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4-羟基-2-甲基-5-(1-甲基乙基)-苯磺酸 | 96-68-4

中文名称
4-羟基-2-甲基-5-(1-甲基乙基)-苯磺酸
中文别名
——
英文名称
thymol sulfonic acid
英文别名
4-hydroxy-5-isopropyl-2-methyl-benzenesulfonic acid;4-Hydroxy-5-isopropyl-2-methyl-benzolsulfonsaeure;Thymol-sulfonsaeure-(4);5-hydroxy-p-cymene-2-sulfonic acid;4-hydroxy-2-methyl-5-(1-methylethyl)-benzenesulfonic acid;5-Hydroxy-p-cymene-2-sulphonic acid;4-hydroxy-2-methyl-5-propan-2-ylbenzenesulfonic acid
4-羟基-2-甲基-5-(1-甲基乙基)-苯磺酸化学式
CAS
96-68-4
化学式
C10H14O4S
mdl
——
分子量
230.285
InChiKey
LYWNNXMNOSKLHY-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

物化性质

  • 密度:
    1.301±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    1.8
  • 重原子数:
    15
  • 可旋转键数:
    2
  • 环数:
    1.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.4
  • 拓扑面积:
    83
  • 氢给体数:
    2
  • 氢受体数:
    4

安全信息

  • 海关编码:
    2908999090

SDS

SDS:864ff036a9f1c2d5241c31415b3f189d
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上下游信息

  • 上游原料
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    4-羟基-2-甲基-5-(1-甲基乙基)-苯磺酸 在 potassium hydroxide 作用下, 以 甲醇 为溶剂, 以92%的产率得到thymol sulfonate potassium salt
    参考文献:
    名称:
    ESSENTIAL OIL DERIVATIVES, THEIR PREPARATION AND USES
    摘要:
    描述了一些衍生自精油的化合物,经过官能化以提高其抗菌、抗原虫和抗病毒活性,降低其挥发性并改变其在特定溶剂中(尤其是水中)的溶解性。此外,相较于起始精油,这些化合物的口感也得到了显著改善。这些化合物被设计用作食品中的食品成分,用于营养目的和额外营养(作为益生元)目的,无论是在人类还是动物饲料行业中,即使这些化合物也可以成功用于化妆品、洗涤剂和一般微生物负载控制。
    公开号:
    US20180265804A1
  • 作为产物:
    描述:
    百里酚硫酸 作用下, 反应 2.0h, 生成 4-羟基-2-甲基-5-(1-甲基乙基)-苯磺酸
    参考文献:
    名称:
    ESSENTIAL OIL DERIVATIVES, THEIR PREPARATION AND USES
    摘要:
    描述了一些衍生自精油的化合物,经过官能化以提高其抗菌、抗原虫和抗病毒活性,降低其挥发性并改变其在特定溶剂中(尤其是水中)的溶解性。此外,相较于起始精油,这些化合物的口感也得到了显著改善。这些化合物被设计用作食品中的食品成分,用于营养目的和额外营养(作为益生元)目的,无论是在人类还是动物饲料行业中,即使这些化合物也可以成功用于化妆品、洗涤剂和一般微生物负载控制。
    公开号:
    US20180265804A1
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文献信息

