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azabenzonaphthofuran | 195-59-5

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
azabenzonaphthofuran
英文别名
benznaphthoxazole;Phenanthro[4,3-d]oxazole;naphtho[1,2-e][1,3]benzoxazole
azabenzonaphthofuran化学式
CAS
195-59-5
化学式
C15H9NO
mdl
——
分子量
219.243
InChiKey
WQPSOFUZBLSRCC-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    4.3
  • 重原子数:
    17
  • 可旋转键数:
    0
  • 环数:
    4.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.0
  • 拓扑面积:
    26
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    2

反应信息

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文献信息

  • Image formation method
    申请人:——
    公开号:US20030108824A1
    公开(公告)日:2003-06-12
    An image formation method comprising exposing a photothermographic material 10 having an image-forming layer and a back layer with a light having a wavelength of 700-850 nm and subjecting it to development in a heat development apparatus provided with a preheating section A, a heat development section B and a gradual cooling section C, wherein the photothermographic material 10 has at least one coated layer obtained by applying a coating solution containing 20 weight % or more of an organic solvent, and the heat development section B is provided with heating members 15 on image-forming layer side 10 a and back layer side 10 b and transportation rollers only on the image-forming layer side 10 a with respect to the photothermographic material 10 to be transported in the apparatus. There is provided an image formation method utilizing a photothermographic material, which can form images showing less generation of density unevenness, high contrast and high maximum density without causing physical deformation.
    一种图像形成方法,包括使用波长为700-850纳米的光照射具有成像层和背层的光热材料10,并将其置于具有预热部分A、热发展部分B和逐渐冷却部分C的热发展设备中进行开发。其中,光热材料10至少具有一层涂布层,该涂布层是通过涂布溶液制备的,该涂布溶液含有20重量%或更多的有机溶剂,热发展部分B在与将在设备中传输的光热材料10的成像层面10a和背层面10b相对应的仅在成像层面10a上具有加热元件15和传送辊。提供了一种利用光热材料的图像形成方法,该方法可以形成显示较少密度不均匀性、高对比度和高最大密度的图像,而不会引起物理变形。
  • Thermally developable photosensitive material
    申请人:KONICA CORPORATION
    公开号:EP0949537A2
    公开(公告)日:1999-10-13
    A thermally developable photosensitive material is disclosed. The thermally developable photosensitive material comprises at least one of dye represented by Formula I-a through I-d and at least one of compound represented by Formula 2. The chemical formula is described in the specification.
    本发明公开了一种热显影感光材料。该热显影感光材料包括至少一种由式 I-a 至 I-d 所代表的染料和至少一种由式 2 所代表的化合物。化学式见说明书。
  • US6214533B1
    申请人:——
    公开号:US6214533B1
    公开(公告)日:2001-04-10
  • US7488572B2
    申请人:——
    公开号:US7488572B2
    公开(公告)日:2009-02-10
  • US7666809B2
    申请人:——
    公开号:US7666809B2
    公开(公告)日:2010-02-23
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