1,3-bis-vinyloxy-propane | 693-48-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: 1,3-bis-vinyloxy-propane
• 英文别名: 1,1'-propane-1,3-diyldioxy-bis-ethene；1,3-propylene glycol divinyl ether；Trimethylenglykol-bis-vinylether；1.2-Divinyloxy-propan；1.3-Divinyloxy-propan；1,3-Bis(ethenyloxy)propane；1,3-bis(ethenoxy)propane
• CAS: 693-48-1
• 化学式: C₇H₁₂O₂
• 分子量: 128.171
• InChiKey: QOYBXUIKQOIDQO-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.8
• 重原子数：
  9
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.43
• 拓扑面积：
  18.5
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1,3-bis-vinyloxy-propane 以 乙醚 、 甲苯 为溶剂， 生成 1-phenyl-3-[1-[3-[1-(phenylcarbamoylamino)ethoxy]propoxy]ethyl]urea
  参考文献：
  名称：

  Lesiak,T.; Maciejewski,L., Journal fur praktische Chemie (Leipzig 1954), 1978, vol. 320, p. 239 - 245

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  3,7-二氧杂-1,9-壬二醇 在 吡啶 、 氢氧化钾 、 氯化亚砜 、 三乙醇胺 作用下， 以 二甲基亚砜 为溶剂， 生成 1,3-bis-vinyloxy-propane
  参考文献：
  名称：

  Lesiak,T.; Maciejewski,L., Journal fur praktische Chemie (Leipzig 1954), 1978, vol. 320, p. 239 - 245

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Novel sulfonyldiazomethanes, photoacid generators, resist compositions, and patterning process
  申请人：——

  公开号：US20040167322A1

  公开（公告）日：2004-08-26

  A chemical amplification type resist composition comprising a specific benzenesulfonyldiazomethane containing a long-chain alkoxyl group at the 2-position on benzene ring has many advantages including improved resolution, improved focus latitude, minimized line width variation or shape degradation even on long-term PED, minimized debris left after coating, development and peeling, and improved pattern profile after development and is thus suited for microfabrication.

  一种化学放大型抗蚀组合物，包括在苯环上的2-位含有长链烷氧基基团的特定苯磺酰二氮甲烷，具有许多优点，包括提高分辨率，改善焦点宽度，即使在长期PED上也减少线宽变化或形状退化，涂层、显影和剥离后减少残留物，并在显影后改善图案轮廓，因此适用于微加工。
• Palladium-Catalyzed Dimerization of Vinyl Ethers to Acetals
  作者：Changle Chen、Richard F. Jordan

  DOI：10.1021/ja104523y

  日期：2010.8.4

  and silyl vinyl ethers to beta,gamma-unsaturated CH(2)=CHCH(2)CH(OR)(2) acetals, and they cyclize divinyl ethers to analogous cyclic acetals. A plausible mechanism comprises in situ generation of an active PdOR alkoxide species, double vinyl ether insertion to generate PdCH(2)CH(OR)CH(2)CH(OR)(2)} species, and beta-OR elimination to generate the acetal product. In the presence of vinyl ethers, (alpha-diimine)PdCl(+)

  (α-二亚胺)PdCl(+) 物质将烷基和甲硅烷基乙烯基醚催化二聚化为 β,γ-不饱和 CH(2)=CHCH(2)CH(OR)(2) 缩醛，并将二乙烯基醚环化为类似的环状缩醛. 一种可能的机制包括原位生成活性 PdOR 醇盐物质，双乙烯基醚插入生成 PdCH(2)CH(OR)CH(2)CH(OR)(2)} 物质，以及β-OR 消除以生成 PdCH(2)CH(OR)CH(2)CH(OR)(2)} 物质生成缩醛产物。在乙烯基醚的存在下，(α-二亚胺)PdCl(+) 物质可用于引发乙烯聚合。
• Nucleophilic Addition to Acetylenes in Superbasic Catalytic Systems: XIV. Vinilation of Diols in a System CsF-NaOH
  作者：L. A. Oparina、M. Ya. Khil’ko、N. A. Chernyshova、S. I. Shaikhudinova、L. N. Parshina、Th. Preiss、J. Henkelmann、B. A. Trofimov

  DOI：10.1007/s11178-005-0223-x

  日期：2005.5

  A new catalytic system CsF-NaOH was developed for the synthesis of mono- and divinyl ethers of alkanediols exceeding in efficiency KOH. The nucleophilic addition of diols to acetylene in the presence of this system occurs both at enhance pressure (without solvent, 140–160°C) and atmospheric pressure (in DMSO medium, 100°C) of acetylene. Conditions were established of a selective preparation in a high yield of divinyl ethers from diols.

  开发了一种新的催化体系CsF-NaOH，用于合成烷二醇的一乙烯基和二乙烯基醚，其效率超过了KOH。在该体系存在下，二醇对乙炔的亲核加成既可以在加压（无溶剂，140-160°C）下进行，也可以在大气压（DMSO介质，100°C）下进行。建立了从二醇中高收率选择性制备二乙烯基醚的条件。
• Novel sulfonyldiazomethanes, photoacid generations, resist compositions, and patterning process
  申请人：——

  公开号：US20030180653A1

  公开（公告）日：2003-09-25

  A chemical amplification type resist composition contains as a photoacid generator a sulfonyldiazomethane compound of formula (1) wherein R is H or C 1-4 alkyl or alkoxy, G is SO 2 or CO, R 3 is C 1-10 alkyl or C 6-14 aryl, p is 1 or 2, q is 0 or 1, p+q=2, n is 0 or 1, m is 3 to 11, and k is 0 to 4. The composition is suited for microfabrication, especially by deep UV lithography because of many advantages including improved resolution and improved pattern profile after development. 1

  一种化学放大型光刻胶组合物包含一种化学放大型光酸发生剂，其化学式为（1），其中R为H或C1-4烷基或烷氧基，G为SO2或CO，R3为C1-10烷基或C6-14芳基，p为1或2，q为0或1，p+q=2，n为0或1，m为3至11，k为0至4。该组合物适用于微细加工，尤其是通过深紫外光刻技术，因为具有许多优点，包括提高分辨率和在显影后改善图案轮廓。
• Novel sulfonydiazomethanes, photoacid generators, resist compositions, and patterning process
  申请人：——

  公开号：US20040033432A1

  公开（公告）日：2004-02-19

  Sulfonyldiazomethane compounds containing a long-chain alkyl- or alkoxy-naphthyl group are novel and useful as photoacid generators. Chemical amplification type resist compositions comprising the same are suited for microfabrication because of many advantages including improved resolution, improved focus latitude, and minimized line width variation or shape degradation even on long-term PED.

  含有长链烷基或烷氧基萘基的磺酰基二氮甲烷化合物是一种新颖且有用的光酸发生剂。由此组成的化学增强型抗蚀剂配方适用于微细加工，因为具有许多优点，包括提高分辨率、改善焦点宽度、并且即使在长期使用后也能最小化线宽变化或形状退化。