4-氧代-1-金刚烷羰基氯化物 | 675200-37-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 中文名称: 4-氧代-1-金刚烷羰基氯化物
• 英文名称: 4-ketoadamantane acid chloride
• 英文别名: 4-oxoadamantane carbonyl chloride；4-ketoadamantane carbonyl chloride；4-adamantanone-1-carbonyl chloride；4-Oxotricyclo[3.3.1.1~3,7~]decane-1-carbonyl chloride；4-oxoadamantane-1-carbonyl chloride
• CAS: 675200-37-0
• 化学式: C₁₁H₁₃ClO₂
• 分子量: 212.676
• InChiKey: DDRWVKICHJRPMM-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  308.5±35.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.356±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.7
• 重原子数：
  14
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.82
• 拓扑面积：
  34.1
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1,3-金刚烷二醇 、 4-氧代-1-金刚烷羰基氯化物 在 N-甲基哌啶 、 4-二甲氨基吡啶 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 反应 15.5h， 生成
  参考文献：
  名称：

  化合物、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

  摘要：

  提供使用于制备具有较少缺陷且形状良好的光刻胶图案的化合物、树脂和光刻胶组合物。所述化合物由式（I）表示。[R1代表卤素取代/非取代的C1-6烷基，或卤素原子；A1代表单键或*-A2-CO-O-；*代表与氧原子的结合手；A2代表C1-6的烷基；W1代表取代/非取代的C4-18的二价脂环烃基；W2代表含有C4-18的一价脂环烃基的烃基；W1和W2的脂环烃基的-CH2-可以被替换为-O-或-CO-；W1偏好为取代/非取代的金刚烷基]【选择图】无

  公开号：

  JP2016117711A
• 作为产物：
  描述：

  2-金刚烷酮-5-甲酸 在 草酰氯 、 N,N-二甲基甲酰胺 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 反应 2.0h， 生成 4-氧代-1-金刚烷羰基氯化物
  参考文献：
  名称：

  [EN] AMIDO COMPOUNDS AND THEIR USE AS PHARMACEUTICALS
  [FR] COMPOSES AMIDO ET LEUR UTILISATION COMME PRODUITS PHARMACEUTIQUES

  摘要：

  公开号：

  WO2006020598A3

文献信息

• Substituted 2-phenyl-benzimidazole derivatives: novel compounds that suppress key markers of allergy
  作者：Mark L. Richards、Shirley Cruz Lio、Anjana Sinha、Homayon Banie、Richard J. Thomas、Michael Major、Mark Tanji、Jagadish C. Sircar

  DOI：10.1016/j.ejmech.2006.03.014

  日期：2006.8

  identified and extended a novel family of 2-(substituted phenyl)-benzimidazole inhibitors of IgE response. Pharmacological activity depends on an intact phenylbenzimidazole-bis-amide backbone, and is optimized by the presence of lipophilic terminal groups composed of either bis cycloalkyl or combinations of aliphatic and halogen-substituted aromatic groups. These compounds also inhibit IL-4 and IL-5 responses

  传统上，过敏和哮喘的药物治疗重点放在过敏级联反应的效应分子上，而忽略了在其发展中起早期作用的靶标。由于IgE对特应性疾病的扩展至关重要，因此我们确定并扩展了IgE反应的2-（取代苯基）-苯并咪唑抑制剂的新家族。药理活性取决于完整的苯基苯并咪唑-双酰胺主链，并通过存在由双环烷基或脂族和卤素取代的芳族基团组成的亲脂性端基来优化药理活性。这些化合物还抑制T细胞中的IL-4和IL-5应答以及B细胞上的CD23表达，其效力与其抑制IgE相似。
• NON-IONIC COMPOUND, RESIN, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN
  申请人：SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED

  公开号：US20160145186A1

  公开（公告）日：2016-05-26

  A compound which is non-ionic compound, the compound has a group represented by formula (Ia): wherein R 2 represents a group having a C 3 to C 18 alicyclic hydrocarbon group where a methylene group may be replaced by an oxygen atom or a carbonyl group, Rf 1 and Rf 2 each independently represent a C 1 to C 4 perfluoroalkyl group, and * represents a binding site.

