5-(羟甲基)金刚烷-2-酮 | 110874-17-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 中文名称: 5-(羟甲基)金刚烷-2-酮
• 英文名称: 1-Hydroxymethyl-4-oxoadamantane
• 英文别名: 5-(hydroxymethyl)adamantan-2-one
• CAS: 110874-17-4
• 化学式: C₁₁H₁₆O₂
• 分子量: 180.247
• InChiKey: ORLCIDAOJDSXNX-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  308.9±15.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1?+-.0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0.8
• 重原子数：
  13
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.91
• 拓扑面积：
  37.3
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  2

安全信息

• 危险性防范说明：
  P261,P264,P271,P280,P302+P352,P304+P340+P312,P305+P351+P338,P332+P313,P337+P313,P362,P403+P233,P405,P501
• 危险性描述：
  H315,H319,H335
• 储存条件：
  室温下，使用惰性气体环境。

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  5-(羟甲基)金刚烷-2-酮 在 sodium tetrahydroborate 、 水 、 对甲苯磺酸 作用下， 以 四氢呋喃 、 氯仿 、 乙腈 为溶剂， 反应 6.08h， 生成
  参考文献：
  名称：

  PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING PHOTORESIST PATTERN

  摘要：

  一种包括(A)具有含酸敏感基团结构单元和含内酯环结构单元的树脂，以及(B)由式(I)表示的盐的光刻胶组合物：其中Q1和Q2分别独立表示氟原子或C1-C6全氟烷基基团，n表示0或1，L1表示单键或C1-C10脂肪二基基团，其中亚甲基基团可被氧原子或羰基取代，但当n为0时，L1不是单键，R1表示羟基或被保护基团保护的羟基，Z+表示有机阳离子。

  公开号：

  US20120270153A1
• 作为产物：
  描述：

  2-金刚烷酮-5-甲酸 在 盐酸 、 lithium aluminium tetrahydride 、 硫酸 、 水 作用下， 以 四氢呋喃 、 甲醇 、 氯仿 、 甲苯 、 乙腈 为溶剂， 反应 34.0h， 生成 5-(羟甲基)金刚烷-2-酮
  参考文献：
  名称：

  SALT, PHOTORESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR PRODUCING PHOTORESIST PATTERN

  摘要：

  一种用化学式(I)表示的盐：其中Q1和Q2分别表示氟原子或C1-C6全氟烷基基团，n表示0或1，Ll表示单键或C1-C10脂肪二基团，其中一个亚甲基基团可被氧原子或羰基取代，但当n为0时，Ll不是单键，环W表示C3-C36脂肪环，其中一个亚甲基基团可被氧原子、硫原子、羰基或磺酰基取代，氢原子可被氢氧基、C1-C12烷基基团或C1-C12烷氧基取代，Rl表示氢氧基或受保护的氢氧基，Z+表示有机阳离子。

  公开号：

  US20120328986A1

文献信息

• Adamantane derivative and process for producing the same
  申请人：Tanaka Shinji

  公开号：US20060149073A1

  公开（公告）日：2006-07-06

  Provided is an adamantane derivative represented by Formula (I) or (II): wherein X represents a halogen atom; Y represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a halogenated alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a halogen atom or a hetero atom-containing group; R 1 to R 4 represent independently hydrogen, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or a halogenated alkyl group having 1 to 10 carbon atoms; m represents an integer of 0 to 15, and n represents an integer of 0 to 10; and excluded is a case where in Formula (I), m and n are 0 at the same time and R 3 and R 4 are a hydrogen atom at the same time. Capable of being provided is a novel adamantane derivative which is useful as a modifying agent for a resin for a photoresist and a dry etching resistance-improving agent in the photolithography field, agricultural and medical intermediates and other various industrial products.

