4,7-dimethyl-decane-4,7-diol | 6339-20-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: 4,7-dimethyl-decane-4,7-diol
• 英文别名: α.α'-Dimethyl-α.α'-dipropyl-tetramethylenglykol；4,7-Dimethyl-decan-4,7-diol；4,7-Dimethyl-decan-diol-(4,7)；4,7-Dimethyldecane-4,7-diol
• CAS: 6339-20-4
• 化学式: C₁₂H₂₆O₂
• 分子量: 202.337
• InChiKey: VGRYQTVSPZCCQK-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.6
• 重原子数：
  14
• 可旋转键数：
  7
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  40.5
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  4,7-dimethyl-decane-4,7-diol 在 dehydrating agent 作用下， 生成 2,5-Dimethyl-2,5-dipropyl-tetrahydro-furan
  参考文献：
  名称：

  Pace, Atti della Accademia Nazionale dei Lincei, Classe di Scienze Fisiche, Matematiche e Naturali, Rendiconti, 1928, vol. <6> 7, p. 763

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  4,7-二甲基-5-癸炔-4,7-二醇 在 palladium on activated charcoal 氢氧化钾 、 氢气 作用下， 以 正庚烷 为溶剂， 生成 4,7-dimethyl-decane-4,7-diol
  参考文献：
  名称：

  Hydrogenation-Hydrogenolysis Studies of Symmetrically Substituted 1,4-Acetylenic Glycols

  摘要：

  DOI：

  10.1021/jo01054a028

文献信息

• RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION
  申请人：JSR Corporation

  公开号：EP1953593A1

  公开（公告）日：2008-08-06

  It is intended to provide a radiation-sensitive resin composition, which comprises a radiation-sensitive acid generator excellent in resolution performance, heat stability, and storage stability, suppresses fluctuations in line width and deterioration in pattern profile attributed to standing waves, and produces a resist pattern improved in nano edge roughness and LEF. The radiation-sensitive resin composition is characterized by (A) a radiation-sensitive acid generator comprising: a sulfonium salt compound typified by 2,4,6-trimethylphenyldiphenylsulfonium 2,4-difluorobenzenesulfonate, 2,4,6-trimethylphenyldiphenylsulfonium 4-trifluoromethylbenzenesulfonate, or the like; and a sulfonimide compound. It is preferred that the composition should further comprise (B) a resin typified by a 4-hydroxystyrene/4-t-butoxystyrene copolymer, a 4-hydroxystyrene/t-butyl (meth)acrylate, or the like.

  本发明的目的是提供一种辐射敏感树脂组合物，该组合物包含一种在分辨率、热稳定性和储 存稳定性方面都很出色的辐射敏感酸发生器，它能抑制驻波引起的线宽波动和图案轮廓的恶化， 并能产生在纳米边缘粗糙度和 LEF 方面都有所改善的抗蚀图案。辐射敏感树脂组合物的特征在于 (A) 辐射敏感酸发生器，包括：锍盐化合物，如 2,4,6-三甲基二苯基锍 2,4-二氟苯磺酸盐、2,4,6-三甲基二苯基锍 4-三氟甲基苯磺酸盐或类似物；以及磺酰亚胺化合物。组合物最好还包括 (B) 一种树脂，其类型为 4-羟基苯乙烯/4-叔丁氧基苯乙烯共聚物、4-羟基苯乙烯/（甲基）丙烯酸丁酯或类似物。
• Water-soluble surfactant composition
  申请人：——

  公开号：US20040242447A1

  公开（公告）日：2004-12-02

  A water-soluble surfactant composition includes an aliphatic diol and a polyoxyalkylene alkyl ether. A 0.1 wt % aqueous solution of the surfactant composition has a contact angle of at most 60 degrees and a dynamic surface tension at both 1 Hz and 10 Hz of at most 50 mN/m. When used in printing inks and paper coatings, this composition provides excellent wettability, penetrability, foam inhibition and dispersibility, is compatible with environmental concerns, and has no adverse effects on printing and coating equipment.

  一种水溶性表面活性剂组合物包括脂肪族二元醇和聚氧亚烷基醚。0.1 wt % 的表面活性剂组合物水溶液的接触角最大为 60 度，1 Hz 和 10 Hz 时的动态表面张力最大为 50 mN/m。当用于印刷油墨和纸张涂料时，这种组合物具有优异的润湿性、渗透性、抑泡性和分散性，符合环保要求，并且对印刷和涂料设备无不良影响。
• PHOTOCURABLE RESIN COMPOSITION
  申请人：DSM IP Assets B.V.

  公开号：EP1634124A1

  公开（公告）日：2006-03-15
• Photocurable resin composition
  申请人：Yashiro Takao

  公开号：US20070004816A1

  公开（公告）日：2007-01-04

  The invention relates to a radiation curable composition comprising (A) a component comprising a carboxyl group that may dissociate in the presence of an acid, (B) a cationically polymerizable compound, and (C) a cationic photoinitiator.
• US7018963B2
  申请人：——

  公开号：US7018963B2

  公开（公告）日：2006-03-28