1-(spiro[4.5]dec-8-yl)ethanone | 1210879-50-7

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: 1-(spiro[4.5]dec-8-yl)ethanone
• 英文别名: 1-Spiro[4.5]dec-8-yl-ethanone；1-spiro[4.5]decan-8-ylethanone
• CAS: 1210879-50-7
• 化学式: C₁₂H₂₀O
• 分子量: 180.29
• InChiKey: RQIXTJKSRZDTSU-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.5
• 重原子数：
  13
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.92
• 拓扑面积：
  17.1
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1-(spiro[4.5]dec-8-yl)ethanone 、 以 甲醇 为溶剂， 以to produce 2-bromo-1-spiro[4.5]dec-8-yl-ethanone (120 mg)的产率得到2-bromo-1-(spiro[4.5]dec-8-yl)ethanone
  参考文献：
  名称：

  Substituted Aminothiazole Derivatives, Pharmaceutical Compositions, And Methods Of Use

  摘要：

  替代氨噻唑衍生物，其制备方法，含有替代氨噻唑的药物组合物，以及在治疗人类或动物疾病中使用的方法。这些化合物可能有用作为AgRP对黑色素皮质素受体的作用抑制剂，因此可能有用于管理、治疗、控制或辅助治疗可能对黑色素皮质素受体调节敏感的疾病，包括与肥胖相关的疾病。

  公开号：

  US20100056587A1
• 作为产物：
  描述：

  1,1-环戊烷二乙酸 在 硼烷四氢呋喃络合物 、 三溴化磷 、 sodium hydride 作用下， 以 四氢呋喃 、 二氯甲烷 、 N,N-二甲基甲酰胺 、 mineral oil 为溶剂， 反应 0.33h， 生成 1-(spiro[4.5]dec-8-yl)ethanone
  参考文献：
  名称：

  [EN] SUBSTITUTED AMINOTHIAZOLE DERIVATIVES, PHARMACEUTICAL COMPOSITIONS, AND METHODS OF USE
  [FR] DÉRIVÉS D'AMINOTHIAZOLE SUBSTITUÉS, COMPOSITIONS PHARMACEUTIQUES ET LEURS PROCÉDÉS D'UTILISATION

  摘要：

  替代氨基噻唑衍生物，其制备方法，含有替代氨基噻唑的药物组合物，以及在治疗人类或动物疾病中的使用方法。这些化合物可能作为AgRP对黑色素皮质素受体作用的抑制剂而有用，因此可能有助于管理、治疗、控制或辅助治疗对黑色素皮质素受体调节敏感的疾病，包括与肥胖相关的疾病。

  公开号：

  WO2010025142A1

文献信息

• [EN] PRODRUGS OF 4'-C-SUBSTITUTED-2-HALO-2'-DEOXYADENOSINE NUCLEOSIDES AND METHODS OF MAKING AND USING THE SAME<br/>[FR] PROMÉDICAMENTS DE NUCLÉOSIDES DE 4'-C-SUBSTITUÉ-2-HALO-2'-DÉSOXYADÉNOSINE ET LEURS PROCÉDÉS DE FABRICATION ET D'UTILISATION
  申请人：GILEAD SCIENCES INC

  公开号：WO2021188959A1

  公开（公告）日：2021-09-23

  The present disclosure provides prodrugs of 4'-C-substituted-2- halo-2'-deoxyadenoside nucleosides, and compositions, methods and kits thereof. Such compounds can be useful for treating viral infections including, human immunodeficiency virus. The compounds have the following formula (I).

  本公开提供了4'-C-取代-2-卤-2'-脱氧腺苷核苷的前药，以及其组合物、方法和试剂盒。这些化合物可用于治疗包括人类免疫缺陷病毒在内的病毒感染。这些化合物具有以下化学式（I）。
• Acid-sensitive compound and resin composition for photoresist
  申请人：Daicel Chemical Industries, Ltd.

  公开号：US20030180662A1

  公开（公告）日：2003-09-25

  The photoresist resin composition comprises a polymer containing an acid-responsive compound unit of the following formula (e.g. an adamantane skeleton) and a photoactive acid precursor. R 1 may be an alkyl group having a tertiary carbon atom in the 1-position and the Z ring is a bridged-ring hydrocarbon ring comprising 2 to 4 rings. 1 wherein R 1 and R 2 are the same or different from each other and each represents a hydrogen atom, an alkyl group or a cycloalkyl group; R 3 represents a hydrogen atom or a methyl group; R 4 represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an oxygen-containing group, an amino group or an N-substituted amino group; the Z ring represents a monocyclic or polycyclic alicyclic hydrocarbon ring; n represents an integer of not less than 1; with proviso that R 4 does not concurrently represent a hydrogen atom, and may be different over n occurrences; in formula (1), R 1 and R 2 may, jointly and together with the adjacent carbon atom, form an alicyclic hydrocarbon ring. The above photoresist resin composition is high in etching resistance, can be solubilized by irradiation, and is capable of providing a finer line pattern.

