(2Z,4E)-3,5-diphenylpenta-2,4-dienoic acid | 81699-57-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯丙烷和聚酮 - 直链 1,3-二芳基丙烷
• 英文名称: (2Z,4E)-3,5-diphenylpenta-2,4-dienoic acid
• CAS: 81699-57-2
• 化学式: C₁₇H₁₄O₂
• 分子量: 250.297
• InChiKey: JRGCJVYWVYHYIR-SSLWBDRLSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.87
• 重原子数：
  19.0
• 可旋转键数：
  4.0
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  37.3
• 氢给体数：
  1.0
• 氢受体数：
  1.0

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  (2E,4E)-3,5-diphenylpenta-2,4-dienal 生成 (2Z,4E)-3,5-diphenylpenta-2,4-dienoic acid
  参考文献：
  名称：

  GRAVEL, D.;LEBOEUF, CH., CAN. J. CHEM., 1982, 60, N 5, 574-587

  摘要：

  DOI：

文献信息

• On the origin of regioselectivity in the photorearrangement of 4,4-diphenyl-2,5-cyclohexadiene systems. Synthesis and photochemistry of 4,4-diphenyl-γ-thiopyran and -γ-thiopyran-1,1-dioxide
  作者：Denis Gravel、Christian Leboeuf

  DOI：10.1139/v82-086

  日期：1982.3.1

  The synthesis from diphenylmethane of 4,4-diphenyl-γ-thiopyran and 4,4-diphenyl-γ-thiopyran-1,1-dioxide is described. Upon direct photolysis at 254 nm the γ-thiopyran derivative undergoes rearrangement to a mixture of 5,6-diphenyl-2-thiabicyclo-[3.1.0]hexene and 2,4-diphenyl-α-thiopyran. The corresponding 1,1-dioxide derivative on the other hand undergoes, upon direct photolysis at 254 nm or sensitized

  描述了从二苯基甲烷合成 4,4-二苯基-γ-噻喃和 4,4-二苯基-γ-噻喃-1,1-二氧化物。在 254 nm 处直接光解后，γ-噻喃衍生物发生重排，形成 5,6-二苯基-2-噻二环-[3.1.0] 己烯和 2,4-二苯基-α-噻喃的混合物。另一方面，相应的 1,1-二氧化物衍生物在 254 nm 处直接光解或敏化（丙酮）在 350 nm 处光解后重排为 6,6-diphenyl-2-thiabicyclo[3.1.0]hexene-2， 2-二氧化物伴随溶剂加成产物：3-甲氧基-4,4-二苯基-2,3-二氢-γ-噻喃-1,1-二氧化物。结果，连同在本系列中研究的 4,4-二苯基-γ-吡喃的观察结果，以及其他文献结果都根据 Zimmerman' 进行了合理化
• Polymers based on cinnamic acid as a bottom antireflective coating for 157 NM photolithography
  申请人：Hohle Christoph

  公开号：US20050170283A1

  公开（公告）日：2005-08-04

  A bottom antireflective coating for photolithography at 157 nm or less, where the bottom antireflective coating includes a crosslinkable polymer which contains cinnamic acid derivatives.
• US7405028B2
  申请人：——

  公开号：US7405028B2

  公开（公告）日：2008-07-29