| 65523-25-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 碳氢化合物 - 不饱和烃
• CAS: 65523-25-3
• 化学式: C₂₄H₂₇Ge
• 分子量: 388.068
• InChiKey: WUAKHRHXHSIGCO-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.05
• 重原子数：
  25.0
• 可旋转键数：
  3.0
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.25
• 拓扑面积：
  0.0
• 氢给体数：
  0.0
• 氢受体数：
  0.0

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  生成 Digermane, hexakis(2,6-dimethylphenyl)-
  参考文献：
  名称：

  NEUMANN, W. P.;SCHULTZ, K. -D.;VIELER, R., J. ORGANOMET. CHEM., 1984, 264, N 1-2, 179-191

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  Digermane, hexakis(2,6-dimethylphenyl)- 生成
  参考文献：
  名称：

  NEUMANN, W. P.;SCHULTZ, K. -D.;VIELER, R., J. ORGANOMET. CHEM., 1984, 264, N 1-2, 179-191

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Triaryl-silyl, -germyl, and -stannyl radicals .MAr3 (M = Si, Ge, or Sn and Ar = 2,4,6-Me3C6H2) and .Ge(2,6-Me2C6H3)3: Synthesis and ESR studies
  作者：Michael J.S. Gynane、Michael F. Lappert、Paul I. Riley、Piérre Rivière、Monique Rivière-Baudet

  DOI：10.1016/s0022-328x(00)81378-9

  日期：1980.12

  have been prepared from the appropriate triarylmetal chloride, MAr3Cl, and an electron-rich olefin [R]2 (R = Me or Et) under UV irradiation in toluene at low temperature. The triarylgermyl radicals are persistent (t > 24 h, 20°C) whilst the analogous tin and silicon radicals are only stable under constant irradiation at temperatures below −20°C; the ESR spectra of the germanium radicals and of .Si(2

  以三芳基金属为中心的自由基。MAr 3（M = Si，Ge或Sn; Ar = 2,6-Me 2 C 6 H 3或2,4,6-Me 3 C 6 H 2）已由适当的三芳基金属氯化物MAr 3 Cl制备，以及在低温下在甲苯中紫外线照射下的富电子烯烃[ R] 2（R = Me或Et）。三芳基锗烷基自由基具有持久性（t > 24 h，20°C），而类似的锡和硅自由基仅在低于-20°C的恒定辐射下稳定。锗自由基和锗的ESR谱。Si（2,4,6-Me 3C 6 H 2）3（它是第一个被光谱鉴定的三芳基甲硅烷基基团）显示出所有质子偶合的等价等效物，这是由于芳族环扭曲成围绕金属的“螺旋桨”排列所致。还报道了这些自由基的前体的合成和表征。