4-甲基-5,5,5-三氟戊-1-烯-4-醇 | 73893-33-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 中文名称: 4-甲基-5,5,5-三氟戊-1-烯-4-醇
• 英文名称: 2-Trifluoromethylpent-4-en-2-ol
• 英文别名: 1,1,1-trifluoro-2-methylpent-4-en-2-ol；4-Methyl-5,5,5-trifluoropent-1-en-4-ol
• CAS: 73893-33-1
• 化学式: C₆H₉F₃O
• mdl: MFCD07784257
• 分子量: 154.132
• InChiKey: LKWZHVSATIWGLH-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  108-110 °C
• 密度：
  1.128±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2
• 重原子数：
  10
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.666
• 拓扑面积：
  20.2
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  4

安全信息

• 危险品标志：
  Xi

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  4-甲基-5,5,5-三氟戊-1-烯-4-醇 、 原甲酸三甲酯 在 盐酸 、 二甲基硫 、 臭氧 作用下， 生成 3-Hydroxy-3-trifluorobutyraldehyde Dimethyl acetal
  参考文献：
  名称：

  氟化色烯。6,7-二甲氧基-2-甲基-2-三氟甲基-2 H-色烯的合成

  摘要：

  由3,4-二甲氧基苯酚和1,1,1-三氟制备天然昆虫抗幼激素6,7-二甲氧基-2,2-二甲基-2 H-色烯（前茂二烯）的标题化合物的三氟甲基类似物描述了-4，4-二甲氧基-2-甲氧基-2-甲基-2-丁基甲磺酸酯。

  DOI：

  10.1002/jhet.5570170143
• 作为产物：
  描述：

  甲基烯丙基酮 、 三氟碘甲烷 在 锌 作用下， 以 N,N-二甲基甲酰胺 为溶剂， 反应 1.0h， 以45%的产率得到4-甲基-5,5,5-三氟戊-1-烯-4-醇
  参考文献：
  名称：

  在超声波辐照下用三氟甲基碘化锌对羰基化合物进行三氟甲基化

  摘要：

  由三氟甲基碘与超声分散的锌制备的三氟甲基碘化锌对羰基化合物的三氟甲基化顺利进行，以良好的收率得到相应的α-三氟甲基甲醇。

  DOI：

  10.1246/cl.1981.1679

文献信息

• Ultrasound-promoted selective perfluoroalkylation on the desired position of organic molecules
  作者：Tomoya Kitazume、Nobuo Ishikawa

  DOI：10.1021/ja00304a026

  日期：1985.9

  Reaction d'halogenopolyfluoroalcanes et de poudre de zinc avec divers aldehydes, cetones, derives du styrene et du propene. Induction asymetrique avec des enamines optiquement actives en presence de poudre de zinc et CpTiCl 2

  反应 d'halogenopolyfluoroalcanes et de poudre de 锌 avec divers 醛，丙酮，衍生苯乙烯和丙烯。感应不对称 avec des enamines optiquement actives en poudre de Zinc et CpTiCl 2
• Allylboration of some ketones and aldehydes with 2-allyl-1,2-oxaborolane. Isolation of their intermediate adducts and synthesis of homoallylic alcohols
  作者：Weike Zhou、Shaofang Liang、Su Yu、Weiming Luo

  DOI：10.1016/0022-328x(93)83165-r

  日期：1993.6

  reactive allylborane. This cyclic borinate ester II is a BCCO-type organoborane and can be used as a novel allylborating reagent. As is usual with allylboranes, II can also add smoothly to various ketones or aldehydes, and when followed by deboronation with diethanolamine gives the corresponding homoallylic alcohols IV. The adducts III, formed via a six-centre cyclic mechanism and allylic rearrangement, have

  通过2-烯丙氧基-1,2-氧杂硼烷（I）与烯丙基溴化镁在醚中的反应制备的2-烯丙基1,2-氧杂硼烷（II）是极活泼的烯丙基硼烷。该环状硼酸酯II是BCCO型有机硼烷，可以用作新型的烯丙基硼酸酯化试剂。与烯丙基硼烷一样，II也可以平滑地添加到各种酮或醛中，然后再用二乙醇胺脱硼，得到相应的均丙醇IV。通过六中心循环机制和烯丙基重排形成的加合物III已被分离并鉴定为2-烯氧基-1，2-氧杂硼烷。
• Substituted norbornene fluoroacrylate copolymers and use thereof lithographic photoresist compositions
  申请人：——

