8,9-epoxy-3-oxo-4-oxa-tricyclo[5.2.1.02,6]decane | 437754-43-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 脂质和类脂质分子 - 异戊烯醇脂质
• 英文名称: 8,9-epoxy-3-oxo-4-oxa-tricyclo[5.2.1.02,6]decane
• 英文别名: Hexahydro-2,6-methanooxireno[2,3-f]isobenzofuran-3(1ah)-one；4,9-dioxatetracyclo[5.3.1.02,6.08,10]undecan-3-one
• CAS: 437754-43-3
• 化学式: C₉H₁₀O₃
• 分子量: 166.177
• InChiKey: JPIYJSNCUGXIAV-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0.3
• 重原子数：
  12
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.89
• 拓扑面积：
  38.8
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  甲醇 、 8,9-epoxy-3-oxo-4-oxa-tricyclo[5.2.1.02,6]decane 在 硫酸 作用下， 生成 6-Hydroxy-5-methoxyhexahydro-4,7-methanoisobenzofuran-1(3h)-one
  参考文献：
  名称：

  Monomer for chemical amplified photoresist compositions

  摘要：

  本发明揭示了一种具有以下公式（I）的化合物，其中R1为H、卤代烷基或C1-C4烷基；R2为羟基、C1-C8烷氧基或C1-C8硫代烷基；G为（CH2）n、O或S，其中n为0、1、2、3或4；Rc为内酯基；m为1、2或3。该化合物是一种单体，适合合成具有良好亲水性、附着力和干法刻蚀抗性的聚合物。特别地，该化合物可以通过与适当的光敏单体反应形成光敏聚合物或共聚物。

  公开号：

  US20030229234A1
• 作为产物：
  描述：

  4-Oxa-5-exo-(N-methylcarbamoyloxy)-tricyclo<5.2.1.0.^2.6endo>dec-8-en-3-one 生成 8,9-epoxy-3-oxo-4-oxa-tricyclo[5.2.1.02,6]decane
  参考文献：
  名称：

  NEIDLEIN, R.;DEIGNER, H. -P.;KRAMER, W., ARCH. PHARM., 321,(1988) N 3, 125-130

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Novel lactone compound
  申请人：Nakamura Junji

  公开号：US20050032887A1

  公开（公告）日：2005-02-10

  A novel monomer compound having a lactone moiety of the present invention can be converted into polymers usable as resist materials with excellent properties, etc., and an alcohol compound having a lactone moiety of the invention is useful as a material for the monomer compound. The compounds are represented by the following general formula [1]: wherein one of R 1 and R 2 represents a hydrogen atom, an acryloyl group, or a methacryloyl group, and the other represents an alkyl group; R 3 and R 4 independently represent a hydrogen atom or an alkyl group; R 5 and R 6 both represent a hydrogen atom or are combined to form a methylene chain that may have an alkyl group; and R 7 and R 8 independently represent a hydrogen atom or a methyl group.

  本发明的一种具有内酯基团的新型单体化合物可以转化为具有优良性能的可用作抗蚀材料的聚合物等，而本发明的一种具有内酯基团的醇化合物可用作单体化合物的原料。这些化合物由以下通用式[1]表示： 其中R1和R2中的一个表示氢原子、丙烯酰基或甲基丙烯酰基，另一个表示烷基基团；R3和R4独立地表示氢原子或烷基基团；R5和R6都表示氢原子或结合形成可能具有烷基基团的亚甲基链；R7和R8独立地表示氢原子或甲基基团。
• Polymer for photoresist and resin compositions therefor
  申请人：——

  公开号：US20030148210A1

  公开（公告）日：2003-08-07

  A polymeric compound for photoresist of the invention includes at least one monomer unit represented by following Formula (I): 1 wherein R 1 , R 2 , R 3 , R 4 and R 5 are the same or different and are each a hydrogen atom or a methyl group; m, p and q each denote an integer of from 0 to 2; and n denotes 0 or 1, where the hydroxyl group and carbonyloxy group extending from a principle chain in the formula are independently combined with either of two carbon atoms on the far-left portion of the rings. By using the polymeric compound for photoresist as a base of a photoresist, the resulting photoresist exhibits well-rounded adhesion to substrates and resistance to etching.

  本发明的光阻聚合物化合物包括至少一个由以下式（I）表示的单体单位：1其中R1、R2、R3、R4和R5相同或不同，每个都是氢原子或甲基基团；m、p和q分别表示从0到2的整数；n表示0或1，在公式中从主链延伸的羟基和羰氧基独立地与环的最左侧部分的两个碳原子中的任意一个结合。通过将光阻聚合物化合物用作光阻的基础，所得到的光阻对基板具有良好的粘附性和耐蚀性。
• Chemical amplified photoresist compositions
  申请人：Everlight USA, Inc.

  公开号：US06703178B2

  公开（公告）日：2004-03-09

  The present invention discloses a chemical amplified photoresist composition including a polymer having a repeated unit of the formula (II), wherein R1 is H, haloalkyl group or C1-C4 alkyl group; R2 is hydroxyl group, C1-C8 alkoxy group or C1-C8 thioalkyl group; G is (CH2)n, O or S, wherein n is 0, 1, 2, 3 or 4; Rc is a lactone group; and m is 1, 2 or 3. The chemical amplified photoresist composition of the present invention can be applied to general lithography processes, and particularly to the lithography of ArF, KrF or the like light sources, and exhibit excellent resolution, figures and photosensitivity.

  本发明公开了一种化学增感光阻组合物，包括具有式（II）重复单元的聚合物，其中R1为H、卤代烷基或C1-C4烷基；R2为羟基、C1-C8烷氧基或C1-C8硫代烷基；G为（CH2）n、O或S，其中n为0、1、2、3或4；Rc为内酯基；m为1、2或3。本发明的化学增感光阻组合物可应用于一般光刻工艺，特别是ArF、KrF或类似光源的光刻，并表现出优异的分辨率、图形和光敏性。
• POLYMER FOR PHOTORESIST AND RESIN COMPOSITIONS THEREFOR
  申请人：Daicel Chemical Industries, Ltd.

  公开号：EP1354897A1

  公开（公告）日：2003-10-22

  A polymeric compound for photoresist of the invention includes at least one monomer unit represented by following Formula (I): wherein R1, R2, R3, R4 and R5 are the same or different and are each a hydrogen atom or a methyl group; m, p and q each denote an integer of from 0 to 2; and n denotes 0 or 1, where the hydroxyl group and carbonyloxy group extending from a principle chain in the formula are independently combined with either of two carbon atoms on the far-left portion of the rings. By using the polymeric compound for photoresist as a base of a photoresist, the resulting photoresist exhibits well-rounded adhesion to substrates and resistance to etching.

  本发明用于光刻胶的聚合物化合物包括至少一个由下式（I）表示的单体单元： 其中 R1、R2、R3、R4 和 R5 相同或不同，且各自为氢原子或甲基；m、p 和 q 分别表示 0 至 2 的整数；n 表示 0 或 1，式中从原理链延伸出来的羟基和碳酰氧基独立地与环的最左侧部分的两个碳原子中的任一个结合。 使用光刻胶用聚合物化合物作为光刻胶的基底，所制得的光刻胶对基底具有良好的附着力和抗蚀刻性。
• US6639035B1
  申请人：——

  公开号：US6639035B1

  公开（公告）日：2003-10-28