【課題】良好なラインエッジラフネスを有するレジストパターンを製造することができる塩、酸発生剤及びこれを含むレジスト組成物の提供。【解決手段】式(I)で表されるカルボン酸塩、カルボン酸発生剤及びレジスト組成物。[式中、R1a及びR2aは、H又はFを有してもよい炭化水素基等;R3aは、H、又はR1aとR2aとR3aとが互いに結合し、F又はアルキル基を有してもよい環等;R4及びR5は、ハロゲン原子、フッ化アルキル基等;m4は0〜4の整数;m5は0〜5の整数;X0は、炭化水素基を表し、該基に含まれる−CH2−は、−O−、−S−等に置き換わってもよい。]【選択図】なし
【问题】提供能够制造具有良好线边粗糙度的光刻胶图案的盐、酸发生剂以及含有它们的光刻胶组成物。
【解决方案】一种由式(I)表示的
羧酸盐、
羧酸发生剂和光刻胶组成物。[在公式中,R1a和R2a是具有H或F的碳氢基等; R3a是H或R1a和R2a和R3a相互结合的环等,也可以具有F或烷基; R4和R5是卤原子,
氟化烷基等; m4是0-4的整数; m5是0-5的整数; X0表示碳氢基,其中包含的-
CH2-可以被-O-,-S-等替代。]【选择图】无