[EN] NEW OXIME SULFONATES AND THE USE THEREOF AS LATENT SULFONIC ACIDS<br/>[FR] NOUVEAUX OXIMES SULFONATES ET LEUR UTILISATION EN TANT QU'ACIDES SULFONIQUES LATENTS
申请人:CIBA SPECIALTY CHEMICALS HOLDING INC.
公开号:WO1999001429A1
公开(公告)日:1999-01-14
(EN) New oximsulfonate compounds of formulae (I) or (II), wherein m is 0 or 1; x is 1 or 2; R1 is, for example phenyl, which is unsubstituted or substituted or R1 is a heteroaryl radical that is unsubstituted or substituted, or, if m is 0, R1 additionally is C2-C6alkoxycarbonyl, phenoxycarbonyl or CN; R'1 is for example C2-C12alkylene, phenylene; R2 has for example one of the meanings of R1; n is 1 or 2; R3 is for example C1-C18alkyl, R'3 when x is 1, has one of the meanings given for R3, or R'3 in formula (IV) and when x is 2 in formula (I), is for example C2-C12 alkylene, phenylene; R4 and R5 are independently of each other for example hydrogen, halogen, C1-C6alkyl; R6 is for example hydrogen, phenyl; R7 and R8 are independently of each other for example hydrogen or C1-C12alkyl; R9 is for example C1-C12alkyl; A is S, O, NR6, or a group of formula (A1), (A2), (A3) or (A4); R10 and R11 independently of each other have one of the meanings given for R4; R12, R13, R14 and R15 independently of one another are for example hydrogen, C1-C4alkyl; Z is CR11 or N; Z1 is -CH2-, S, O or NR6, are useful as latent sulfonic acids, especially in photoresist applications.(FR) L'invention concerne des nouveaux composés d'oxime sulfonate correspondant aux formules (I) ou (II) dans lesquelles m vaut 0 ou 1, x vaut 1 ou 2, R1 représente phényle, substitué ou non, ou R1 représente un radical hétéroaryle substitué ou non, ou si m vaut 0, R1 peut représenter en outre alcoxycarbonyle C2-C6, phénoxycarbonyle ou CN, R'1 représente alkylène C2-C12, phénylène, R2 peut avoir l'une des significations de R1, n vaut 1 ou 2, R3 représente alkyle C1-C18, R'3, lorsque x vaut 1, possède l'une des significations de R3, ou bien R'3 dans la formule (IV) -lorsque x vaut 2 dans la formule (I)- représente alkylène C2-C12, phénylène, R4 et R5 représentent chacun indépendamment hydrogène, halogène, alkyle C1-C6, R6 représente hydrogène, phényle, R7 et R8 représentent chacun indépendamment hydrogène ou alkyle C1-C12, R9 représente alkyle C1-C12, A représente S, O, NR6 ou un groupe des formules (A1), (A2), (A3) ou (A4), R10 et R11 représentent chacun indépendamment l'une des significations données pour R4; R12, R13, R14 et R15 représentent indépendamment hydrogène, alkyle C1-C4, Z représente CR11 ou N, Z1 représente -CH2-, S, O ou NR6. Ces composés sont utiles en tant qu'acides sulfoniques latents, notamment dans des applications de photorésist.