2,2-diethyl-1,3-dioxane | 6543-17-5

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: 2,2-diethyl-1,3-dioxane
• 英文别名: 2,2-Diethyl-1,3-dioxan；5,5-Diethyl-1,3-dioxan；2,2-Diaethyl-1,3-dioxan
• CAS: 6543-17-5
• 化学式: C₈H₁₆O₂
• 分子量: 144.214
• InChiKey: DBHOMRLXWBGKHO-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  162.1±8.0 °C(Predicted)
• 密度：
  0.889±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.8
• 重原子数：
  10
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  18.5
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2,2-diethyl-1,3-dioxane 、 乙酰溴 以 苯 为溶剂， 反应 72.0h， 以90%的产率得到3-戊酮
  参考文献：
  名称：

  Reactions of 1,3-dioxacyclanes with acid halides a new synthesis for ω-halohydrine esters

  摘要：

  DOI：

  10.1007/bf01120981
• 作为产物：
  描述：

  3-戊酮 、 1,3-丙二醇 在 对甲苯磺酸 作用下， 以 苯 为溶剂， 反应 24.0h， 生成 2,2-diethyl-1,3-dioxane
  参考文献：
  名称：

  通过结构诊断离子/分子反应与（CH 3）2 N-C + ═Ocy离子的环状，无环，环外和螺缩醛的识别

  摘要：

  通过五四极杆质谱法系统地评估了模型lium离子（CH 3）2 N-C + = O与通式R 1 O-CR 3 R 4 -OR 2的无环，环外和螺缩醛的反应。对于这些类型的乙缩醛均观察到了特征性的内在反应性。所观察到的两种最常见的反应是氢化物和烷氧基阴离子[R 1 ö -和R 2 ö - ]抽象。还观察到其他特定反应：（a）带有α，β-不饱和R 3的缩醛的次极性[4 + + 2]环加成反应或R 4个取代基和（b）OH -抽象为环外和螺缩醛。这些结构诊断反应，与先前在环状缩醛中观察到的其他反应一起显示，揭示了缩醛分子的种类及其环的类型和取代基，并使其能够与其他种类的异构体分子区别开来。

  DOI：

  10.1021/jo8008269

文献信息

• SALT, QUENCHER, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN
  申请人：SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED

  公开号：US20200387069A1

  公开（公告）日：2020-12-10

  Disclosed are a salt represented by formula (1), and a quencher and a resist composition comprising the same: wherein R 1 , R 2 and R 3 each independently represent a halogen atom, an alkyl fluoride group having 1 to 6 carbon atoms or a hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, and —CH 2 — included in the hydrocarbon group may be replaced by —O— or —CO—, m1, m2 and m3 represent an integer of 0 to 4, and when m1, m2 and/or m3 are 2 or more, a plurality of R 1 , a plurality of R 2 and/or a plurality of R 3 may be the same or different from each other, and X 1 represents —CO—, —SO— or —SO 2 —.

  公开了一种由式（1）表示的盐，以及包括该盐的淬灭剂和抗蚀组合物：其中R1、R2和R3分别独立表示卤素原子、具有1至6个碳原子的烷基氟基或具有1至18个碳原子的碳氢基，而包含在碳氢基中的—CH2—可被—O—或—CO—替代，m1、m2和m3代表0至4的整数，当m1、m2和/或m3为2或更多时，多个R1、多个R2和/或多个R3可能相同或不同，X1表示—CO—、—SO—或—SO2—。
• Process for the Preparation of 1-H-pyrrolidine-2,4-dione Derivatives
  申请人：Bayer CropScience AG

  公开号：US20140371468A1

  公开（公告）日：2014-12-18

  The present invention relates to a novel process for the preparation of 1-H-pyrrolidine-2,4-dione derivatives and to novel intermediates and to a process for their preparation.

  本发明涉及一种制备1-H-吡咯烷-2,4-二酮衍生物的新工艺，以及新的中间体和其制备工艺。
• Norbornene-based copolymer for photoresist, preparation method thereof, and photoresist composition comprising the same
  申请人：——

  公开号：US20030118933A1

  公开（公告）日：2003-06-26

  Disclosed is an norbornene-based copolymer for photoresist, a preparation method thereof, and a photoresist composition comprising the same. The copolymer of the present invention exhibits high transparency to light of 193 nm wavelength and an excellent etching resistance, excellent resolution due to the remarkable difference between light-exposed part and light-unexposed part in the dissolving rate and excellent adhesion to the substrate due to very hydrophilic diketone group of its own. As a result, the copolymer of the present invention is very useful as ArF exposure photoresist material in the fabrication of semiconductor devices.

  本发明公开了一种用于光刻胶的降冰片烯基共聚物、其制备方法以及包含该共聚物的光刻胶组合物。本发明的共聚物对 193 纳米波长的光具有高透明度和优异的抗蚀刻性，由于受光部分和未受光部分在溶解速率上的显著差异而具有优异的分辨率，并且由于其自身具有非常亲水的二酮基团而与基底具有优异的粘附性。因此，本发明的共聚物作为氩焰曝光光刻胶材料在半导体器件的制造中非常有用。
• KWIATKOWSKI, S.;WOLINSKI, A., MONATSH. CHEM., 1984, 115, N 6-7, 869-872
  作者：KWIATKOWSKI, S.、WOLINSKI, A.

  DOI：——

  日期：——
• COMPOSITION AND POLYMER
  申请人：Asahi Kasei Kabushiki Kaisha

  公开号：EP2735581B1

  公开（公告）日：2021-07-14