  • Synthetic Clay Excels in <sup>90</sup>Sr Removal
    作者:Sridhar Komarneni、Tatsuya Kodama、William J. Paulus、C. Carlson
    DOI:10.1557/jmr.2000.0182
    日期:2000.6
    ground water from Hanford site, and fundamental studies of 2Nasup +}yields}Srsup 2+} exchange equilibria revealed that a synthetic clay is extremely selective for sup 90}Sr with a high capacity for uptake. Comparative studies with existing Sr selective ion exchangers clearly revealed that the present synthetic clay exhibited the best performance for sup 90}Sr removal from actual ground water collected
    对来自汉福德场地的实际地下水进行的测试以及对 2Na sup +}产量}Srsup 2+} 交换平衡的基础研究表明,合成粘土对 sup 90}Sr 具有极高的选择性,具有很高的吸收能力。与现有 Sr 选择性离子交换剂的比较研究清楚地表明,本合成粘土表现出从汉福德三个不同位置收集的实际地下水中去除 sup 90}Sr 的最佳性能。这种新型 Sr 离子筛有望用于在意外释放和 sup 90}Sr 污染后净化环境。(c) 2000 材料研究学会。
  • ONIUM SALT COMPOUND, CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION AND PATTERNING PROCESS
    申请人:Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
    公开号:US20210179554A1
    公开(公告)日:2021-06-17
    An onium salt having formula (1) serving as an acid diffusion inhibitor and a chemically amplified resist composition comprising the acid diffusion inhibitor are provided. When processed by lithography, the resist composition exhibits a high sensitivity, and excellent lithography performance factors such as CDU and LWR.
    提供一种具有化学式(1)的醇铵盐,用作酸扩散抑制剂,以及包括该酸扩散抑制剂的化学增强型抗蚀剂组合物。当通过光刻加工时,该抗蚀剂组合物表现出高灵敏度和优异的光刻性能因素,例如CDU和LWR。
  • RESIST COMPOSITION AND PATTERNING PROCESS
    申请人:Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
    公开号:US20200249571A1
    公开(公告)日:2020-08-06
    A resist composition comprising a sulfonium salt having formula (1) as PAG, a base polymer, and an organic solvent, when processed by lithography, has light transmittance, acid diffusion suppressing effect, and excellent lithography performance factors such as DOF, LWR and MEF. A lithography process for forming a resist pattern from the composition is also provided.
    一种抗蚀组合物,包括具有公式(1)作为PAG的磺酸盐、基础聚合物和有机溶剂。在光刻工艺中加工时,该组合物具有光透过率、抑制酸扩散效果和优异的光刻性能因素,例如DOF、LWR和MEF。还提供了一种从该组合物形成抗蚀图案的光刻工艺。
  • ONIUM SALT, CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION AND PATTERNING PROCESS
    申请人:Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
    公开号:US20220127225A1
    公开(公告)日:2022-04-28
    An onium salt having formula (1) serving as an acid diffusion inhibitor and a chemically amplified resist composition comprising the acid diffusion inhibitor are provided. When processed by lithography, the resist composition forms a pattern having minimal defects and excellent lithography performance factors such as CDU, LWR and DOF.
    提供一种化学式为(1)的盐类,作为酸扩散抑制剂,并提供一种化学增强型光刻胶组合物,其中包括该酸扩散抑制剂。当通过光刻技术进行加工时,该光刻胶组合物形成的图案具有最小的缺陷和出色的光刻性能因子,如CDU、LWR和DOF。
  • COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING ELECTROACTIVE POLYMER SOLUTION OR COATING COMPRISING CONJUGATED HETEROAROMATIC POLYMER, ELECTROACTIVE POLYMER SOLUTION, OBJECTS COMPRISING THE ELECTROACTIVE COATING, AND SOLID ELECTROLYTIC CAPACITOR AND METHOD FOR FABRICATING THE SAME
    申请人:Polym Technology Corporation
    公开号:EP3375826A1
    公开(公告)日:2018-09-19
    A composition for forming an electroactive coating is described, including an acid as a polymerization catalyst, at least one functional component, and at least one compound of formula (1) as a monomer: wherein X is selected from S, O, Se, Te, PR2 and NR2, Y is hydrogen (H) or a precursor of a good leaving group Y- whose conjugate acid (HY) has a pKa of less than 45, Z is hydrogen (H), silyl, or a good leaving group whose conjugate acid (HY) has a pKa of less than 45, b is 0, 1 or 2, each R1 is a substituent, and the at least one compound of formula (1) includes at least one compound of formula (1) with Z=H and Y≠H.
    描述了一种用于形成电活性涂层的组合物,包括一种作为聚合催化剂的酸、至少一种功能性成分和至少一种作为单体的式 (1) 化合物: 其中 X 选自 S、O、Se、Te、PR2 和 NR2,Y 是氢(H)或共轭酸(HY)的 pKa 小于 45 的良好离去基团 Y- 的前体,Z 是氢(H)、硅烷基、或其共轭酸 (HY) 的 pKa 小于 45 的良好离去基团,b 为 0、1 或 2,每个 R1 为取代基,且至少一种式 (1) 化合物包括至少一种 Z=H 且 Y≠H 的式 (1) 化合物。
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表征谱图

