α-Ethyl-γ,γ-dimethyl-γ-butyrolacton | 66094-79-9

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 内酯类
• 英文名称: α-Ethyl-γ,γ-dimethyl-γ-butyrolacton
• 英文别名: 3-ethyl-5,5-dimethyl-dihydro-furan-2-one；5,5-dimethyl-3-ethyl-3,4-dihydrofuran-2-one；2(3H)-Furanone, 3-ethyldihydro-5,5-dimethyl-；3-ethyl-5,5-dimethyloxolan-2-one
• CAS: 66094-79-9
• 化学式: C₈H₁₄O₂
• 分子量: 142.198
• InChiKey: UFQMONUGYOFSIP-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.7
• 重原子数：
  10
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.88
• 拓扑面积：
  26.3
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  丁酸 、 甲基环氧丙烷 、 四氢呋喃 以63%的产率得到
  参考文献：
  名称：

  FUJITA T.; WATANABE S.; SUGA K.; HOKYO M., J. APPL. CHEM. AND BIOTECHNOL., 1977, 27, NO 10, 539-542

  摘要：

  DOI：

文献信息

• USE IN PERFUMERY AND FLAVORING AND PROCESS FOR THE PREPARATION OF 5,5-DIMETHYL-3-ETHYL-3,4-DIHYDROFURAN-2-ONE
  申请人：Mane Jean

  公开号：US20100111890A1

  公开（公告）日：2010-05-06

  The invention relates to the use of 5,5-dimethyl-3-ethyl-3,4-dihydrofuran-2-one (A), named “Noxolide” by the applicant, as an olfactory agent in perfumery, and also as a food flavouring. The invention also relates to a novel process for the preparation of 5,5-dimethyl-3-ethyl-3,4-dihydrofuran-2-one.

  该发明涉及将5,5-二甲基-3-乙基-3,4-二氢呋喃-2-酮（A），由申请人命名为“诺克斯醛”，作为香水中的嗅觉剂以及食品调味剂的用途。该发明还涉及一种用于制备5,5-二甲基-3-乙基-3,4-二氢呋喃-2-酮的新工艺。
• Fluorine-Containing Sulfonic Acid Salt, Fluorine-Containing Sulfonic Acid Salt Resin, Resist Composition, and Pattern Forming Method Using Same
  申请人：Central Glass Company, Limited

  公开号：US20150198879A1

  公开（公告）日：2015-07-16

  Disclosed is a fluorine-containing sulfonic acid salt resin having a repeating unit represented by the following general formula (3). In the formula, each A independently represents a hydrogen atom, a fluorine atom or a trifluoromethyl group, and n represents an integer of 1-10. W represents a bivalent linking group, R 01 represents a hydrogen atom or a monovalent organic group, and M + represents a monovalent cation. A resist composition containing this resin is further superior in sensitivity, resolution and reproducibility of mask pattern and is capable of forming a pattern with a low LER.

  本公开了一种含氟磺酸盐树脂，其具有以下通用式（3）所代表的重复单元。在该式中，每个A独立地表示氢原子、氟原子或三氟甲基基团，n表示1-10的整数。W表示二价连接基团，R01表示氢原子或一价有机基团，M+表示一价阳离子。含有该树脂的抗蚀组合物在感光性、分辨率和掩膜图案的重现性方面更加优越，并且能够形成具有较低LER的图案。
• UTILISATION EN PARFUMERIE ET AROMATIQUE ET PROCEDE DE PREPARATION DE LA 5, 5-DIMETHYL-3-ETHYL-3, 4-DIHYDRO-FURAN-2-ONE
  申请人：V. Mane Fils

  公开号：EP2079528A2

  公开（公告）日：2009-07-22
• UTILISATION EN PARFUMERIE ET EN AROMATIQUE ET PROCEDE DE PREPARATION DE LA 5,5-DIMETHYL-3-ETHYL-3, 4-DIHYDRO-FURAN-2-ONE
  申请人：V. Mane Fils

  公开号：EP2079528B1

  公开（公告）日：2010-07-21
• Polymers Useful in Photoresist Compositions and Compositions Thereof
  申请人：Padmanaban Munirathna

  公开号：US20080171270A1

  公开（公告）日：2008-07-17

  The present application relates to a polymer having the formula where R 30 , R 31 , R 32 , R 33 , R 40 , R 41 , R 42 , jj, kk, mm, and nn are described herein. The compounds are useful in forming photoresist compositions.