3-Butyl-1,7-dioxa-spiro[5.5]undec-2-ene | 187218-74-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: 3-Butyl-1,7-dioxa-spiro[5.5]undec-2-ene
• 英文别名: 3-Butyl-1,7-dioxaspiro[5.5]undec-2-ene
• CAS: 187218-74-2
• 化学式: C₁₃H₂₂O₂
• 分子量: 210.316
• InChiKey: ZCJSXJPTHSYYMV-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.3
• 重原子数：
  15
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.85
• 拓扑面积：
  18.5
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  3-Butyl-1,7-dioxa-spiro[5.5]undec-2-ene 在 camphor-10-sulfonic acid 正丁基锂 、 二甲基二环氧乙烷 、 4-甲基苯磺酸吡啶 、 potassium carbonate 、 N,N-二异丙基乙胺 作用下， 以 四氢呋喃 、 甲醇 、 正己烷 、 二氯甲烷 、 丙酮 为溶剂， 反应 47.0h， 生成 (2R,3R,6S)-3-Butyl-2-ethynyl-3-methoxymethoxy-1,7-dioxa-spiro[5.5]undecane
  参考文献：
  名称：

  表皮生长因子抑制剂（-）-reveromycin B的全合成。

  摘要：

  描述了由手性亚甲基吡喃13在25个线性步骤中表皮生长因子抑制剂reveromycin B（2）的总合成。关键步骤涉及亲二烯体13和二烯12之间的逆电子需求异Diels-Alder反应，以构建6,6-螺酮11，在被二甲基二环氧乙烷氧化和酸催化的重排后，得到5,6-螺酮醛9。乙炔化锂加入后再进行氧化/还原和保护基操作，提供了白霉素B螺环酮核心8，将其转化为白霉素A（1）衍生物6以确认螺环酮区段的立体化学。C1-C10侧链的引入始于连续的Wittig反应，以形成C8-C9和C7-C6键，锡介导的不对称羟醛反应安装了C4和C5立体中心。靶分子2的最终关键步骤涉及Stille偶联以引入C21-C22键，琥珀酰化，选择性脱保护，氧化和Wittig缩合以形成最终的C2-C3键。通过在DMF中的TBAF进行脱保护，以72％的收率得到Reveromycin B（2）。

  DOI：

  10.1021/jo001646c
• 作为产物：
  描述：

  2-(chloromethyl)tetrahydropyran 在 氢氧化钾 、 三乙胺 作用下， 反应 51.5h， 生成 3-Butyl-1,7-dioxa-spiro[5.5]undec-2-ene
  参考文献：
  名称：

  表皮生长因子抑制剂（-）-reveromycin B的全合成。

  摘要：

  描述了由手性亚甲基吡喃13在25个线性步骤中表皮生长因子抑制剂reveromycin B（2）的总合成。关键步骤涉及亲二烯体13和二烯12之间的逆电子需求异Diels-Alder反应，以构建6,6-螺酮11，在被二甲基二环氧乙烷氧化和酸催化的重排后，得到5,6-螺酮醛9。乙炔化锂加入后再进行氧化/还原和保护基操作，提供了白霉素B螺环酮核心8，将其转化为白霉素A（1）衍生物6以确认螺环酮区段的立体化学。C1-C10侧链的引入始于连续的Wittig反应，以形成C8-C9和C7-C6键，锡介导的不对称羟醛反应安装了C4和C5立体中心。靶分子2的最终关键步骤涉及Stille偶联以引入C21-C22键，琥珀酰化，选择性脱保护，氧化和Wittig缩合以形成最终的C2-C3键。通过在DMF中的TBAF进行脱保护，以72％的收率得到Reveromycin B（2）。

  DOI：

  10.1021/jo001646c

文献信息

• Synthetic Studies toward the Reveromycins:  Asymmetric Synthesis of the Spiroketal Segment of Reveromycin B
  作者：Kenneth J. McRae、Mark A. Rizzacasa

  DOI：10.1021/jo962316o

  日期：1997.3.1