3,3,4,4,5,5-hexamethylitetrahydropyran-2,6-dione | 115942-54-6

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 内酯类
• 英文名称: 3,3,4,4,5,5-hexamethylitetrahydropyran-2,6-dione
• 英文别名: hexamethylglutaric anydride；3,3,4,4,5,5-Hexamethyloxane-2,6-dione
• CAS: 115942-54-6
• 化学式: C₁₁H₁₈O₃
• 分子量: 198.262
• InChiKey: VZKSNWYVJVSSNW-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.6
• 重原子数：
  14
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.82
• 拓扑面积：
  43.4
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  3,3,4,4,5,5-hexamethylitetrahydropyran-2,6-dione 在 氨 、 水 、 sodium hydroxide 作用下， 以 乙醚 、 异丙醇 为溶剂， 反应 14.5h， 生成
  参考文献：
  名称：

  [EN] LOW REACTIVITY HYDROCARBON DISPERSING AGENTS IN THE AQUEOUS POLYMERIZATION OF FLUOROPOLYMERS
  [FR] AGENTS DISPERSANTS D'HYDROCARBURES À FAIBLE RÉACTIVITÉ DANS LA POLYMÉRISATION AQUEUSE DE FLUOROPOLYMÈRES

  摘要：

  一种在含有引发剂和烃分散剂的水介质中聚合至少一种氟单体以形成氟聚合物颗粒的过程。烃分散剂包括式I的化合物：R --- (XZ)n(I)，其中R是一个疏水烃基，包括一个或多个饱和或不饱和的非环烷基，所述一个或多个烷基中总CH3基占总CH3、CH2和CH基的百分比至少约为70％，所述疏水基不含有硅氧烷基；其中每个X可以相同或不同，表示离子亲水基；其中每个Z可以相同或不同，表示所述离子亲水基的一个或多个反离子；n为1到3。

  公开号：

  WO2022072693A1
• 作为产物：
  描述：

  1,1,2,2,3,3-hexamethylindane 在 rhodium(III) chloride hydrate 、 过碘酸 作用下， 以 四氯化碳 、 乙腈 为溶剂， 反应 4.0h， 生成 3,3,4,4,5,5-hexamethylitetrahydropyran-2,6-dione
  参考文献：
  名称：

  [EN] LOW REACTIVITY HYDROCARBON DISPERSING AGENTS IN THE AQUEOUS POLYMERIZATION OF FLUOROPOLYMERS
  [FR] AGENTS DISPERSANTS D'HYDROCARBURES À FAIBLE RÉACTIVITÉ DANS LA POLYMÉRISATION AQUEUSE DE FLUOROPOLYMÈRES

  摘要：

  一种在含有引发剂和烃分散剂的水介质中聚合至少一种氟单体以形成氟聚合物颗粒的过程。烃分散剂包括式I的化合物：R --- (XZ)n(I)，其中R是一个疏水烃基，包括一个或多个饱和或不饱和的非环烷基，所述一个或多个烷基中总CH3基占总CH3、CH2和CH基的百分比至少约为70％，所述疏水基不含有硅氧烷基；其中每个X可以相同或不同，表示离子亲水基；其中每个Z可以相同或不同，表示所述离子亲水基的一个或多个反离子；n为1到3。

  公开号：

  WO2022072693A1

文献信息

• BARAN, JANUSZ;MAYR, HERBERT, J. ORG. CHEM., 53,(1988) N 19, C. 4626-4628
  作者：BARAN, JANUSZ、MAYR, HERBERT

  DOI：——

  日期：——
• Resist Polymer, Process For Production Thereof, Resist Composition, And Process For Production Of Substrated With Patterns Thereon
  申请人：Momose Hikaru

  公开号：US20080032241A1

  公开（公告）日：2008-02-07

  A resist polymer (Y′), which is used as a resist resin in DUV excimer laser lithography, electron beam lithography, and the like, contains a polymer (Y) comprising: a constituent unit (A) having a lactone skeleton; a constituent unit (B) having an acid-eliminable group; a constituent unit (C) having a hydrophilic group; and a constituent unit (E) having a structure represented by the following formula (1), wherein a content of the constituent unit (E) is 0.3 mol % or more based on the total number of the constituent units of the resist polymer (Y′): [Chemical formula 1] in the formula (1), L is a divalent linear, branched, or cyclic C 1-20 hydrocarbon group which may have a substituent and/or a heteroatom; R 11 is a g-valent linear, branched, or cyclic C 120 hydrocarbon group which may have a substituent and/or a heteroatom; and g represents an integer of 1 to 24.
• US7196085B2
  申请人：——

  公开号：US7196085B2

  公开（公告）日：2007-03-27
• US8476401B2
  申请人：——

  公开号：US8476401B2

  公开（公告）日：2013-07-02
• Synthesis of hexamethylglutaric acid: an approach to compounds with adjacent quaternary carbon centers
  作者：Janusz Baran、Herbert Mayr

  DOI：10.1021/jo00254a052

  日期：1988.9