2-amino-quinoline-3-thiol | 98879-78-8

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 喹啉及其衍生物
• 英文名称: 2-amino-quinoline-3-thiol
• 英文别名: 2-Amino-chinolin-3-thiol；2-Aminoquinoline-3-thiol
• CAS: 98879-78-8
• 化学式: C₉H₈N₂S
• 分子量: 176.242
• InChiKey: MKJSKWYOPPGSHM-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  247-248 °C (decomp)
• 沸点：
  350.8±22.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.338±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2
• 重原子数：
  12
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  39.9
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2-amino-quinoline-3-thiol 在 水 作用下， 生成 2-methyl-thiazolo[4,5-b]quinoline
  参考文献：
  名称：

  Tanasescu; Denes, Chemische Berichte, 1958, vol. 91, p. 1601,1604

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  3,3'-disulfanediyl-bis-[2]quinolylamine 在 sodium selenide 作用下， 生成 2-amino-quinoline-3-thiol
  参考文献：
  名称：

  Tanasescu; Denes, Chemische Berichte, 1958, vol. 91, p. 1601,1604

  摘要：

  DOI：

文献信息

• PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND ADHESION ENHANCER
  申请人：TORAY INDUSTRIES, INC.

  公开号：EP1909142A1

  公开（公告）日：2008-04-09

  The present invention provides a photosensitive resin composition comprising (a) an alkali-soluble resin, (b) a silicon compound having a secondary aromatic amino group and an alkoxy group, and (c) at least one selected from a photopolymerization initiator, a photo acid generator and a photo base generator. According to the present invention, it is possible to obtain a photosensitive resin composition which remarkably enhances the adhesion property with a substrate after curing without deteriorating storage stability of a solution, and does not cause peeling of a fine pattern even upon development.

  本发明提供了一种光敏树脂组合物，它包含(a)碱溶性树脂，(b)具有仲芳香族氨基和烷氧基的硅化合物，以及(c)至少一种选自光聚合引发剂、光酸发生剂和光碱发生剂的物质。根据本发明，可以获得一种光敏树脂组合物，它在固化后可显著提高与基底的粘合性，而不会降低溶液的储存稳定性，即使在显影后也不会导致精细图案剥离。
• PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND ADHESION PROMOTER
  申请人：Yuba Tomoyuki

  公开号：US20090123867A1

  公开（公告）日：2009-05-14

  The present invention provides a photosensitive resin composition comprising (a) an alkali-soluble resin, (b) a silicon compound having a secondary aromatic amino group and an alkoxy group, and (c) at least one selected from a photopolymerization initiator, a photo acid generator and a photo base generator. According to the present invention, it is possible to obtain a photosensitive resin composition which remarkably enhances the adhesion property with a substrate after curing without deteriorating storage stability of a solution, and does not cause peeling of a fine pattern even upon development.
• US7977028B2
  申请人：——

  公开号：US7977028B2

  公开（公告）日：2011-07-12