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N4-p-bromobenzoylamino-7-chloro-1-(2-deoxy-3,5-di-O-triisopropylsilyl-β-D-ribofuranosyl)imidazo[5',4':4,5]pyrido[2,3-d]pyrimidine | 1415666-52-2

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
N4-p-bromobenzoylamino-7-chloro-1-(2-deoxy-3,5-di-O-triisopropylsilyl-β-D-ribofuranosyl)imidazo[5',4':4,5]pyrido[2,3-d]pyrimidine
英文别名
——
N<sup>4</sup>-p-bromobenzoylamino-7-chloro-1-(2-deoxy-3,5-di-O-triisopropylsilyl-β-D-ribofuranosyl)imidazo[5',4':4,5]pyrido[2,3-d]pyrimidine化学式
CAS
1415666-52-2
化学式
C38H56BrClN6O4Si2
mdl
——
分子量
832.428
InChiKey
PJGDFHBKDLNWSS-DCMFLLSESA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    11.08
  • 重原子数:
    52.0
  • 可旋转键数:
    14.0
  • 环数:
    5.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.61
  • 拓扑面积:
    113.28
  • 氢给体数:
    1.0
  • 氢受体数:
    9.0

上下游信息

  • 上游原料
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

  • 作为反应物:
    参考文献:
    名称:
    实用的修饰后合成含4,7-二氨基咪唑并[5',4':4,5]吡啶[2,3- d ]嘧啶核苷的寡脱氧核苷酸
    摘要:
    我们在本文中描述了含有4,7-二氨基咪唑并[5',4':4,5]吡啶[2,3- d ]嘧啶核苷(ImN N)的寡脱氧核苷酸(ODN)的实际修饰后合成。因为在酸性条件下在其环外氨基上具有三苯甲酰基作为保护基的ImN N核苷单元在酸性条件下非常不稳定,所以有人建议在整个固相合成条件下将其糖苷键在ODN中裂解。作为一种替代方法,我们研究了含有ImN N单元的所需ODN的修饰后合成。从受保护的4-氨基-7-氯-1-(2-脱氧-β - d-核呋喃糖基)咪唑[5',4':4,5]吡啶[2,3- d ]嘧啶衍生物开始参照图1,检查了向相应的亚磷酰胺单元的转化。该p -bromobenzoyl组(p -BrBz)为4-氨基的最佳保护基团1,得到亚磷酰胺单元9的后修饰合成。在完成与受控孔玻璃(CPG)载体连接的ODN合成后,在55°C下用氢氧化铵处理该载体以除去保护基,将ODN从CPG载体上分离,并将7-氯
    DOI:
    10.1016/j.bmc.2012.10.035
  • 作为产物:
    描述:
    4-溴苯甲酰氯4-amino-7-chloro-1-(2-deoxy-3,5-di-O-triisopropylsilyl-β-D-ribofuranosyl)imidazo[5',4':4,5]pyrido[2,3-d]pyrimidineN,N-二异丙基乙胺sodium ethanolate 作用下, 以 二氯甲烷四氢呋喃乙醇 为溶剂, 反应 12.17h, 以80%的产率得到N4-p-bromobenzoylamino-7-chloro-1-(2-deoxy-3,5-di-O-triisopropylsilyl-β-D-ribofuranosyl)imidazo[5',4':4,5]pyrido[2,3-d]pyrimidine
    参考文献:
    名称:
    实用的修饰后合成含4,7-二氨基咪唑并[5',4':4,5]吡啶[2,3- d ]嘧啶核苷的寡脱氧核苷酸
    摘要:
    我们在本文中描述了含有4,7-二氨基咪唑并[5',4':4,5]吡啶[2,3- d ]嘧啶核苷(ImN N)的寡脱氧核苷酸(ODN)的实际修饰后合成。因为在酸性条件下在其环外氨基上具有三苯甲酰基作为保护基的ImN N核苷单元在酸性条件下非常不稳定,所以有人建议在整个固相合成条件下将其糖苷键在ODN中裂解。作为一种替代方法,我们研究了含有ImN N单元的所需ODN的修饰后合成。从受保护的4-氨基-7-氯-1-(2-脱氧-β - d-核呋喃糖基)咪唑[5',4':4,5]吡啶[2,3- d ]嘧啶衍生物开始参照图1,检查了向相应的亚磷酰胺单元的转化。该p -bromobenzoyl组(p -BrBz)为4-氨基的最佳保护基团1,得到亚磷酰胺单元9的后修饰合成。在完成与受控孔玻璃(CPG)载体连接的ODN合成后,在55°C下用氢氧化铵处理该载体以除去保护基,将ODN从CPG载体上分离,并将7-氯
    DOI:
    10.1016/j.bmc.2012.10.035
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