  照片阻聚合物组成包括聚合物和光活性酸前体，其中聚合物含有以下式子的酸响应化合物单元（例如，金刚烷骨架）：R1可以是1-位具有三级碳原子的烷基基团，Z环是由2至4个环组成的桥环烃环。其中，R1和R2相同或不同，每个表示氢原子、烷基或环烷基；R3表示氢原子或甲基基团；R4表示氢原子、卤素原子、烷基、含氧基团、氨基或N-取代氨基；Z环表示单环或多环脂环烃环；n表示不小于1的整数；但是R4不能同时表示氢原子，在n次出现时可以不同；在式（1）中，R1和R2可以与相邻碳原子共同形成脂环烃环。上述照片阻聚合物组成具有高蚀刻抗性，可以通过辐射溶解，并能够提供更细的线型图案。
• Substituted Aminothiazole Derivatives, Pharmaceutical Compositions, And Methods Of Use
  申请人：Mjalli Adnan M. M.

  公开号：US20100056587A1

  公开（公告）日：2010-03-04

  Substituted aminothiazole derivatives, methods of their preparation, pharmaceutical compositions comprising a substituted aminothiazole, and methods of use in treating human or animal disorders. The compounds may be useful as inhibitors of action of AgRP on a melanocortin receptor and thus may be useful for the management, treatment, control, or the adjunct treatment of diseases which may be responsive to the modulation of melanocortin receptors including obesity-related disorders.

  替代氨噻唑衍生物，其制备方法，含有替代氨噻唑的药物组合物，以及在治疗人类或动物疾病中使用的方法。这些化合物可能有用作为AgRP对黑色素皮质素受体的作用抑制剂，因此可能有用于管理、治疗、控制或辅助治疗可能对黑色素皮质素受体调节敏感的疾病，包括与肥胖相关的疾病。
• ACID-SENSITIVE COMPOUND AND RESIN COMPOSITION FOR PHOTORESIST
  申请人：Daichel Chemical Industries Ltd

  公开号：EP1000924A1

  公开（公告）日：2000-05-17

  The photoresist resin composition comprises a polymer containing an acid-responsive compound unit of the following formula (e.g. an adamantane skeleton) and a photoactive acid precursor. R1 may be an alkyl group having a tertiary carbon atom in the 1-position and the Z ring is a bridged-ring hydrocarbon ring comprising 2 to 4 rings.    wherein R1 and R2 are the same or different from each other and each represents a hydrogen atom, an alkyl group or a cycloalkyl group; R3 represents a hydrogen atom or a methyl group; R4 represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an oxygen-containing group, an amino group or an N-substituted amino group; the Z ring represents a monocyclic or polycyclic alicyclic hydrocarbon ring; n represents an integer of not less than 1; with proviso that R4 does not concurrently represent a hydrogen atom, and may be different over n occurrences; in formula (1), R1 and R2 may, jointly and together with the adjacent carbon atom, form an alicyclic hydrocarbon ring. The above photoresist resin composition is high in etching resistance, can be solubilized by irradiation, and is capable of providing a finer line pattern.

  光致抗蚀剂树脂组合物包括含有下式酸响应化合物单元（如金刚烷骨架）和光活性酸前体的聚合物。R1 可以是在 1 位上有一个叔碳原子的烷基，Z 环是由 2 至 4 个环组成的桥环烃环。 其中 R1 和 R2 彼此相同或不同，各自代表氢原子、烷基或环烷基；R3 代表氢原子或甲基；R4 代表氢原子、卤素原子、烷基、含氧基团、氨基或 N-取代氨基；在式(1)中，R1 和 R2 可与相邻碳原子共同形成脂环烃环。上述光刻胶树脂组合物具有很高的抗蚀刻性，可通过辐照溶解，并能提供更精细的线条图案。
• Photoresist copolymer
  申请人：Daicel Chemical Industries, Ltd.

  公开号：EP1445266A2

  公开（公告）日：2004-08-11

  A photoresist copolymer comprising    a monomer unit corresponding to a monomer represented by the following formula (11a) or (12a):    wherein R1 and R2 are the same or different and each represents a C1-4alkyl group, and R3 represents a hydrogen atom or methyl group; and    a lactone ring-containing monomer unit.

  一种光阻共聚物，包括 与下式（11a）或（12a）所代表的单体相对应的单体单元： 其中 R1 和 R2 相同或不同，各自代表 C1-4 烷基，R3 代表氢原子或甲基；以及 含内酯环的单体单元。