isopropyltin triisopropoxide | 151145-25-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: isopropyltin triisopropoxide
• 英文别名: Propan-2-yl-tri(propan-2-yloxy)stannane
• CAS: 151145-25-4
• 化学式: C₁₂H₂₈O₃Sn
• 分子量: 339.063
• InChiKey: HLPACGKTQQCSHW-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.61
• 重原子数：
  16
• 可旋转键数：
  7
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  27.7
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  三氯(异丙基)锡 、 异丙醇 在 二乙胺 作用下， 以 正戊烷 为溶剂， 反应 1.0h， 以60%的产率得到isopropyltin triisopropoxide
  参考文献：
  名称：

  SEMICONDUCTOR PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERNS USING THE COMPOSITION

  摘要：

  一种半导体光阻组合物包括由化学式1表示的有机金属化合物、光酸发生剂（PAG）和溶剂：在化学式1中，R是取代或未取代的C1到C20烷基基团、取代或未取代的C3到C20环烷基基团、取代或未取代的至少含有一个双键或三键的C2到C20脂肪不饱和有机基团、取代或未取代的C6到C30芳基基团、乙氧基团、丙氧基团或它们的组合；而X、Y和Z分别独立地是—OR1或—OC(═O)R2。

  公开号：

  US20210311387A1

文献信息

• SEMICONDUCTOR RESIST COMPOSITION, AND METHOD OF FORMING PATTERNS USING THE COMPOSITION
  申请人：Samsung SDI Co., Ltd.

  公开号：US20200117085A1

  公开（公告）日：2020-04-16

  This disclosure relates to a semiconductor resist composition including an organometallic compound represented by Chemical Formula 1 and a solvent, and to a method of forming patterns using the composition: wherein, in Chemical Formula 1, R 1 is an aliphatic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group, or an -alkylene-O-alkyl group, and R 2 to R 4 are each independently selected from —OR a and —OC(═O)R b .

  这份披露涉及一种包括化学式1所代表的有机金属化合物和溶剂的半导体抗蚀组合物，以及使用该组合物形成图案的方法：在化学式1中，R1是脂肪烃基、芳香烃基或-烷基-氧-烷基，R2到R4分别独立地选自—ORa和—OC(═O)Rb。