6-羟基双环[2.2.1]庚烷-2-羧酸 | 258345-33-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 脂质和类脂质分子 - 异戊烯醇脂质
• 中文名称: 6-羟基双环[2.2.1]庚烷-2-羧酸
• 英文名称: 6-Hydroxybicyclo[2.2.1]heptane-2-carboxylic acid
• CAS: 258345-33-4
• 化学式: C₈H₁₂O₃
• mdl: MFCD00101477
• 分子量: 156.18
• InChiKey: CDWUOMPODCPJRS-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0.3
• 重原子数：
  11
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.875
• 拓扑面积：
  57.5
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  3

文献信息

• Positive photoresist composition
  申请人：FUJI PHOTO FILM CO., LTD.

  公开号：US20030044715A1

  公开（公告）日：2003-03-06

  A positive photoresist composition comprises: a compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation, in which the compound contains (A1) a sulfonate compound of a sulfonium, and (A2) a sulfonate compound of an N-hydroxyimide or a disulfonyldiazomethane compound; and a resin capable of decomposing by the action of an acid to increase the solubility in an alkali developing solution, in which the resin contains a repeating unit having a specific lactone structure.

  一种正性光刻胶组合物包括：一种在光射线或辐射照射下能够产生酸的化合物，其中该化合物包含（A1）一种锍的磺酸盐化合物和（A2）一种 N-羟基亚胺或二磺酰二氮甲烷化合物的磺酸盐化合物；以及一种能够在酸的作用下分解以增加在碱显影液中溶解度的树脂，其中该树脂包含具有特定内酯结构的重复单元。
• US6692884B2
  申请人：——

  公开号：US6692884B2

  公开（公告）日：2004-02-17