2-oxooxolan-3-yl 2-(trimethylsilylmethyl)acrylate | 677775-93-8

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 内酯类
• 英文名称: 2-oxooxolan-3-yl 2-(trimethylsilylmethyl)acrylate
• 英文别名: (2-Oxooxolan-3-yl) 2-(trimethylsilylmethyl)prop-2-enoate
• CAS: 677775-93-8
• 化学式: C₁₁H₁₈O₄Si
• 分子量: 242.347
• InChiKey: UPCKJIVKIPYVFL-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  333.9±42.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.05±0.1 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.74
• 重原子数：
  16
• 可旋转键数：
  5
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.64
• 拓扑面积：
  52.6
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  α-溴-γ-丁内酯 、 2-(trimethylsilylmethyl)acrylic acid 在 碳酸氢钠 作用下， 以 水 、 N,N-二甲基甲酰胺 为溶剂， 以65%的产率得到2-oxooxolan-3-yl 2-(trimethylsilylmethyl)acrylate
  参考文献：
  名称：

  Polymerizable silicon-containing compound, manufacturing method, polymer, resist composition and patterning process

  摘要：

  具有以下化学式（1）的可聚合硅含有化合物，在其中R1是氢、卤素或一价有机基团，可聚合成聚合物。以该聚合物为基础树脂的抗蚀组合物对高能辐射敏感，在波长小于300纳米时具有优异的敏感性和分辨率，并具有高抗氧等离子体刻蚀性能，因此适用于微细图案化制造VLSI。

  公开号：

  US07192684B2

文献信息

• Polymerizable silicon-containing compound, manufacturing method, polymer, resist composition and patterning process
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US07192684B2

  公开（公告）日：2007-03-20

  Polymerizable silicon-containing compounds of formula (1) wherein R1 is hydrogen, halogen or monovalent organic group are polymerized into polymers. A resist composition comprising the polymer as a base resin is sensitive to high-energy radiation, has excellent sensitivity and resolution at a wavelength of less than 300 nm, and high resistance to oxygen plasma etching, and thus lends itself to micropatterning for the fabrication of VLSIs

  具有以下化学式（1）的可聚合硅含有化合物，在其中R1是氢、卤素或一价有机基团，可聚合成聚合物。以该聚合物为基础树脂的抗蚀组合物对高能辐射敏感，在波长小于300纳米时具有优异的敏感性和分辨率，并具有高抗氧等离子体刻蚀性能，因此适用于微细图案化制造VLSI。