2-[(But-3-en-2-yl)oxy]-4-methyl-1-(propan-2-yl)cyclohexane | 143152-62-9

• 分子结构分类: 有机化合物 - 脂质和类脂质分子 - 异戊烯醇脂质
• 英文名称: 2-[(But-3-en-2-yl)oxy]-4-methyl-1-(propan-2-yl)cyclohexane
• 英文别名: 2-but-3-en-2-yloxy-4-methyl-1-propan-2-ylcyclohexane
• CAS: 143152-62-9
• 化学式: C₁₄H₂₆O
• 分子量: 210.36
• InChiKey: CJCVZQVJUWUICL-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.6
• 重原子数：
  15
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.86
• 拓扑面积：
  9.2
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

文献信息

• Acrylic or methacrylic acid derivatives and polymers obtained therefrom
  申请人：WAKO PURE CHEMICAL INDUSTRIES, LTD

  公开号：EP0875496A1

  公开（公告）日：1998-11-04

  A monomer of the formula: wherein R5, R6 and R7 are independently hydrogen, alkyl, cyano, alkyloxycarbonyl or carbamoyl; Z is a spacer or a direct link; and R is hydroxyalkyl having a protected terminal hydroxy, can produce a polymer useful for producting a resist composition.

  式中的单体： 其中 R5、R6 和 R7 分别独立地为氢、烷基、氰基、烷氧羰基或氨基甲酰基；Z 为间隔物或直接连接；R 为具有保护端羟基的羟烷基。
• Resist composition and its use for forming pattern
  申请人：WAKO PURE CHEMICAL INDUSTRIES, LTD

  公开号：EP0875789A1

  公开（公告）日：1998-11-04

  A resist composition comprising (a) a polymer having repeating units of the formula: wherein R5, R6 and R7 are independently hydrogen, alkyl, cyano, alkyloxycarbonyl or carbamoyl; Z is a spacer or a direct link; and R is hydroxyalkyl having a protected terminal hydroxy, (b) a photoacid generator, and (c) a solvent, is effective for forming patterns using ArF excimer laser beams.

  一种抗蚀剂组合物，包括(a)具有式中重复单元的聚合物： 其中 R5、R6 和 R7 独立地是氢、烷基、氰基、烷氧羰基或氨基甲酰基；Z 是间隔物或直接连接；R 是具有保护端羟基的羟烷基；(b) 光酸发生器；(c) 溶剂，可有效地使用 ArF 准分子激光束形成图案。
• US5856521A
  申请人：——

  公开号：US5856521A

  公开（公告）日：1999-01-05