1,3,5-tris(1-hydroxycyclohexyl)benzene | 33316-55-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: 1,3,5-tris(1-hydroxycyclohexyl)benzene
• 英文别名: 1,3,5-Tris(1-hydroxycyclohexyl)benzol；1-[3,5-Bis(1-hydroxycyclohexyl)phenyl]cyclohexan-1-ol
• CAS: 33316-55-1
• 化学式: C₂₄H₃₆O₃
• 分子量: 372.548
• InChiKey: FHCTZVIEFKXOEJ-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  520.2±45.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.166±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.1
• 重原子数：
  27
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.75
• 拓扑面积：
  60.7
• 氢给体数：
  3
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1,3,5-tris(1-hydroxycyclohexyl)benzene 在 对甲苯磺酸 作用下， 生成 1,3,5-(tricylohex-1-ene)-benzene
  参考文献：
  名称：

  Bicev,P. et al., Gazzetta Chimica Italiana, 1973, vol. 103, p. 849 - 858

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  炔环己醇 在 bis(tri-n-butylphosphine)nickel(II) bromide 作用下， 生成 1,3,5-tris(1-hydroxycyclohexyl)benzene
  参考文献：
  名称：

  Bicev,P. et al., Gazzetta Chimica Italiana, 1973, vol. 103, p. 849 - 858

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Furlani, Anita; Hornemann, Karl Heinz; Russo, Maria Vittoria, Gazzetta Chimica Italiana, 1987, vol. 117, # 7, p. 429 - 436
  作者：Furlani, Anita、Hornemann, Karl Heinz、Russo, Maria Vittoria、Villa, Angiola Chiesi、Guastini, Carlo

  DOI：——

  日期：——
• PATTERN FORMING METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE, ELECTRONIC DEVICE, ACTIVE-LIGHT-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM AND MASK BLANK
  申请人：FUJIFILM Corporation

  公开号：US20170121437A1

  公开（公告）日：2017-05-04

  A pattern forming method includes forming a film using an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, exposing the film with active light or radiation, and developing the exposed film using a developer including an organic solvent, in which the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition contains a compound having a partial structure represented by General Formula (I).
• Bicev,P. et al., Gazzetta Chimica Italiana, 1973, vol. 103, p. 849 - 858
  作者：Bicev,P. et al.

  DOI：——

  日期：——