4-(1-methylcyclohexyl)butan-2-one | 73739-88-5

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: 4-(1-methylcyclohexyl)butan-2-one
• CAS: 73739-88-5
• 化学式: C₁₁H₂₀O
• 分子量: 168.279
• InChiKey: NOAZLOZZMPKVKL-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  215.2±8.0 °C(Predicted)
• 密度：
  0.873±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.4
• 重原子数：
  12
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.91
• 拓扑面积：
  17.1
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  1-甲基环己醇 在 4-二甲氨基吡啶 、 cesium hydroxide 、 Ir[dF(CF₃)ppy]₂(dtbbpy)PF₆ 、 三乙胺 作用下， 以 四氢呋喃 、 乙二醇二甲醚 、 二氯甲烷 、 水 、 N,N-二甲基甲酰胺 为溶剂， 反应 25.08h， 生成 4-(1-methylcyclohexyl)butan-2-one
  参考文献：
  名称：

  草酸盐作为可见光光氧化还原催化中醇的活化基团：通过氧化还原-中性片段偶联形成四元中心

  摘要：

  草酸烷基酯是新型的实验室稳定的醇活化基团，用于在可见光光氧化还原条件下产生自由基。使用这些前体，实现了叔醇和仲醇与缺电子烯烃的首次净氧化还原中性偶联。

  DOI：

  10.1021/jacs.5b07678

文献信息

• Decarboxylative Alkyl Coupling Promoted by NADH and Blue Light
  作者：Rajdip Chowdhury、Zhunzhun Yu、My Linh Tong、Stefanie V. Kohlhepp、Xiang Yin、Abraham Mendoza

  DOI：10.1021/jacs.0c09678

  日期：2020.11.25

  Photoexcited dihydronicotinamides like NADH and analogues have been found to generate alkyl radicals upon reductive decarboxylation of redox-active esters without auxiliary photocatalysts. This principle allowed aliphatic photocoupling between redox-active carboxylate derivatives and electron-poor olefins, displaying surprising water and air-tolerance and unusually high coupling rates in dilute conditions

  已经发现光激发的二氢烟酰胺（如 NADH 和类似物）在没有辅助光催化剂的情况下，在氧化还原活性酯的还原脱羧时产生烷基自由基。这一原理允许氧化还原活性羧酸盐衍生物和缺电子烯烃之间的脂肪族光耦合，显示出令人惊讶的防水和空气耐受性以及在稀释条件下异常高的耦合率。展示了在其他羧酸存在下反应的正交性及其在 DNA 功能化中的效用，特别是将可见光与 NADH（生命普遍存在的还原剂）结合使用。
• Direct Construction of Quaternary Carbons from Tertiary Alcohols via Photoredox-Catalyzed Fragmentation of <i>tert</i>-Alkyl <i>N</i>-Phthalimidoyl Oxalates
  作者：Gregory L. Lackner、Kyle W. Quasdorf、Larry E. Overman

  DOI：10.1021/ja408971t

  日期：2013.10.16

  A convenient method for the direct construction of quaternary carbons from tertiary alcohols by visible-light photoredox coupling of tert-alkyl N-phthalimidoyl oxalate intermediates with electron-deficient alkenes is reported.

  报道了一种通过可见光光氧化还原偶联由叔醇直接构建季碳的简便方法，N-邻苯二甲酰草酸叔烷基中间体与缺电子烯烃。
• Fragment Coupling and the Construction of Quaternary Carbons Using Tertiary Radicals Generated From<i>tert</i>-Alkyl<i>N</i>-Phthalimidoyl Oxalates By Visible-Light Photocatalysis
  作者：Gregory L. Lackner、Kyle W. Quasdorf、Gerald Pratsch、Larry E. Overman

  DOI：10.1021/acs.joc.5b00794

  日期：2015.6.19

  visible-light, catalytic Ru(bpy)3(PF6)2, and a reductant fragments to form the corresponding tertiary carbon radical. In addition to reductive coupling with alkenes, substitution reactions of tertiary radicals with allylic and vinylic halides is described. A mechanism for the generation of tertiary carbon radicals from tert-alkyl N-phthalimidoyl oxalates is proposed that is based on earlier pioneering investigations

  叔碳自由基与烯烃受体的偶联是结合复杂碳片段并形成新季碳的尚未开发的策略。描述了从叔醇生成亲核叔自由基并在片段偶联反应中利用这些中间体的新方法的范围和局限性。该方法首先将叔醇酰化，得到N-邻苯二甲酰亚氨基草酸叔烷基酯，在可见光催化下Ru(bpy)3(PF6)2和还原剂片段存在，生成相应的叔醇碳自由基。除了与烯烃的还原偶联外，还描述了叔自由基与烯丙基和乙烯基卤化物的取代反应。基于 Okada 和 Barton 的早期开创性研究，提出了一种由 N-邻苯二甲酰亚氨基草酸叔烷基酯生成叔碳自由基的机制。氘标记和竞争实验表明，N-邻苯二甲酰亚氨基草酸叔烷基酯与缺电子烯烃的还原自由基偶联是通过氢原子转移终止的。
• A Practical and Catalytic Reductive Olefin Coupling
  作者：Julian C. Lo、Yuki Yabe、Phil S. Baran

  DOI：10.1021/ja4117632

  日期：2014.1.29

  A redox-economic method for the direct coupling of olefins that uses an inexpensive iron catalyst and a silane reducing agent is reported. Thus, unactivated olefins can be joined directly to electron-deficient olefins in both intra- and intermolecular settings to generate hindered bicyclic systems, vicinal quaternary centers, and even cyclopropanes in good yield. The reaction is not sensitive to oxygen

  报道了一种使用廉价铁催化剂和硅烷还原剂直接偶联烯烃的氧化还原经济方法。因此，未活化的烯烃可以在分子内和分子间环境中直接与缺电子烯烃连接，以产生高产率的受阻双环系统、邻季中心，甚至环丙烷。该反应对氧气或水分不敏感，并且已在克级规模上进行。最重要的是，它允许访问使用其他方法难以或可能无法访问的许多化合物。
• Composition for forming a coating type BPSG film, substrate formed a film by said composition, and patterning process using said composition
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：EP2826826A1

  公开（公告）日：2015-01-21

  The present invention provides a composition for forming a coating type BPSG film, which comprises: one or more structures comprising a silicic acid represented by the following general formula (1) as a skeletal structure, one or more structures comprising a phosphoric acid represented by the following general formula (2) as a skeletal structure and one or more structures comprising a boric acid represented by the following general formula (3) as a skeletal structure. There can be provided a composition for forming a coating type BPSG film which is excellent in adhesiveness in fine pattern, can be easily wet etched by a peeling solution which does not cause any damage to the semiconductor apparatus substrate, the coating type organic film or the CVD film mainly comprising carbon which are necessary in the patterning process, and can suppress generation of particles by forming it in the coating process.

  本发明提供了一种用于形成涂层型 BPSG 薄膜的组合物，该组合物包括：由以下通式 (1) 所代表的硅酸作为骨架结构的一种或多种结构、由以下通式 (2) 所代表的磷酸作为骨架结构的一种或多种结构以及由以下通式 (3) 所代表的硼酸作为骨架结构的一种或多种结构。本发明可提供一种用于形成涂层型 BPSG 薄膜的组合物，该组合物在精细图案方面具有优异的粘附性，可通过剥离溶液轻松进行湿蚀刻，不会对半导体设备基板、涂层型有机薄膜或图案化过程中所需的主要由碳构成的 CVD 薄膜造成任何损害，并且通过在涂层过程中形成该组合物，可抑制颗粒的生成。