triethylammonium 1,1,3,3,3-pentafluoro-2-(4-oxoadamantane-1-carbonyloxy)-1-propanesulfonate | 1373617-55-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: triethylammonium 1,1,3,3,3-pentafluoro-2-(4-oxoadamantane-1-carbonyloxy)-1-propanesulfonate
• 英文别名: Triethylammonium 1,1,3,3,3-pentafluoro-2-(4-oxoadamantane-1-carbonyloxy)-1-propanesulfonate；1,1,3,3,3-pentafluoro-2-(4-oxoadamantane-1-carbonyl)oxypropane-1-sulfonate;triethylazanium
• CAS: 1373617-55-0
• 化学式: C₆H₁₅N*C₁₄H₁₅F₅O₆S
• 分子量: 507.519
• InChiKey: SQFJVATUMUAACH-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.92
• 重原子数：
  33
• 可旋转键数：
  7
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.9
• 拓扑面积：
  113
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  11

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  四甲基亚砜 、 triethylammonium 1,1,3,3,3-pentafluoro-2-(4-oxoadamantane-1-carbonyloxy)-1-propanesulfonate 、 1-(2,2,2-三氟乙氧基)萘 在 Eaton’s reagent 作用下， 以 二氯甲烷 、 水 为溶剂， 以84%的产率得到4-(2,2,2-trifluoroethoxy)-1-naphthyltetrahydrothiophenium 1,1,3,3,3-pentafluoro-2-(4-oxoadamantane-1-carbonyloxy)-1-propanesulfonate
  参考文献：
  名称：

  술포늄염, 레지스트 재료 및 패턴 형성 방법

  摘要：

  这是关于化学式（1）表示的锶盐的发明：在上述公式中，R表示包含氢原子或杂原子的直链，分支或环状的1到30个碳原子的烷基，烷基可以是一个含有一个氟原子的三氟甲基基团。R表示至少有一个氢原子被氟原子取代的1到4个碳原子的烷基。[效果]本发明的锶盐具有含有氟代烷基的阳离子部分，如果将本发明的锶盐用作光刻胶材料，则其在显影液中的溶出度低，而且具有较小的图案依赖性（暗·亮差），因此作为化学增强光刻胶材料的光敏剂非常有用。

  公开号：

  KR101603359B1

文献信息

• SULFONIUM SALT, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Sagehashi Masayoshi

  公开号：US20120100486A1

  公开（公告）日：2012-04-26

  A sulfonium salt of a naphthyltetrahydrothiophenium cation having a fluoroalkoxy chain with a specific anion is provided. The sulfonium salt is used as a photoacid generator to form a resist composition which when processed by immersion lithography, offers advantages of restrained dissolution in the immersion water and less pattern dependence or dark/bright bias.

  提供了一种具有氟烷氧链的萘基四氢噻吩阳离子的磺酸盐，具有特定阴离子。该磺酸盐用作光酸发生剂，形成抗蚀剂组合物，当通过浸没光刻法处理时，提供了在浸没水中受抑制的溶解和更少的图案依赖性或暗/亮偏差的优点。
• Sulfonium salt, resist composition, and patterning process
  申请人：Sagehashi Masayoshi

  公开号：US08597869B2

  公开（公告）日：2013-12-03

  A sulfonium salt of a naphthyltetrahydrothiophenium cation having a fluoroalkoxy chain with a specific anion is provided. The sulfonium salt is used as a photoacid generator to form a resist composition which when processed by immersion lithography, offers advantages of restrained dissolution in the immersion water and less pattern dependence or dark/bright bias.

  提供了一种具有氟烷氧基链的萘基四氢噻吩阳离子的磺醋盐，其具有特定的阴离子。该磺醋盐被用作光酸发生剂，以形成一种抗蚀剂组合物，当通过浸没光刻法处理时，具有在浸没水中受限溶解和较少的图案依赖性或暗/亮偏差的优点。
• US8597869B2
  申请人：——

  公开号：US8597869B2

  公开（公告）日：2013-12-03
• 술포늄염, 레지스트 재료 및 패턴 형성 방법
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤(519980708960)

  公开号：KR101603359B1

  公开（公告）日：2016-03-14

  [해결 수단] 본 발명은 화학식(1)으로 나타내어지는 술포늄염에 관한 것이다: 상기 식 중, R은 수소 원자 또는 헤테로 원자를 포함하더라도 좋은 탄소수 1∼30의 직쇄상, 분기상 또는 환상의 1가의 탄화수소기를 나타낸다. R는 수소 원자 또는 트리플루오로메틸기를 나타낸다. R는 하나 이상의 수소 원자가 불소 원자로 치환된 탄소수 1∼4의 알킬기를 나타낸다. [효과] 본 발명의 술포늄염은, 양이온 부분에 플루오로알콕시쇄를 갖고 있으며, 본 발명의 술포늄염을 레지스트 재료에 이용한 경우에는 액침수에의 용출도 적고, 또한 패턴 의존성(다크·브라이트차)이 적어, 화학 증폭 레지스트 재료의 광산발생제로서 매우 유용하다.

  这是关于化学式（1）表示的锶盐的发明：在上述公式中，R表示包含氢原子或杂原子的直链，分支或环状的1到30个碳原子的烷基，烷基可以是一个含有一个氟原子的三氟甲基基团。R表示至少有一个氢原子被氟原子取代的1到4个碳原子的烷基。[效果]本发明的锶盐具有含有氟代烷基的阳离子部分，如果将本发明的锶盐用作光刻胶材料，则其在显影液中的溶出度低，而且具有较小的图案依赖性（暗·亮差），因此作为化学增强光刻胶材料的光敏剂非常有用。