[1-(Methoxymethyl)-2-tricyclo[3.2.1.02,4]octanyl] 2-methylprop-2-enoate

• 分子结构分类: 有机化合物 - 脂质和类脂质分子 - 异戊烯醇脂质
• 英文名称: [1-(Methoxymethyl)-2-tricyclo[3.2.1.02,4]octanyl] 2-methylprop-2-enoate
• 英文别名: [1-(methoxymethyl)-2-tricyclo[3.2.1.02,4]octanyl] 2-methylprop-2-enoate
• 化学式: C₁₄H₂₀O₃
• 分子量: 236.31
• InChiKey: SMLUNXRODPJJIN-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.4
• 重原子数：
  17
• 可旋转键数：
  5
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.79
• 拓扑面积：
  35.5
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

文献信息

• POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US20150253666A1

  公开（公告）日：2015-09-10

  A positive resist composition is provided comprising a polymer comprising recurring units having a carboxyl or phenolic hydroxyl group substituted with an acid labile group and recurring units of 4-pyrone ester, and having a Mw of 1,000-500,000. The resist composition has a satisfactory effect of suppressing acid diffusion and a high resolution, and forms a pattern of good profile and minimal edge roughness after exposure.
• US8703408B2
  申请人：——

  公开号：US8703408B2

  公开（公告）日：2014-04-22
• US9140988B2
  申请人：——

  公开号：US9140988B2

  公开（公告）日：2015-09-22
• US9335633B2
  申请人：——

  公开号：US9335633B2

  公开（公告）日：2016-05-10