  • 氢谱
    1HNMR
  • 质谱
    MS
  • 碳谱
    13CNMR
  • 红外
    IR
  • 拉曼
    Raman
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ir
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  • 峰位数据
  • 峰位匹配
  • 表征信息
Shift(ppm)
Intensity
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Assign
Shift(ppm)
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测试频率
样品用量
溶剂
溶剂用量
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同类化合物

(5β,6α,8α,10α,13α)-6-羟基-15-氧代黄-9(11),16-二烯-18-油酸 (3S,3aR,8aR)-3,8a-二羟基-5-异丙基-3,8-二甲基-2,3,3a,4,5,8a-六氢-1H-天青-6-酮 (2Z)-2-(羟甲基)丁-2-烯酸乙酯 (2S,4aR,6aR,7R,9S,10aS,10bR)-甲基9-(苯甲酰氧基)-2-(呋喃-3-基)-十二烷基-6a,10b-二甲基-4,10-dioxo-1H-苯并[f]异亚甲基-7-羧酸盐 (+)顺式,反式-脱落酸-d6 龙舌兰皂苷乙酯 龙脑香醇酮 龙脑烯醛 龙脑7-O-[Β-D-呋喃芹菜糖基-(1→6)]-Β-D-吡喃葡萄糖苷 龙牙楤木皂甙VII 龙吉甙元 齿孔醇 齐墩果醛 齐墩果酸苄酯 齐墩果酸甲酯 齐墩果酸乙酯 齐墩果酸3-O-alpha-L-吡喃鼠李糖基(1-3)-beta-D-吡喃木糖基(1-3)-alpha-L-吡喃鼠李糖基(1-2)-alpha-L-阿拉伯糖吡喃糖苷 齐墩果酸 beta-D-葡萄糖酯 齐墩果酸 beta-D-吡喃葡萄糖基酯 齐墩果酸 3-乙酸酯 齐墩果酸 3-O-beta-D-葡吡喃糖基 (1→2)-alpha-L-吡喃阿拉伯糖苷 齐墩果酸 齐墩果-12-烯-3b,6b-二醇 齐墩果-12-烯-3,24-二醇 齐墩果-12-烯-3,21,23-三醇,(3b,4b,21a)-(9CI) 齐墩果-12-烯-3,11-二酮 齐墩果-12-烯-2α,3β,28-三醇 齐墩果-12-烯-29-酸,3,22-二羟基-11-羰基-,g-内酯,(3b,20b,22b)- 齐墩果-12-烯-28-酸,3-[(6-脱氧-4-O-b-D-吡喃木糖基-a-L-吡喃鼠李糖基)氧代]-,(3b)-(9CI) 鼠特灵 鼠尾草酸醌 鼠尾草酸 鼠尾草酚酮 鼠尾草苦内脂 黑蚁素 黑蔓醇酯B 黑蔓醇酯A 黑蔓酮酯D 黑海常春藤皂苷A1 黑檀醇 黑果茜草萜 B 黑五味子酸 黏黴酮 黏帚霉酸 黄黄质 黄钟花醌 黄质醛 黄褐毛忍冬皂苷A 黄蝉花素 黄蝉花定