  一种非离子化合物，该化合物具有由式(Ia)表示的基团：其中R2代表具有C3到C18脂环烃基团的基团，其中亚甲基基团可以被氧原子或羰基取代，Rf1和Rf2分别独立地代表C1到C4全氟烷基基团，*代表一个结合位点。
• Novel photoacid generators, resist compositions, and patterning process
  申请人：Ohsawa Youichi

  公开号：US20080085469A1

  公开（公告）日：2008-04-10

  Photoacid generators generate sulfonic acids of formula (1a) upon exposure to high-energy radiation. RC(═O)R 1 —COOCH(CF 3 )CF 2 SO 3 − H + (1a) R is hydroxyl, alkyl, aryl, hetero-aryl, alkoxy, aryloxy or hetero-aryloxy, R 1 is a divalent organic group which may have a heteroatom (O, N or S) containing substituent, or R 1 may form a cyclic structure with R. The photoacid generators are compatible with resins and can control acid diffusion and are thus suited for use in chemically amplified resist compositions.

  光酸发生剂在高能辐射作用下生成式（1a）的磺酸。RC(═O)R1—COOCH(CF3)CF2SO3−H+(1a)中，R为羟基、烷基、芳基、杂芳基、烷氧基、芳氧基或杂芳氧基，R1为可能含有杂原子（O、N或S）取代基的二价有机基团，或R1可与R形成环状结构。这些光酸发生剂与树脂相容，可以控制酸的扩散，因此适用于化学增感抗蚀组合物中的使用。
• Phenyl-aza-benzimidazole compounds for modulating IgE and inhibiting cellular proliferation
  申请人：——

  公开号：US20040116466A1

  公开（公告）日：2004-06-17

  The present invention is directed to small molecule inhibitors of the IgE response to allergens, which are useful in the treatment of allergy and/or asthma or any diseases where IgE is pathogenic. This invention also relates to phenyl-aza-benzimidazole molecules that are cellular proliferation inhibitors and thus are useful as anticancer agents. This invention further relates to small molecules which suppress cytokines and leukocytes.

  本发明涉及针对过敏原IgE反应的小分子抑制剂，该抑制剂在过敏和/或哮喘的治疗中很有用，或者在IgE是致病因素的任何疾病中也很有用。该发明还涉及苯基-氮杂苯并咪唑分子，这些分子是细胞增殖抑制剂，因此可用作抗癌药物。此外，该发明还涉及抑制细胞因子和白细胞的小分子。
• Positive resist compositions and patterning process
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US07993811B2

  公开（公告）日：2011-08-09

  A positive resist composition comprises (A) a resin component which becomes soluble in an alkaline developer under the action of an acid and (B) an acid generator. The resin (A) is a polymer comprising specific recurring units, represented by formula (1). The acid generator (B) is a specific sulfonium salt compound. When processed by lithography, the composition is improved in resolution and forms a pattern with a satisfactory mask fidelity and a minimal LER. Herein R1 is H or methyl, R2 is an acid labile group, R3 is CO2R4 when X is CH2, R3 is H or CO2R4 when X is O, R4 is a monovalent C1-C20 hydrocarbon group, and m is 1 or 2.

  一种正性光阻组合物包括(A)树脂组分，该组分在酸的作用下变得可溶于碱性显影剂，并且(B)酸发生剂。树脂(A)是一种聚合物，包含特定的重复单元，由公式(1)表示。酸发生剂(B)是一种特定的磺酸盐化合物。当通过光刻处理时，该组合物在分辨率方面得到改善，并形成具有令人满意的掩模保真度和最小LER的图案。其中，R1为H或甲基，R2为酸不稳定基团，当X为CH2时，R3为CO2R4，当X为O时，R3为H或CO2R4，R4为单价的C1-C20烃基，m为1或2。