tert.-Amyl-n-propionat | 34949-22-9

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 英文名称: tert.-Amyl-n-propionat
• 英文别名: t.-Amylpropionat；1,1-dimethylpropyl propanoate；tert-amyl propionate；tert-amyl propanoate；propionic acid tert-pentyl ester；Propionsaeure-tert-pentylester；Propanoic acid, 1,1-dimethylpropyl ester；2-methylbutan-2-yl propanoate
• CAS: 34949-22-9
• 化学式: C₈H₁₆O₂
• 分子量: 144.214
• InChiKey: RHSLWHLBYFOBAF-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  153-156 °C(Press: 710 Torr)
• 密度：
  0.878±0.06 g/cm3(Predicted)
• 保留指数：
  847;873;887;888;893

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2
• 重原子数：
  10
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.88
• 拓扑面积：
  26.3
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

安全信息

• 海关编码：
  2915509000

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  tert.-Amyl-n-propionat 在 sodium acetate 、 pyridinium chlorochromate 、 lithium diisopropyl amide 作用下， 以 四氢呋喃 、 二氯甲烷 为溶剂， 反应 5.0h， 生成 2-methylbutan-2-yl 2-methyl-3-oxo-3-phenylpropanoate
  参考文献：
  名称：

  TADDOLate钛催化活性羰基化合物的不对称氟化的底物范围

  摘要：

  [TiCl 2（TADDOLate）]的底物范围（TADDOL = α，α，α '，α'-四芳基-1,3-二氧戊环-4,5-二甲醇）催化活化的β-羰基的不对称α-氟化化合物已被研究。在F-TEDA（1-（氯甲基）-4）饱和（0.14 mol / l）MeCN溶液中使用5 mol％的TiCl 2（萘-1-基）-TADDOLate作为催化剂来表征最佳的催化条件。-氟-1,4-二氮杂双环[2.2.2]辛烷双[四氟硼酸酯]）。一系列α甲基化的β具有笨重的苄基酯基团（60-90％ee）或苯酯（67-88％ee）的酮基酯（3-氧代丁酸酯，3-氧代戊酸酯）已经很容易被氟化，而α-酰基内酯也很容易被氟化，但是产生较低的诱导（13–46％ee）。具有手性酯基的β-酮酯的双重立体化学分化将立体选择性提高到非对映体比率（dr）高达96.5：3.5。第一次，β-酮基S-硫代酸酯被不对称氟化（62-91.5％ee）和氯化（83％ee）。在1

  DOI：

  10.1002/hlca.201100375
• 作为产物：
  描述：

  2-甲基-2-丁醇 、 丙酰氯 在 N,N-二甲基苯胺 作用下， 以 甲基叔丁基醚 为溶剂， 生成 tert.-Amyl-n-propionat
  参考文献：
  名称：

  TADDOLate钛催化活性羰基化合物的不对称氟化的底物范围

  摘要：

  [TiCl 2（TADDOLate）]的底物范围（TADDOL = α，α，α '，α'-四芳基-1,3-二氧戊环-4,5-二甲醇）催化活化的β-羰基的不对称α-氟化化合物已被研究。在F-TEDA（1-（氯甲基）-4）饱和（0.14 mol / l）MeCN溶液中使用5 mol％的TiCl 2（萘-1-基）-TADDOLate作为催化剂来表征最佳的催化条件。-氟-1,4-二氮杂双环[2.2.2]辛烷双[四氟硼酸酯]）。一系列α甲基化的β具有笨重的苄基酯基团（60-90％ee）或苯酯（67-88％ee）的酮基酯（3-氧代丁酸酯，3-氧代戊酸酯）已经很容易被氟化，而α-酰基内酯也很容易被氟化，但是产生较低的诱导（13–46％ee）。具有手性酯基的β-酮酯的双重立体化学分化将立体选择性提高到非对映体比率（dr）高达96.5：3.5。第一次，β-酮基S-硫代酸酯被不对称氟化（62-91.5％ee）和氯化（83％ee）。在1

  DOI：

  10.1002/hlca.201100375

文献信息

• SALT, RESIN, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN
  申请人：SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED

  公开号：US20160052877A1

  公开（公告）日：2016-02-25

  A salt represented by the formula (I); wherein Q 1 and Q 2 each independently represent a fluorine atom or a C 1 to C 6 perfluoroalkyl group, L b1 represents a single bond or a divalent C 1 to C 24 saturated hydrocarbon groupwhere a methylene group may be replaced by an oxygen atom or a carbonyl group and where a hydrogen atom may be replaced by a hydroxyl group or a fluorine atom, and Y represents a hydrogen atom, a fluorine atom, or an optionally substituted C 3 to C 18 alicyclic hydrocarbon groupwhere a methylene group may be replaced by an oxygen atom, a carbonyl group or a sulfonyl group; and Ar represents a divalent C 6 to C 20 aromatic hydrocarbon group, and Z + represents an organic sulfonium cation or an organic iodonium cation.

