methyl-tri-O-methyl-arabinofuranoside

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: methyl-tri-O-methyl-arabinofuranoside
• 英文别名: Methyl-tri-O-methyl-arabinofuranosid；Methyl tri-O-methyl-beta-D-ribofranoside；2,3,4-trimethoxy-5-(methoxymethyl)oxolane
• 化学式: C₉H₁₈O₅
• 分子量: 206.239
• InChiKey: GGXQVNLZJSOZBN-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -0.4
• 重原子数：
  14
• 可旋转键数：
  5
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  46.2
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  5

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  methyl-tri-O-methyl-arabinofuranoside 在 盐酸 作用下， 生成 O²,O³,O⁵-Trimethyl-arabinose
  参考文献：
  名称：

  Purdie; Rose, Journal of the Chemical Society, 1906, vol. 89, p. 1208

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  甲基 alpha-D-阿拉伯呋喃糖苷 、 碘甲烷 在 silver(l) oxide 作用下， 生成 methyl-tri-O-methyl-arabinofuranoside
  参考文献：
  名称：

  Purdie; Rose, Journal of the Chemical Society, 1906, vol. 89, p. 1208

  摘要：

  DOI：

文献信息

• TANNIN INHIBITORS OF HIV
  申请人：UNIVERSITY OF IOWA RESEARCH FOUNDATION

  公开号：US20130252909A1

  公开（公告）日：2013-09-26

  The invention provides a method to prevent or treat HIV-infection with synthetic tannins, and pharmaceutical compositions comprising synthetic tannins.

  这项发明提供了一种利用合成单宁预防或治疗HIV感染的方法，以及包含合成单宁的药物组合物。
• Compositions and methods for removing ceria particles from a surface
  申请人：Entegris, Inc.

  公开号：US11164738B2

  公开（公告）日：2021-11-02

  A removal composition and process for cleaning post-chemical mechanical polishing (CMP) contaminants and ceria particles from a microelectronic device having said particles and contaminants thereon. The composition achieves highly efficacious removal of the ceria particles and CMP contaminant material from the surface of the microelectronic device without compromising the low-k dielectric, silicon nitride, or tungsten-containing materials.

  一种清除组合物和工艺，用于清除微电子器件上的化学机械抛光（CMP）后污染物和铈微粒。该组合物能高效清除微电子设备表面的铈颗粒和 CMP 污染物，同时不会损害低介电系数、氮化硅或含钨材料。
• POST-CMP FORMULATION HAVING IMPROVED BARRIER LAYER COMPATIBILITY AND CLEANING PERFORMANCE
  申请人：Entegris, Inc.

  公开号：EP2828371A1

  公开（公告）日：2015-01-28
• AQUEOUS CLEAN SOLUTION WITH LOW COPPER ETCH RATE FOR ORGANIC RESIDUE REMOVAL IMPROVEMENT
  申请人：Advanced Technology Materials, Inc.

  公开号：EP2850651A2

  公开（公告）日：2015-03-25
• COPPER CLEANING AND PROTECTION FORMULATIONS
  申请人：Advanced Technology Materials, Inc.

  公开号：EP2989231A1

  公开（公告）日：2016-03-02