6-methyl-6-spiro[4.5]decyl methacrylate | 1162723-90-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 英文名称: 6-methyl-6-spiro[4.5]decyl methacrylate
• 英文别名: (10-methylspiro[4.5]decan-10-yl) 2-methylprop-2-enoate
• CAS: 1162723-90-1
• 化学式: C₁₅H₂₄O₂
• 分子量: 236.354
• InChiKey: WJSZDHJQGABSOC-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.4
• 重原子数：
  17
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.8
• 拓扑面积：
  26.3
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  6-methyl-6-spiro[4.5]decyl methacrylate 在 三氟甲磺酸 作用下， 以 氘代二甲亚砜 为溶剂， 生成 10-methyl-Δ^1,9-octalin 、 6-methyl-spiro[4.5]dec-6-ene 、 6-methylenespiro<4,5>dec-6,(11)-ene
  参考文献：
  名称：

  Acid-labile ester monomer having spirocyclic structure, polymer, resist composition, and patterning process

  摘要：

  一种酸敏感酯单体，其为螺环结构，化学式为（1），其中Z为具有可聚合双键的一价基团，X为形成环戊烷、环己烷或去甲基环辛烷环的二价基团，R2为H或一价碳氢基团，R3和R4为H或一价碳氢基团，或者R3和R4结合在一起，代表形成环戊烷或环己烷环的二价基团，n为1或2。从酸敏感酯单体获得的聚合物在酸催化消除反应中具有很高的反应性，因此可以用于制备具有高分辨率的光刻胶组合物。

  公开号：

  US08791288B2
• 作为产物：
  描述：

  螺[4,5]癸烷-6-酮 在 4-二甲氨基吡啶 、 三乙胺 作用下， 以 四氢呋喃 、 乙腈 为溶剂， 反应 29.5h， 生成 6-methyl-6-spiro[4.5]decyl methacrylate
  参考文献：
  名称：

  Acid-labile ester monomer having spirocyclic structure, polymer, resist composition, and patterning process

  摘要：

  一种酸敏感酯单体，其为螺环结构，化学式为（1），其中Z为具有可聚合双键的一价基团，X为形成环戊烷、环己烷或去甲基环辛烷环的二价基团，R2为H或一价碳氢基团，R3和R4为H或一价碳氢基团，或者R3和R4结合在一起，代表形成环戊烷或环己烷环的二价基团，n为1或2。从酸敏感酯单体获得的聚合物在酸催化消除反应中具有很高的反应性，因此可以用于制备具有高分辨率的光刻胶组合物。

  公开号：

  US08791288B2

文献信息

• ACID-LABILE ESTER MONOMER HAVING SPIROCYCLIC STRUCTURE, POLYMER, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Kinsho Takeshi

  公开号：US20100304295A1

  公开（公告）日：2010-12-02

  An acid-labile ester monomer of spirocyclic structure has formula (1) wherein Z is a monovalent group having a polymerizable double bond, X is a divalent group which forms a cyclopentane, cyclohexane or norbornane ring, R 2 is H or monovalent hydrocarbon, R 3 and R 4 are H or monovalent hydrocarbon, or R 3 and R 4 , taken together, stand for a divalent group which forms a cyclopentane or cyclohexane ring, and n is 1 or 2. A polymer obtained from the acid-labile ester monomer has so high reactivity in acid-catalyzed elimination reaction that the polymer may be used to formulate a resist composition having high resolution.

  一种酸敏感酯单体具有螺环结构，其化学式如下（1），其中Z是具有可聚合双键的一价基团，X是形成环戊烷、环己烷或诺邦烷环的二价基团，R2是H或一价碳氢基团，R3和R4是H或一价碳氢基团，或者R3和R4一起表示形成环戊烷或环己烷环的二价基团，n为1或2。从酸敏感酯单体获得的聚合物在酸催化消除反应中具有很高的反应性，因此可以用于制备具有高分辨率的抗蚀组合物。
• SULFONIUM SALT-CONTAINING POLYMER, RESIST COMPOSITION, PATTERNING PROCESS, AND SULFONIUM SALT MONOMER AND MAKING METHOD
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

  公开号：US20140296561A1

  公开（公告）日：2014-10-02

  A sulfonium salt having a 4-fluorophenyl group is introduced as recurring units into a polymer comprising hydroxyphenyl(meth)acrylate units and acid labile group-containing (meth)acrylate units to form a polymer which is useful as a base resin in a resist composition. The resist composition has a high sensitivity, high resolution and minimized LER.

  一种含有4-氟苯基的磺鎵盐被引入到聚合物中，该聚合物包含羟基苯基（甲基）丙烯酸酯单元和含酸性易裂解基团的（甲基）丙烯酸酯单元，形成一种聚合物，可用作抗蚀剂组成中的基础树脂。抗蚀剂组成具有高灵敏度、高分辨率和最小化LER。
• NOVEL SULFONIUM SALT, POLYMER, METHOD FOR PRODUCING THE POLYMER, RESIST COMPOSITION AND PATTERNING PROCESS
  申请人：OHASHI Masaki

  公开号：US20110189607A1

  公开（公告）日：2011-08-04

  There is disclosed a sulfonium salt represented by the following general formula (1). In the formula, X and Y each represents a group having a polymerizable functional group; Z represents a divalent hydrocarbon group having 1 to 33 carbon atoms optionally containing a hetero atom; R 1 represents a divalent hydrocarbon group having 1 to 36 carbon atoms optionally containing a hetero atom; and R 2 and R 3 each represents a monovalent hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms optionally containing a hetero atom or R 2 and R 3 may be bonded with each other to form a ring together with a sulfur atom in the formula. There can be provided a sulfonium salt usable as a resist composition providing high resolution and excellent in LER in photolithography using a high energy beam such as an ArF excimer laser, an EUV light and an electron beam as a light source, a polymer obtained from the sulfonium salt, a resist composition containing the polymer and a patterning process using the resist composition.

  本发明公开了一种由下列通式（1）表示的烷基磺鎵盐。在该式中，X和Y分别表示具有可聚合官能团的基团；Z表示具有1至33个碳原子的双价碳氢基团，可选地含有一个杂原子；R1表示具有1至36个碳原子的双价碳氢基团，可选地含有一个杂原子；R2和R3分别表示具有1至30个碳原子的单价碳氢基团，可选地含有一个杂原子，或者R2和R3可以与该式中的硫原子一起形成环。可以提供一种可用作抗蚀剂组分的烷基磺鎵盐，该抗蚀剂组分在使用高能束如ArF准分子激光、EUV光和电子束作为光源的光刻工艺中，提供高分辨率和优异的LER，以及从该烷基磺鎵盐得到的聚合物、包含该聚合物的抗蚀剂组分和使用该抗蚀剂组分进行图案化处理的方法。
• Sulfonium salt-containing polymer, resist composition, patterning process, and sulfonium salt monomer and making method
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：EP2455811B1

  公开（公告）日：2016-01-13
• US8785105B2
  申请人：——

  公开号：US8785105B2

  公开（公告）日：2014-07-22