trans-e,e-4-(2-hydroxyperfluoroisopropyl)cyclohexanol | 96318-89-7

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: trans-e,e-4-(2-hydroxyperfluoroisopropyl)cyclohexanol
• 英文别名: trans-e,e-4e-(2-hydroxyperfluoroisopropyl)cyclohexanol；trans-4-(2-hydroxyhexafluoroisopropyl)cyclohexanol
• CAS: 96318-89-7
• 化学式: C₉H₁₂F₆O₂
• 分子量: 266.183
• InChiKey: YJURVXBURBBCSV-IZLXSQMJSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.39
• 重原子数：
  17.0
• 可旋转键数：
  1.0
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  40.46
• 氢给体数：
  2.0
• 氢受体数：
  2.0

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  trans-e,e-4-(2-hydroxyperfluoroisopropyl)cyclohexanol 在 pyridinium chloroformate 作用下， 以 乙醚 、 二氯甲烷 为溶剂， 以87.5%的产率得到4-(2-hydroxyperfluoroisopropyl)cyclohexanone
  参考文献：
  名称：

  Zalesskaya, I. M.; Fialkov, Yu. A.; Parakhnenko, A. I., Journal of Organic Chemistry USSR (English Translation), 1987, vol. 23, # 10, p. 1890 - 1894

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  1,1,1,3,3,3-六氟-2-(4-羟基苯基)-2-丙醇 在 5% active carbon-supported ruthenium 、 氢气 作用下， 以 异丙醚 为溶剂， 反应 2.0h， 生成 trans-e,e-4-(2-hydroxyperfluoroisopropyl)cyclohexanol 、 cis-4-(2-hydroxyhexafluoroisopropyl)cyclohexanol
  参考文献：
  名称：

  JP5652286

  摘要：

  公开号：

文献信息

• Fialkov, Yu. A.; Struchkov, Yu. T.; Zalesskaya, I. M., Journal of general chemistry of the USSR, 1985, vol. 55, # 1, p. 125 - 130
  作者：Fialkov, Yu. A.、Struchkov, Yu. T.、Zalesskaya, I. M.、Yanovskii, A. I.、Kalinin, V. N.

  DOI：——

  日期：——
• POLYMERIZABLE TERTIARY ESTER COMPOUND, POLYMER, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

  公开号：US20130189620A1

  公开（公告）日：2013-07-25

  The present invention provides a polymerizable tertiary ester compound represented by the following general formula (1a) or (1b). There is provided a polymerizable ester compound useful as a monomer for a base resin of a resist composition having a high resolution and a reduced pattern edge roughness in photolithography using a high-energy beam such as an ArF excimer laser light as a light source, especially in immersion lithography, a polymer containing a polymer of the ester compound, a resist composition containing the polymer as a base resin, and a patterning process using the resist composition.
• US9040222B2
  申请人：——

  公开号：US9040222B2

  公开（公告）日：2015-05-26