(+/-)-2-(methoxymethyl)pentanoic acid | 69858-96-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 脂质和类脂质分子 - 脂肪酰基
• 英文名称: (+/-)-2-(methoxymethyl)pentanoic acid
• 英文别名: β-Methoxy-α-propyl-propionsaeure；2-(Methoxymethyl)pentanoic acid
• CAS: 69858-96-4
• 化学式: C₇H₁₄O₃
• 分子量: 146.186
• InChiKey: QPLWQZQYFUIXOD-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1
• 重原子数：
  10
• 可旋转键数：
  5
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.86
• 拓扑面积：
  46.5
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  (+/-)-2-(methoxymethyl)pentanoic acid 以 异丙醇 为溶剂， 生成 (2R)-2-(methoxymethyl)pentanoic acid 、 (2S)-2-(methoxymethyl)pentanoic acid
  参考文献：
  名称：

  布瓦西坦中间体的制备方法

  摘要：

  本发明公开了一种(R)‑4‑丙基‑4,5‑二氢呋喃‑2‑酮的制备方法，通过对羧酸化合物进行手性拆分，得到R构型羧酸化合物和S构型羧酸化合物；分别将R构型羧酸化合物和/或S构型羧酸化合物经反应得到(R)‑4‑丙基‑4,5‑二氢呋喃‑2‑酮。本发明的制备方法巧妙地设计了合成路线，将羧酸化合物经过拆分得到的两个光学纯异构体，分别经不同的反应路线综合利用，最终得到目标化合物，在保证光学纯度的同时提高了异构体的利用率，省去了对另一半异构体进行消旋化和再次拆分的繁琐步骤。

  公开号：

  CN108203419B
• 作为产物：
  描述：

  丙基丙二酸二乙酯 在 potassium tert-butylate 、 水 、 sodium hydroxide 作用下， 以 四氢呋喃 、 乙醇 、 N,N-二甲基甲酰胺 为溶剂， 反应 12.0h， 生成 (+/-)-2-(methoxymethyl)pentanoic acid
  参考文献：
  名称：

  布瓦西坦中间体的制备方法

  摘要：

  本发明公开了一种(R)‑4‑丙基‑4,5‑二氢呋喃‑2‑酮的制备方法，通过对羧酸化合物进行手性拆分，得到R构型羧酸化合物和S构型羧酸化合物；分别将R构型羧酸化合物和/或S构型羧酸化合物经反应得到(R)‑4‑丙基‑4,5‑二氢呋喃‑2‑酮。本发明的制备方法巧妙地设计了合成路线，将羧酸化合物经过拆分得到的两个光学纯异构体，分别经不同的反应路线综合利用，最终得到目标化合物，在保证光学纯度的同时提高了异构体的利用率，省去了对另一半异构体进行消旋化和再次拆分的繁琐步骤。

  公开号：

  CN108203419B

文献信息

• RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN
  申请人：TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.

  公开号：US20170371241A1

  公开（公告）日：2017-12-28

  A resist composition containing a resin component having a structural unit represented by general formula (a0-1), and a compound represented by general formula (b1). In general formula (a0-1), R is a hydrogen atom, an alkyl group, or a halogenated alkyl group. Va 1 is a divalent hydrocarbon group. n a1 represents an integer of 0 to 2. Ra′ 12 and Ra′ 13 are a monovalent chain saturated hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms or a hydrogen atom. Ra′ 14 is a phenyl group, a naphthyl group, or an anthryl group. In general formula (b1), R b1 represents a cyclic hydrocarbon group. Y b1 represents a divalent linking group containing an ester bond. V b1 represents an alkylene group, a fluorinated alkylene group, or a single bond. m is an integer of 1 or more, and M m+ is an m-valent organic cation.

  一种电阻组分，包含具有一般式（a0-1）所代表的结构单元的树脂组分，以及一种由一般式（b1）所代表的化合物。在一般式（a0-1）中，R是氢原子、烷基或卤代烷基。Va1是双价碳氢基团。na1表示0至2的整数。Ra′12和Ra′13是具有1至10个碳原子的单价链饱和碳氢基团或氢原子。Ra′14是苯基、萘基或蒽基。在一般式（b1）中，Rb1代表环烃基。Yb1代表含有酯键的双价连接基团。Vb1代表烷基、氟化烷基或单键。m是1或更多的整数，Mm+是m价有机阳离子。
• RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, ACID GENERATOR AND COMPOUND
  申请人：TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.

  公开号：US20170176855A1

  公开（公告）日：2017-06-22

  A resist composition which generates acid upon exposure and exhibits changed solubility in a developing solution under action of acid, and which includes a base component (A) which exhibits changed solubility in a developing solution under action of acid and an acid-generator component (B) which generates acid upon exposure, the acid-generator component (B) including a compound (B1) represented by general formula (b1) shown below (in general formula (b1), R b1 represents a bridged alicyclic group having 7 to 30 carbon atoms and containing a polar group; Y b1 represents a linear hydrocarbon group of 9 or more carbon atoms which may have a substituent excluding at least one member selected from the group consisting of an aromatic hydrocarbon group and a vinyl group; V b1 represents a fluorinated alkylene group; m represents an integer of 1 or more; and M m+ represents an organic cation having a valency of m). R b1 —Y b1 —V b1 —SO 3 − (M m+ ) 1/m (b1)