  提供的是由公式（I）或（II）表示的金刚烷衍生物：其中X代表卤素原子；Y代表具有1至10个碳原子的烷基，具有1至10个碳原子的卤代烷基，卤素原子或含杂原子的基团；R1至R4独立地代表氢、卤素原子、具有1至10个碳原子的烷基或具有1至10个碳原子的卤代烷基；m表示0至15的整数，n表示0至10的整数；在公式（I）中，m和n同时为0且R3和R4同时为氢原子的情况被排除。能够提供一种新的金刚烷衍生物，其可用作光刻胶树脂的改性剂和光刻工艺中的干法蚀刻抗性改进剂，以及农业和医学中间体和其他各种工业产品。
• ADAMANTANE DERIVATIVE AND PROCESS FOR PRODUCING THE SAME
  申请人：IDEMITSU KOSAN COMPANY LIMITED

  公开号：EP1577285A1

  公开（公告）日：2005-09-21

  Provided is an adamantane derivative represented by Formula (I) or (II): wherein X represents a halogen atom; Y represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a halogenated alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a halogen atom or a hetero atom-containing group; R1 to R4 represent independently hydrogen, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or a halogenated alkyl group having 1 to 10 carbon atoms; m represents an integer of 0 to 15, and n represents an integer of 0 to 10; and excluded is a case where in Formula (I), m and n are 0 at the same time and R3 and R4 are a hydrogen atom at the same time. Capable of being provided is a novel adamantane derivative which is useful as a modifying agent for a resin for a photoresist and a dry etching resistance-improving agent in the photolithography field, agricultural and medical intermediates and other various industrial products.

  本发明提供了一种由式（I）或（II）表示的金刚烷衍生物： 其中 X 代表卤素原子；Y 代表具有 1 至 10 个碳原子的烷基、具有 1 至 10 个碳原子的卤代烷基、卤素原子或含杂原子的基团；R1 至 R4 独立地代表氢、卤素原子、具有 1 至 10 个碳原子的烷基或具有 1 至 10 个碳原子的卤代烷基；m代表0至15的整数，n代表0至10的整数；不包括式（I）中m和n同时为0，R3和R4同时为氢原子的情况。 本发明可提供一种新型金刚烷衍生物，该衍生物可用作光刻胶树脂的改性剂、光刻领域的干蚀刻抗性改进剂、农业和医药中间体以及其他各种工业产品。
• WALBORSKY, H. M.;GAWRONSKA, K.;GAWRONSKI, J. K., J. AMER. CHEM. SOC., 109,(1987) N 22, 6719-6726
  作者：WALBORSKY, H. M.、GAWRONSKA, K.、GAWRONSKI, J. K.

  DOI：——

  日期：——
• US7470824B2
  申请人：——

  公开号：US7470824B2

  公开（公告）日：2008-12-30
• PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING PHOTORESIST PATTERN
  申请人：ICHIKAWA Koji

  公开号：US20120270153A1

  公开（公告）日：2012-10-25

  A photoresist composition comprising (A) a resin which has an acid-labile group-containing structural unit and a lactone ring-containing structural unit, and (B) a salt represented by formula (I): wherein Q 1 and Q 2 each independently represent a fluorine atom or a C1-C6 perfluoroalkyl group, n represents 0 or 1, L 1 represents a single bond or a C1-C10 alkanediyl group in which a methylene group may be replaced by an oxygen atom or a carbonyl group, provided that L 1 is not a single bond when n is 0, R 1 represents a hydroxy group or a hydroxy group protected by a protecting group, and Z + represents an organic cation.

  一种包括(A)具有含酸敏感基团结构单元和含内酯环结构单元的树脂，以及(B)由式(I)表示的盐的光刻胶组合物：其中Q1和Q2分别独立表示氟原子或C1-C6全氟烷基基团，n表示0或1，L1表示单键或C1-C10脂肪二基基团，其中亚甲基基团可被氧原子或羰基取代，但当n为0时，L1不是单键，R1表示羟基或被保护基团保护的羟基，Z+表示有机阳离子。