2-(4-Propan-2-ylphenyl)propane-2-thiol

• 分子结构分类: 有机化合物 - 脂质和类脂质分子 - 异戊烯醇脂质
• 英文名称: 2-(4-Propan-2-ylphenyl)propane-2-thiol
• 英文别名: 2-(4-propan-2-ylphenyl)propane-2-thiol
• 化学式: C₁₂H₁₈S
• 分子量: 194.34
• InChiKey: DAJDOJIZBQSDFV-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.7
• 重原子数：
  13
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.5
• 拓扑面积：
  1
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  1

文献信息

• PHOTOSENSITIVE COMPOSITION FOR EUV LIGHT, PATTERN FORMATION METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE
  申请人：FUJIFILM CORPORATION

  公开号：EP3783434A1

  公开（公告）日：2021-02-24

  Provided are a photosensitive composition for EUV light, which has a good Z-factor and is capable of forming a pattern having a suppressed bridge defect, a pattern forming method, and a method for manufacturing an electronic device. The photosensitive composition for EUV light includes a predetermined resin and a photoacid generator, or includes a predetermined resin having a repeating unit having a photoacid generating group, and satisfies Requirements 1 to 3, Requirement 1: The A value determined by Formula (1) is 0.14 or more, A=H×0.04+C×1.0+N×2.1+O×3.6+F×5.6+S×1.5+I×39.5/H×1+C×12+N×14+O×16+F×19+S×19+S×32+I×127 Requirement 2: The concentration of solid contents in the photosensitive composition for EUV light is 5.0% by mass or less, Requirement 3: The content of the photoacid generator is 5% to 50% by mass with respect to the total solid content in the photosensitive composition for EUV light.

  本发明提供了一种具有良好 Z 因子并能形成具有被抑制的桥接缺陷的图案的 EUV 光用光敏组合物、一种图案形成方法以及一种制造电子设备的方法。超紫外光用光敏组合物包括预定树脂和光酸发生器，或包括具有光酸发生基团的重复单元的预定树脂，并满足要求 1 至 3、 要求 1：由式（1）确定的 A 值为 0.14 或以上，A=H×0.04+C×1.0+N×2.1+O×3.6+F×5.6+S×1.5+I×39.5/H×1+C×12+N×14+O×16+F×19+S×19+S×32+I×127 要求 2：EUV 光的感光成分中固体含量的质量浓度不超过 5.0%、 要求 3：光酸发生器的含量占极紫外光感光成分中固体总含量的 5%至 50%。
• [EN] ACTINIC-RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, ACTINIC-RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE FILM, PATTERN FORMATION METHOD, AND ELECTRONIC DEVICE MANUFACTURING METHOD<br/>[FR] COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE AUX RAYONS ACTINIQUES OU SENSIBLE AU RAYONNEMENT, FILM SENSIBLE AUX RAYONS ACTINIQUES OU SENSIBLE AU RAYONNEMENT, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE<br/>[JA] 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜、パターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法
  申请人：FUJIFILM CORP

  公开号：WO2021131655A1

  公开（公告）日：2021-07-01

  本発明は、特定の環構造を有する繰り返し単位（ａ１）を含有する樹脂（Ａ）と、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物（Ｂ）と、活性光線又は放射線の照射により分解して酸捕捉性が低下する特定の化合物（Ｃ）と、を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、上記感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いて形成された感活性光線性又は感放射線性樹脂膜、上記感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いるパターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法を提供する。