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9-[5-O-(tert-butyldimethylsilyl)-3-deoxy-3-C-phenylthio-β-D-xylofuranosyl]adenine | 440099-55-8

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
9-[5-O-(tert-butyldimethylsilyl)-3-deoxy-3-C-phenylthio-β-D-xylofuranosyl]adenine
英文别名
——
9-[5-O-(tert-butyldimethylsilyl)-3-deoxy-3-C-phenylthio-β-D-xylofuranosyl]adenine化学式
CAS
440099-55-8
化学式
C22H31N5O3SSi
mdl
——
分子量
473.671
InChiKey
SOVFAIUWSLVGFQ-LAVAIGHBSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    3.85
  • 重原子数:
    32.0
  • 可旋转键数:
    6.0
  • 环数:
    4.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.5
  • 拓扑面积:
    108.31
  • 氢给体数:
    2.0
  • 氢受体数:
    9.0

上下游信息

  • 上游原料
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    9-[5-O-(tert-butyldimethylsilyl)-3-deoxy-3-C-phenylthio-β-D-xylofuranosyl]adenine吡啶4-二甲氨基吡啶敌草腈 作用下, 以 乙腈 为溶剂, 反应 14.0h, 生成 5'-O-(tert-butyldimethylsilyl)-2',3'-didehydro-2',3'-dideoxy-3'-C-(phenylthio)adenosine
    参考文献:
    名称:
    通用的中间体,用于合成3'-取代的2',3'-didehydro-2',3'-dideoxyadenosine(d4A):通过自由基介导的脱磺酰化锡烷基化反应制备3'- C-锡烷基-d4A
    摘要:
    描述了一种用于将三丁基锡烷基引入2',3'-二氢-2',3'-二脱氧腺苷(2:d4A)的3'-位的方法。Bu 3 SnOMe与d4A的烷氧基转移以及随后的阴离子O→ C苯乙烯基转移产生3'-C-三丁基锡烷基-d4A(5),但收率低。另一种途径涉及从9- [2,3-脱水-5- O-(叔丁基二甲基甲硅烷基)-β-d-呋喃呋喃糖基] -N 6-吡咯并丙二胺(14)开始的几种反应:用NaSPh开环,氧化3′- C-苯硫基,除去N 6-新戊酰基,2′- O甲磺酸化,消除甲磺酸和锡自由基介导的3'- C-苯磺酰基取代。该方法的总产率为14的55%。5'-的合成效用ø - (叔丁基二甲基)-3'- Ç -tributylstannyl-D4A(18)如此得到的简要地由一些3'-取代的类似物(制备例示19 - 23:I,BR, Ph,乙烯基和苯基乙炔基)。
    DOI:
    10.1016/s0040-4020(02)00153-9
  • 作为产物:
    参考文献:
    名称:
    通用的中间体,用于合成3'-取代的2',3'-didehydro-2',3'-dideoxyadenosine(d4A):通过自由基介导的脱磺酰化锡烷基化反应制备3'- C-锡烷基-d4A
    摘要:
    描述了一种用于将三丁基锡烷基引入2',3'-二氢-2',3'-二脱氧腺苷(2:d4A)的3'-位的方法。Bu 3 SnOMe与d4A的烷氧基转移以及随后的阴离子O→ C苯乙烯基转移产生3'-C-三丁基锡烷基-d4A(5),但收率低。另一种途径涉及从9- [2,3-脱水-5- O-(叔丁基二甲基甲硅烷基)-β-d-呋喃呋喃糖基] -N 6-吡咯并丙二胺(14)开始的几种反应:用NaSPh开环,氧化3′- C-苯硫基,除去N 6-新戊酰基,2′- O甲磺酸化,消除甲磺酸和锡自由基介导的3'- C-苯磺酰基取代。该方法的总产率为14的55%。5'-的合成效用ø - (叔丁基二甲基)-3'- Ç -tributylstannyl-D4A(18)如此得到的简要地由一些3'-取代的类似物(制备例示19 - 23:I,BR, Ph,乙烯基和苯基乙炔基)。
    DOI:
    10.1016/s0040-4020(02)00153-9
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