  公开号：US20020102490A1

  公开（公告）日：2002-08-01

  Copolymers prepared by radical polymerization of a substituted norbomene monomer and a fluoromethacrylic acid, fluoromethacrylonitrile, or fluoromethacrylate comonomer are provided. The polymers are useful in lithographic phtoresist compositions, particularly chemical amplification resists. In a preferred embodiment, the polymers are substantially transparent to deep ultraviolet (DUV) radiation, i.e., radiation of a wavelength less than 250 nm, including 157 nm, 193 nm and 248 nm radiation, and are thus useful in DUV lithographic photoresist compositions. A process for using the composition to generate resist images on a substrate is also provided, i.e., in the manufacture of integrated circuits or the like.

  本发明提供了由取代的诺博门单体和氟甲基丙烯酸、氟甲基丙烯腈或氟甲基丙烯酸酯共聚物通过自由基聚合制备而成。这些聚合物在光刻光阻组分中非常有用，特别是在化学增强光刻光阻中。在首选实施方式中，这些聚合物对深紫外（DUV）辐射，即波长小于250 nm的辐射，包括157 nm、193 nm和248 nm辐射，具有较高的透明度，因此在DUV光刻光阻组分中非常有用。本发明还提供了一种使用该组合物在基板上生成光阻图像的方法，即在集成电路或类似器件的制造中。
• Organic Compounds
  申请人：Barnes David

  公开号：US20080262050A1

  公开（公告）日：2008-10-23

  Compounds of the formula are inhibitors of protein tyrosine phosphatases (PTPases) and, thus, may be employed for the treatment of conditions mediated by PTPase activity. The compounds of the present invention may also be employed as inhibitors of other enzymes characterized with a phosphotyrosine binding region such as the SH2 domain. The compounds of formula (I) may be employed for prevention and/or treatment of insulin resistance associated with obesity, glucose intolerance, diabetes mellitus, hypertension and ischemic diseases of the large and small blood vessels, conditions that accompany type-2 diabetes, including hyperlipidemia, hypertriglyceridemia, atherosclerosis, vascular restenosis, irritable bowel syndrome, pancreatitis, adipose cell tumors and carcinomas such as liposarcoma, dyslipidemia, and other disorders where insulin resistance is indicated. In addition, the compounds of the present invention may be employed to treat and/or prevent cancer, osteoporosis, neurodegenerative and infectious diseases, and diseases involving inflammation and the immune system.

  式(I)的化合物是蛋白酪氨酸磷酸酶（PTPases）的抑制剂，因此可用于治疗由PTPase活性介导的疾病。本发明的化合物也可用作其他酶的抑制剂，这些酶具有磷酸酪氨酸结合区域，例如SH2结构域。式(I)的化合物可用于预防和/或治疗与肥胖、葡萄糖不耐症、糖尿病、高血压和大、小血管缺血性疾病相关的胰岛素抵抗。这些疾病包括2型糖尿病的伴随症状，如高脂血症、高三酰甘油血症、动脉粥样硬化、血管再狭窄、肠易激综合征、胰腺炎、脂肪细胞肿瘤和脂肪肉瘤等癌症，以及脂质代谢紊乱和其他胰岛素抵抗相关的疾病。此外，本发明的化合物可用于治疗和/或预防癌症、骨质疏松症、神经退行性和传染性疾病，以及涉及炎症和免疫系统的疾病。
• FLUORINE-CONTAINING SILICON COMPOUND, METHOD FOR PRODUCING SAME, AND METHOD FOR PRODUCING FLUORINE-CONTAINING SILICON RESIN
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

  公开号：US20160229960A1

  公开（公告）日：2016-08-11

  The present invention provides a fluorine-containing silicon compound represented by the general formula (1), wherein each R 1 independently represents a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms; each R 2 independently represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms; and n is an integer satisfying 0≦n≦2. There can be provided a fluorine-containing silicon compound having good storage stability and useful as a raw material of a composition for forming a silicon-containing intermediate film and a silicon-containing photoresist composition used for a fine processing in the manufacturing process of a semiconductor device.

  本发明提供了一种含氟硅化合物，其通式表示为（1），其中每个R1独立地表示具有1至6个碳原子的碳氢基团；每个R2独立地表示氢原子或具有1至6个碳原子的碳氢基团；n是满足0≦n≦2的整数。可以提供一种具有良好储存稳定性的含氟硅化合物，用作形成硅中间膜和硅光刻胶组合物的原料，在半导体器件制造过程中进行精细加工。