4-(苯磺酰氧基)苯甲酸 | 7507-41-7

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 中文名称: 4-(苯磺酰氧基)苯甲酸
• 英文名称: 4-benzenesulfonyloxy-benzoic acid
• 英文别名: 4-Benzolsulfonyloxy-benzoesaeure；4-benzenesulfonyloxybenzoic acid；4-(Benzenesulfonyloxy)benzoic acid
• CAS: 7507-41-7
• 化学式: C₁₃H₁₀O₅S
• 分子量: 278.285
• InChiKey: ORTHAADHPFWMEZ-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  170-171.5 °C
• 沸点：
  488.7±37.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.422±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.6
• 重原子数：
  19
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  89
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  5

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  4-(苯磺酰氧基)苯甲酸 在 ferric sulfate heptahydrate 、 四丁基溴化铵 、 铁粉 、 N,N-二甲基甲酰胺 氯化亚砜 、 四丁基溴化铵 、 三氯化硼 、 sodium hydroxide 作用下， 以 二氯甲烷 、 水 、 甲苯 为溶剂， 反应 80.33h， 生成 盐酸雷洛昔芬
  参考文献：
  名称：

  [EN] A PROCESS FOR PREPARING BENZO[B]THIOPHENE DERIVATIVES
  [FR] PROCÉDÉ DE PRÉPARATION DE DÉRIVÉS DE BENZO(B)THIOPHÈNE

  摘要：

  本发明一般涉及有机化学领域，特别是关于制备苯并[b]噻吩衍生物的。这些苯并[b]噻吩衍生物可用作合成药物活性剂（如瑞洛西芬或其衍生物）的中间体。

  公开号：

  WO2011047877A1
• 作为产物：
  描述：

  ethyl 4-(phenylsulfonate)benzoate 在 甲酸 、 硫酸 作用下， 以 溶剂黄146 为溶剂， 以93%的产率得到4-(苯磺酰氧基)苯甲酸
  参考文献：
  名称：

  [EN] A PROCESS FOR PREPARING BENZO[B]THIOPHENE DERIVATIVES
  [FR] PROCÉDÉ DE PRÉPARATION DE DÉRIVÉS DE BENZO(B)THIOPHÈNE

  摘要：

  本发明一般涉及有机化学领域，特别是关于制备苯并[b]噻吩衍生物的。这些苯并[b]噻吩衍生物可用作合成药物活性剂（如瑞洛西芬或其衍生物）的中间体。

  公开号：

  WO2011047877A1

文献信息

• Resist composition and patterning process
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US10222696B2

  公开（公告）日：2019-03-05

  A resist composition comprising a base polymer and a biguanide salt compound offers a high dissolution contrast, minimal LWR, and dimensional stability on PPD.

  由基质聚合物和双胍盐化合物组成的抗蚀剂组合物在 PPD 上具有较高的溶解对比度、最小的 LWR 和尺寸稳定性。
• Active-light-sensitive or radiation-sensitive resin composition, active-light-sensitive or radiation-sensitive film, pattern forming method, and method for manufacturing electronic device
  申请人：FUJIFILM Corporation

  公开号：US10423068B2

  公开（公告）日：2019-09-24

  Provided are an active-light-sensitive or radiation-sensitive resin composition in which the sensitivity is excellent, and an active-light-sensitive or radiation-sensitive film, a pattern forming method, and a method for manufacturing an electronic device, each using the active-light-sensitive or radiation-sensitive resin composition. The active-light-sensitive or radiation-sensitive resin composition contains a resin (Ab) whose polarity is changed by the action of an acid, and a compound that generates an acid upon irradiation with active light or radiation, in which the resin (Ab) includes a metal ion, and the metal type of the metal ion is at least one of metal types belonging to Groups 1 to 10 and 13 to 16 (here, excluding Mg and Cs).

  本发明提供了一种灵敏度极佳的主动感光或辐射敏感树脂组合物，以及使用该主动感光或辐射敏感树脂组合物的主动感光或辐射敏感胶片、图案形成方法和电子设备制造方法。主动感光或辐射敏感树脂组合物包含一种在酸作用下极性改变的树脂（Ab）和一种在主动光或辐射照射下产生酸的化合物，其中树脂（Ab）包括金属离子，金属离子的金属类型至少是属于第 1 至 10 组和第 13 至 16 组（此处不包括 Mg 和 Cs）的金属类型之一。
• DE162322
  申请人：——

  公开号：——

  公开（公告）日：——
• A process for preparing benzo[b]thiophene derivatives
  申请人：Hexal AG

  公开号：EP2314581B1

  公开（公告）日：2012-07-25
• Arylsulfonic Esters of Bromophenols in Grignard Preparations¹
  作者：D. C. Morrison

  DOI：10.1021/ja01133a519

  日期：1952.7