  根据您的要求，以下是化合物的中文翻译： 由公式(I)表示的盐； 其中Q1和Q2各自独立代表一个氟原子或一个C1至C6的过氟代烷基团，Lb1代表一个单键或一个二价的C1至C24的饱和烃基团，其中甲基烯基团可以被一个氧原子或一个羰基团所取代，并且其中氢原子可以被一个羟基或一个氟原子所取代，并且Y代表一个氢原子，一个氟原子，或一个可选地被取代的C3至C18的芳环烃基团，其中甲基烯基团可以被一个氧原子，一个羰基团或一个磺酰基团所取代；并且Ar代表一个二价的C6至C20的芳香烃基团，以及Z+代表一个有机硫正离子或一个有机碘正离子。
• COMPOUND, RESIN, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN
  申请人：SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED

  公开号：US20160130212A1

  公开（公告）日：2016-05-12

  A compound represented by formula (I), a resin including a structural unit derived from the compound and a resist composition including the resin: wherein R 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom or a C 1 to C 6 alkyl group in which a hydrogen atom may be replaced by a halogen atom, R 2 represents a C 1 to C 12 fluorinated saturated hydrocarbon group, A 1 represents a single bond, a C 1 to C 6 alkanediyl group or *-A 3 -X 1 -(A 4 -X 2 )a-(A 5 )b-, * represents a binding site to an oxygen atom, A 2 , A 3 , A 4 and A 5 each independently represent a C 1 to C 6 alkanediyl group, X 1 and X 2 each independently represent —O—, —CO—O— or —O—CO—, W 1 represents a C 5 to C 18 divalent alicyclic hydrocarbon group, a represents 0 or 1, and b represents 0 or 1.

  化合物的化学式（I）所代表的化合物，包括从该化合物衍生的结构单元的树脂和包括该树脂的抗蚀组合物：其中R1代表氢原子、卤素原子或C1到C6烷基基团，其中氢原子可以被卤素原子取代，R2代表C1到C12氟化饱和碳氢基团，A1代表单键，C1到C6烷二基基团或*-A3-X1-(A4-X2)a-(A5)b-，*代表与氧原子的结合位点，A2、A3、A4和A5分别独立地代表C1到C6烷二基基团，X1和X2分别独立地代表—O—、—CO—O—或—O—CO—，W1代表C5到C18二价脂环碳氢基团，a代表0或1，b代表0或1。
• COMPOUND, RESIN AND PHOTORESIST COMPOSITION
  申请人：SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED

  公开号：US20160237190A1

  公开（公告）日：2016-08-18

  A compound represented by formula (I): wherein R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group; R 2 represents a C1-C12 hydrocarbon group; X a and X b each independently represent an oxygen atom or a sulfur atom; X 11 represents a C1-C12 divalent saturated hydrocarbon group where a hydrogen atom can be replaced by a fluorine atom; and A 1 represents a C1-C12 divalent saturated hydrocarbon group or *-A 2 -X 1 -(A 3 -X 2 ) a -A 4 -, where * represents a binding site to an oxygen atom, A 2 , A 3 and A 4 each independently represent a C1-C12 divalent hydrocarbon group, X 1 and X 2 each independently represent —O—, —CO—O—, —O—CO— or —O—CO—O—, and “a” represents 0 or 1.

  化合物的化学式（I）表示为：其中R1代表氢原子或甲基基团；R2代表一个C1-C12烃基团；Xa和Xb分别代表氧原子或硫原子；X11代表一个C1-C12二价饱和碳氢基团，其中氢原子可以被氟原子取代；A1代表一个C1-C12二价饱和碳氢基团或*-A2-X1-(A3-X2)a-A4-，其中*代表与氧原子结合的位点，A2、A3和A4分别代表一个C1-C12二价碳氢基团，X1和X2分别代表—O—、—CO—O—、—O—CO—或—O—CO—O—，而“a”代表0或1。
• SALT AND PHOTORESIST COMPOSITION CONTAINING THE SAME
  申请人：SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED

  公开号：US20180065925A1

  公开（公告）日：2018-03-08

  A salt represented by formula (I): wherein R 1 and R 2 independently each represent a C6-C18 unsubstituted or substituted aromatic hydrocarbon group, X 1 represents a C1-C12 divalent aliphatic saturated hydrocarbon group in which a methylene group can be replaced by an oxygen atom or a carbonyl group, and A − represents an organic anion.

  一种由化学式(I)表示的盐：其中R1和R2分别独立地代表C6-C18未取代或取代的芳香烃基，X1代表C1-C12二价脂肪饱和碳氢烃基，其中一个亚甲基基团可被氧原子或羰基取代，A−代表有机阴离子。
• NANOPARTICULATE COMPOSITIONS FOR DIAGNOSTIC IMAGING
  申请人：Butts Matthew David

  公开号：US20140056819A1

  公开（公告）日：2014-02-27

  The present invention provides a trialkoxysilanes having structure I wherein R 1 and R 2 are independently at each occurrence a C 1 -C 3 alkyl group; R 3 is independently at each occurrence a hydrogen or a C 1 -C 3 alkyl group; R 4 is a C 1 -C 5 aliphatic radical, a C 7 -C 12 aromatic radical, or a C 5 -C 10 cycloaliphatic group; n is 0, 1, 2 or 3; q is 1, 2 or 3; and X − represents a charge balancing counterion. The trialkoxysilanes are useful for the preparation of nanoparticulate diagnostic imaging agent compositions.

  本发明提供了一种结构为I的三烷氧基硅烷，其中R1和R2在每次出现时独立地为C1-C3烷基；R3在每次出现时独立地为氢或C1-C3烷基；R4为C1-C5脂肪基、C7-C12芳基或C5-C10环脂肪基；n为0、1、2或3；q为1、2或3；X-代表电荷平衡的反离子。该三烷氧基硅烷对于制备纳米粒子诊断成像剂组合物是有用的。