  一种抗蚀组合物，在暴露后产生酸，并在酸的作用下在显影溶液中表现出改变的溶解度，包括在酸的作用下在显影溶液中表现出改变的溶解度的基组分（A）和在暴露后产生酸的酸生成组分（B），其中酸生成组分（B）包括下面所示的一般式（b1）表示的化合物（B1）（在一般式（b1）中，Rb1代表具有7至30个碳原子并含有极性基团的桥环脂环基团；Yb1代表具有9个或更多碳原子的线性烃基团，可能具有一个取代基，但不包括由芳香烃基团和乙烯基组成的至少一种成员；Vb1代表氟代烷基烯基团；m表示1或更多的整数；Mm+代表价数为m的有机阳离子）。Rb1—Yb1—Vb1—SO3−(Mm+)1/m（b1）
• RESIST COMPOSITION, METHOD OF FORMING RESIST PATTERN, AND COMPOUND
  申请人：TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.

  公开号：US20200174365A1

  公开（公告）日：2020-06-04

  A resist composition containing a base material component of which solubility in a developing solution is changed due to an action of an acid and a compound represented by Formula (bd1); in the formula, R bd1 to R bd3 each independently represent an aryl group which may have a substituent, provided that one or more of R bd1 to R bd3 are aryl groups having a fluorinated alkyl group which may have a substituent, and at least one of the fluorinated alkyl groups which may have a substituent in these aryl groups is bonded to a carbon atom adjacent to a carbon atom that is bonded to a sulfur atom in the formula, and a total number of the fluorinated alkyl groups which may have a substituent is 2 or more; X − represents a counter anion.

  一种抗蚀组合物，含有基础材料组分，其在显影溶液中的溶解性由酸的作用和由化合物代表的公式（bd1）改变；在公式中，Rbd1到Rbd3各自独立地代表可能具有取代基的芳基，前提是Rbd1到Rbd3中的一个或多个是可能具有取代基的芳基，而这些芳基中至少有一个可能具有取代基的氟代烷基与公式中与硫原子相结合的碳原子相邻的碳原子结合，可能具有取代基的氟代烷基的总数为2或更多；X−代表一个对离子。
• Anticonvulsant and Neurotoxic Activities of Twelve Analogues of Valproic Acid
  作者：M.M.A. Elmazar、R.-S. Hauck、H. Nau

  DOI：10.1002/jps.2600821214

  日期：1993.12

  Twelve racemic analogues of the antiepileptic drug valproic acid (VPA) were tested and compared with VPA for anticonvulsant activity by the subcutaneous pentylenetetrazol (PTZ) seizure threshold test and for neurotoxicity by the rotorod test. Four compounds produced maximal anticonvulsant activity (100% protection) in equimolar doses (1.5 mmol/kg) to VPA and two compounds showed a similar effect with

  测试了十二种抗癫痫药丙戊酸（VPA）的外消旋类似物，并通过皮下戊四氮（PTZ）癫痫发作阈值测试与VPA进行了比较，研究了其抗惊厥活性，并通过旋翼仪测试了其神经毒性。四种化合物以对VPA等摩尔剂量（1.5 mmol / kg）产生最大的抗惊厥活性（100％保护），两种化合物在较低剂量（1.0 mmol / kg）下显示出相似的作用。四种化合物产生较低的活性（38-80％的保护作用），两种化合物在所用剂量（1.5 mmol / kg）下无抗惊厥活性。12种化合物中的两种，（+/-）-2-n-丙基-4-己酸（11）和（+/-）-4-甲基-2-正丙基-4-戊烯酸（12），在产生最大抗惊厥作用的剂量下无镇静作用。我们首次成功开发出两种具有比VPA更高的保护指数和安全比的化合物。化合物11的作用时间更长，保护指数更高，但安全系数却比12低。这些化合物的抗惊厥作用和最小的神经毒性与其计算的亲脂性（C log
• RESIST COMPOSITION, METHOD OF FORMING RESIST PATTERN, COMPOUND, AND ACID GENERATOR
  申请人：TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.

  公开号：US20180149973A1

  公开（公告）日：2018-05-31

  A resist composition including a base component which exhibits changed solubility in a developing solution under action of acid, and a compound (B1) having an anion moiety and a cation moiety and being represented by general formula (b1) (wherein R 01 to R 014 each independently represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group which may have a substituent, or two or more of R 01 to R 014 may be mutually bonded to form a ring structure, provided that at least two of R 01 to R 014 are mutually bonded to form a ring structure, and at least one of R 01 to R 014 has an anion group, and the anion moiety as a whole forms an anion having a valency of n; n represents an integer of 1 or more; represents an integer of 1 or more; and M m+ represents an organic cation having a valency of m).

  一种抗蚀组合物，包括在酸的作用下在显影溶液中表现出改变溶解度的基础组分，以及一种具有阴离子基团和阳离子基团的化合物（B1），其由一般式（b1）表示（其中R01至R014分别独立地表示氢原子或可能具有取代基的碳氢基团，或者R01至R014中的两个或两个以上可能相互键合形成环结构，前提是至少两个R01至R014相互键合形成环结构，至少一个R01至R014具有阴离子基团，整体上阴离子基团形成带有价数n的阴离子；n表示1或更多的整数；表示1或更多的整数；Mm+表示具有价数m的有机阳离子）。