剂是涉及H 2分解的有机反应的基本工具。在这里，我们展示了富含一种非对映异构体的 1,4-烯二醇是通过经典的 Pd 催化与 H 2的半氢化反应生产的，从相应的、广泛使用的 1,4-二乙炔二醇开始。半氢化反应与烯二醇的内消旋/外消旋形式的去对称化同时进行。我们还表明，如果这些产品提前添加到 H 2中，则会使 Pd 催化剂完全失活（仅当在 H 2之前添加时）。这些结果提供了一种简单的方法，不仅可以通过经典催化方法生产富含一种非对映异构体的1,4-烯二醇，而且还可以阻止Pd纳米颗粒上的H 2解离。
• Process solutions containing surfactants
  申请人：AIR PRODUCTS AND CHEMICALS, INC.

  公开号：EP1389746A2

  公开（公告）日：2004-02-18

  Process solutions comprising one or more surfactants are used to reduce the number of defects in the manufacture of semiconductor devices. In certain preferred embodiments, the process solution of the present invention may reduce post-development defects such as pattern collapse when employed as a rinse solution either during or after the development of the patterned photoresist layer. Also disclosed is a method for reducing the number of pattern collapse defects on a plurality of photoresist coated substrates employing the process solution of the present invention.

  包含一种或多种表面活性剂的工艺溶液用于减少半导体器件制造过程中的缺陷数量。在某些优选的实施方案中，本发明的工艺溶液在图案化光刻胶层显影期间或之后用作冲洗溶液时，可减少显影后缺陷，如图案塌陷。本发明还公开了一种采用本发明工艺溶液减少多个光刻胶涂层基底上图案塌陷缺陷数量的方法。