1,4-dimethyl-6-oxabicyclo<3.2.1>octan-7-one | 77979-31-8

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 内酯类
• 英文名称: 1,4-dimethyl-6-oxabicyclo<3.2.1>octan-7-one
• 英文别名: 1,4-Dimethyl-6-oxabicyclo[3.2.1]octan-7-one
• CAS: 77979-31-8
• 化学式: C₉H₁₄O₂
• 分子量: 154.209
• InChiKey: UTGSTGAJOLFLCO-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.9
• 重原子数：
  11
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.89
• 拓扑面积：
  26.3
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1,4-dimethyl-6-oxabicyclo<3.2.1>octan-7-one 在 氯化亚砜 作用下， 以91.4%的产率得到3-chloro-1,4-dimethylcyclohexane-1-carboxylic acid
  参考文献：
  名称：

  Ismailov, A. G.; Rustamov, M. A.; Akhmedov, A. A., Journal of Organic Chemistry USSR (English Translation), 1980, p. 64 - 69

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  1,4-dimethylcyclohex-3-ene-1-carboxylic acid 在 硝基甲烷 、 zinc(II) chloride 作用下， 反应 6.0h， 以95%的产率得到1,4-dimethyl-6-oxabicyclo<3.2.1>octan-7-one
  参考文献：
  名称：

  Ismailov, A. G.; Rustamov, M. A.; Akhmedov, A. A., Journal of Organic Chemistry USSR (English Translation), 1980, p. 64 - 69

  摘要：

  DOI：

文献信息

• MONOMER HAVING ELECTRON-WITHDRAWING SUBSTITUENT AND LACTONE SKELETON, POLYMERIC COMPOUND, AND PHOTORESIST COMPOSITION
  申请人：Koyama Hiroshi

  公开号：US20100297555A1

  公开（公告）日：2010-11-25

  Disclosed is a monomer having an electron-withdrawing substituent and a lactone skeleton, represented by following Formula (1), wherein R a represents, e.g., a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms; R 1 represents, e.g., a halogen atom or an alkyl or haloalkyl group having 1 to 6 carbon atoms; “A” represents an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, oxygen atom, sulfur atom, or nonbonding; “m” denotes an integer of 0 to 8; Xs each represent an electron-withdrawing substituent; “n” denotes an integer of 1 to 9; and Y represents a bivalent organic group having 1 to 6 carbon atoms. The monomer is useful typically as a monomer component typically for a highly functional polymer, because, when the monomer is applied typically to a resist resin, the resin is satisfactory stable and resistant typically to chemicals, is highly soluble in organic solvents, and has improved hydrolyzability and/or solubility in water after hydrolysis.

  揭示了一种具有吸电子取代基和内酯骨架的单体，由以下式（1）表示，其中R代表，例如，氢原子或具有1至6个碳原子的烷基基团；R1代表，例如，卤素原子或具有1至6个碳原子的烷基或卤代烷基基团；“A”代表具有1至6个碳原子的烷基基团、氧原子、硫原子或非键合基团；“m”表示0至8的整数；Xs各自代表吸电子取代基；“n”表示1至9的整数；Y代表具有1至6个碳原子的二价有机基团。该单体通常用作高功能聚合物的单体组分，因为当该单体通常应用于抗蚀树脂时，树脂通常具有较高的稳定性和抗化学品性能，对有机溶剂具有较高的溶解性，并在水解后具有改善的水解性和/或水溶性。
• POLYMER COMPOUND, NEGATIVE RESIST COMPOSITION, LAMINATE, PATTERNING PROCESS, AND COMPOUND
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：EP3203319A1

  公开（公告）日：2017-08-09

  The present invention provides a polymer compound containing a repeating unit shown by the following general formula (1). There can be provided a polymer compound usable in a negative resist composition that can achieve high resolution of 50 nm or less and small LER and cause very few defects, a negative resist composition using the polymer compound, and a patterning process using the negative resist composition.

  本发明提供了一种含有以下通式（1）所示重复单元的聚合物化合物。本发明提供了一种可用于负型抗蚀剂组合物的聚合物化合物，该化合物可实现 50 nm 或更低的高分辨率和较小的 LER，并可造成极少的缺陷；还提供了一种使用该聚合物化合物的负型抗蚀剂组合物，以及一种使用该负型抗蚀剂组合物的图案化工艺。
• Rustamov, M. A.; Ismailov, A. G.; Akhmedova, R. Sh., Journal of Organic Chemistry USSR (English Translation), 1992, vol. 28, # 2.1, p. 242 - 246
  作者：Rustamov, M. A.、Ismailov, A. G.、Akhmedova, R. Sh.、Salmanov, V. A.、Amirov, Sh. A.

  DOI：——

  日期：——
• ISMAILOV A. G.; PYCTAMOB M. A.; AXMEDOV A. A., ZH. ORGAN. XIMII, 1980, 16, HO 1, 68-73
  作者：ISMAILOV A. G.、 PYCTAMOB M. A.、 AXMEDOV A. A.

  DOI：——

  日期：——
• ISMAILOV A. G.; PYCTAMOB M. A.; AXMEDOV A. A., ELMI EHSEHRLEHR. AZEHRB. UNIV. KIMIA ELMLEHRI CEP., NAUCH. TR. AZERB. YH-+
  作者：ISMAILOV A. G.、 PYCTAMOB M. A.、 AXMEDOV A. A.

  DOI：——

  日期：——