2-丙氧基丁烷 | 61962-23-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 中文名称: 2-丙氧基丁烷
• 英文名称: 2-Propoxy-butane
• 英文别名: 2-Propoxybutane
• CAS: 61962-23-0
• 化学式: C₇H₁₆O
• 分子量: 116.203
• InChiKey: NKCLBERXLKOMPK-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  -95.35°C (estimate)
• 沸点：
  117.3°C (estimate)
• 密度：
  0.7684 (estimate)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.3
• 重原子数：
  8
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  9.2
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

安全信息

• 海关编码：
  2909199090

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  烯丙基仲丁基醚 在 二氯二茂锆 盐酸 、 lithium aluminium tetrahydride 作用下， 生成 2-丙氧基丁烷
  参考文献：
  名称：

  Sato, Fumie; Tomuro, Yasuji; Ishikawa, Hiroaki, Chemistry Letters, 1980, p. 99 - 102

  摘要：

  DOI：

文献信息

• POLYOL ETHERS AND PROCESS FOR MAKING THEM
  申请人：Tulchinsky Michael L.

  公开号：US20100048940A1

  公开（公告）日：2010-02-25

  New polyol ether compounds and a process for their preparation. The process comprises reacting a polyol, a carbonyl compound, and hydrogen in the presence of hydrogenation catalyst, to provide the polyol ether. The molar ratio of polyol to carbonyl compound in the process is greater than 5:1.

  新的聚醚醇化合物及其制备方法。该方法包括在氢化催化剂存在下，使聚醇、羰基化合物和氢发生反应，从而提供聚醚醇。在该过程中，聚醇与羰基化合物的摩尔比大于5:1。
• [EN] SUBSTITUTED 4-AZAINDOLES AND THEIR USE AS GLUN2B RECEPTOR MODULATORS<br/>[FR] 4-AZAINDOLES SUBSTITUÉS ET LEUR UTILISATION COMME MODULATEURS DU RÉCEPTEUR DE GLUN2B
  申请人：JANSSEN PHARMACEUTICA NV

  公开号：WO2017007938A1

  公开（公告）日：2017-01-12

  Substituted 4-azaindoles as NR2B receptor ligands. Such compounds may be used in NR2B receptor modulation and in pharmaceutical compositions and methods for the treatment of disease states, disorders, and conditions mediated by NR2B receptor activity.

  将4-氮杂吲哚作为NR2B受体配体。这类化合物可用于NR2B受体调节以及用于治疗由NR2B受体活性介导的疾病状态、紊乱和病况的药物组合物和方法。
• ACID-LABILE ESTER MONOMER HAVING SPIROCYCLIC STRUCTURE, POLYMER, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Kinsho Takeshi

  公开号：US20100304295A1

  公开（公告）日：2010-12-02

  An acid-labile ester monomer of spirocyclic structure has formula (1) wherein Z is a monovalent group having a polymerizable double bond, X is a divalent group which forms a cyclopentane, cyclohexane or norbornane ring, R 2 is H or monovalent hydrocarbon, R 3 and R 4 are H or monovalent hydrocarbon, or R 3 and R 4 , taken together, stand for a divalent group which forms a cyclopentane or cyclohexane ring, and n is 1 or 2. A polymer obtained from the acid-labile ester monomer has so high reactivity in acid-catalyzed elimination reaction that the polymer may be used to formulate a resist composition having high resolution.

  一种酸敏感酯单体具有螺环结构，其化学式如下（1），其中Z是具有可聚合双键的一价基团，X是形成环戊烷、环己烷或诺邦烷环的二价基团，R2是H或一价碳氢基团，R3和R4是H或一价碳氢基团，或者R3和R4一起表示形成环戊烷或环己烷环的二价基团，n为1或2。从酸敏感酯单体获得的聚合物在酸催化消除反应中具有很高的反应性，因此可以用于制备具有高分辨率的抗蚀组合物。
• RESIST COMPOSITION, PATTERN FORMING PROCESS, POLYMER, AND MONOMER
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

  公开号：US20170184967A1

  公开（公告）日：2017-06-29

  A polymer comprising recurring units containing a specific lactone ring and having an alkyl group on γ-butyrolactone skeleton of fused ring lactone and an alkyl ester substituent group intervening between the lactone structure and the polymer backbone is provided. A resist composition comprising the polymer as base resin is improved in such properties as DOF margin and MEF and quite effective for precise micropatterning.

  提供一种聚合物，其中包含含有特定内酯环的重复单元，并且在融合环内酯的γ-丁内酯骨架上具有烷基基团，以及在内酯结构和聚合物主链之间具有烷基酯取代基团。以该聚合物为基础树脂的抗蚀组合物在DOF边缘和MEF等性能方面得到改善，并且非常有效用于精确微图案化。
• HEMIACETAL COMPOUND, POLYMER, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US20160238930A1

  公开（公告）日：2016-08-18

  A polymer for resist use is obtainable from a hemiacetal compound having formula (1 a ) wherein R 1 is H, CH 3 or CF 3 , R 2 to R 4 each are H or a monovalent hydrocarbon group, X 1 is a divalent hydrocarbon group, ZZ designates a non-aromatic mono- or polycyclic ring of 4 to 20 carbon atoms having a hemiacetal structure, k 1 =0 or 1, and k 2 =0 to 3. A resist composition comprising the polymer displays controlled acid diffusion and low roughness during both positive and negative tone developments.

  从具有以下式（1a）的半缩醛化合物获得用于抗蚀的聚合物，其中R1为H、CH3或CF3，R2至R4分别为H或单价碳氢基团，X1为二价碳氢基团，ZZ表示具有半缩醛结构的非芳香性4至20个碳原子的单环或多环环，k1=0或1，k2=0至3。包含该聚合物的抗蚀组合物显示出在正片和负片显影过程中控制酸扩散和低粗糙度。