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(2-降冰片基)溴化镁 | 51243-73-3

中文名称
(2-降冰片基)溴化镁
中文别名
——
英文名称
(2-norbornyl)MgBr
英文别名
bicyclo[2.2.1]heptan-2-ylmagnesium bromide
(2-降冰片基)溴化镁化学式
CAS
51243-73-3
化学式
C7H11BrMg
mdl
——
分子量
199.373
InChiKey
NSJDDNUNGOLWJM-UHFFFAOYSA-M
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    2.61
  • 重原子数:
    9.0
  • 可旋转键数:
    1.0
  • 环数:
    2.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    1.0
  • 拓扑面积:
    0.0
  • 氢给体数:
    0.0
  • 氢受体数:
    0.0

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    (2-降冰片基)溴化镁 生成 Acetate magnesium bromide
    参考文献:
    名称:
    TROST, B. M.;PEARSON, W. H., J. AMER. CHEM. SOC., 1983, 105, N 4, 1054-1056
    摘要:
    DOI:
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文献信息

  • Preparation of Polyfunctionalized Aromatic Nitriles from Aryl Oxazolines
    作者:A. Hess、H. C. Guelen、N. Alandini、A. Mourati、Y. C. Guersoy、P. Knochel
    DOI:10.1002/chem.202103700
    日期:2022.1.3
    Aryl nitriles from oxazolines: We report a new method for for preparing highly functionalized tri-, tetra- and penta-substituted aromatic nitriles by using two successive magnesiations with sBu2Mg in toluene followed by trapping reactions with a broad range of electrophiles followed by an efficient conversion of the oxazolyl-directing group to a nitrile function by using oxalyl chloride and catalytic
    来自恶唑啉的芳基腈:我们报道了一种制备高官能化三、四和五取代芳香腈的新方法,该方法通过在甲苯中使用s Bu 2 Mg 进行两次连续的化,然后与多种亲电子试剂发生捕获反应,然后使用草酰氯和催化量的 DMF(50 °C,4 小时)将恶唑基导向基团有效转化为腈官能团。
  • C–F Activation for C(sp<sup>2</sup>)–C(sp<sup>3</sup>) Cross-Coupling by a Secondary Phosphine Oxide (SPO)-Nickel Complex
    作者:Valentin Müller、Debasish Ghorai、Lorena Capdevila、Antonis M. Messinis、Xavi Ribas、Lutz Ackermann
    DOI:10.1021/acs.orglett.0c02609
    日期:2020.9.4
    A secondary phosphine oxide (SPO)-nickel catalyst allowed the activation of otherwise inert C–F bonds of unactivated arenes in terms of challenging couplings with primary and secondary alkyl Grignard reagents. The C–F activation is characterized by mild reaction conditions and high levels of branched selectivity. Electron-rich and electron-deficient arenes were suitable electrophiles for this transformation
    二级氧化膦(SPO)-催化剂可以活化未活化芳烃的惰性C-F键,这是与伯氏和仲烷基格氏试剂的偶合挑战。C–F活化的特征是反应条件温和和分支选择性高。富电子和电子不足的芳烃是适合这种转化的亲电试剂。此外,该策略还证明适用于杂环和在稍加修改的条件下活化C-O键的方法。
  • The reduction by deuterium on platinum black of exo-2-norbornyl* and endo-2-norbornyl* to norbornane-2-d1 occurs with predominant retention of configuration
    作者:T. Randall Lee、George M. Whitesides
    DOI:10.1021/ja00001a058
    日期:1991.1
    platinum-catalyzed hydrogenation of (diolefin) dialkylplatinum(II) complexes (DO)PtR 2 ) on platinum black produces alkanes by reduction of the diolefin and alkylplatinum moieties; the platinum(II) is reduced to platinum(0) and becomes part of the catalyst. This paper reports and investigation of the stereochemistry of the reduction of C* bonds in heterogeneous hydrogenations, based on the adsorption of (DO)PtR
    (二烯烃)二烷基(II)配合物(DO)PtR 2 )在黑上的多相催化氢化通过二烯烃和烷基部分的还原产生烷烃 (II) 被还原为 (0) 并成为催化剂的一部分。本文报告并研究了多相氢化中 C* 键还原的立体化学,基于 (DO)PtR 2 在黑上的吸附生成 R* 基团
  • Preparation of substituted indenes
    申请人:Schulte L. Jorg
    公开号:US20060052620A1
    公开(公告)日:2006-03-09
    The present invention relates to a simple process for preparing alkyl-substituted indenes of the formula (II) in improved yields from indenes of the formula (I) by reaction with compounds of the formula (III), to the alkyl-substituted indenes prepared in this way and to the use of these for the preparation of metallocenes for highly active polymerization catalysts.
    本发明涉及一种简单的方法,通过将化合物(III)与化合物(I)反应,改进产量地制备公式(II)的烷基取代的烯,以及通过这种方式制备的烷基取代的烯,并将其用于制备高活性聚合催化剂的属茂。
  • Photosensitive polymers and chemically amplified photoresist compositions using the same
    申请人:Samsung Electronics Co., Ltd.
    公开号:US06300036B1
    公开(公告)日:2001-10-09
    The compounds are of a class of photosensitive polymers for use in chemically amplified photoresists. These photoresists produce sharp line patterns when exposed with an ArF excimer laser. The polymer composition includes a copolymer and the photoresist composition includes a terpolymer with a photo acid generator. The resulting chemically amplified photoresist compositions have strong resistance to dry etching, possess excellent adhesion to film material, and are capable of being developed using conventional developers.
    这些化合物属于一类用于化学增感光阻的光敏聚合物。当使用ArF准分子激光暴露时,这些光敏阻剂可以产生清晰的线条图案。聚合物组成包括共聚物,光敏阻剂组成包括三元共聚物和光酸发生剂。由此产生的化学增感光阻剂组成具有强大的耐干法蚀性能,具有优异的对薄膜材料的附着性,并能够使用传统显影剂进行显影。
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