1,6-di(1H-tetrazol-5-yl)hexane | 7707-61-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 唑类
• 英文名称: 1,6-di(1H-tetrazol-5-yl)hexane
• 英文别名: 5-[6-(1h-Tetrazol-5-yl)hexyl]-1h-tetrazole；5-[6-(2H-tetrazol-5-yl)hexyl]-2H-tetrazole
• CAS: 7707-61-1
• 化学式: C₈H₁₄N₈
• 分子量: 222.253
• InChiKey: MIKLNXDHIYRWOP-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.1
• 重原子数：
  16
• 可旋转键数：
  7
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.75
• 拓扑面积：
  109
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  6

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1,6-di(1H-tetrazol-5-yl)hexane 在 甲醇 、 sodium methylate 、 potassium carbonate 作用下， 以 乙腈 为溶剂， 反应 18.0h， 生成 (2S,3R,4R,5S)-2-(hydroxymethyl)-6-(5-(6-(2-((2R,3R,4S,5S)-3,4,5-trihydroxy-6-(hydroxymethyl)tetrahydro-2H-pyran-2-yl)-2H-tetrazol-5-yl)hexyl)-2H-tetrazol-2-yl)tetrahydro-2H-pyran-3,4,5-triol
  参考文献：
  名称：

  基于丙戊酸类似物四唑衍生物的新型N-糖苷的合成

  摘要：

  合成了基于丙戊酸类似物四唑衍生物的新的N-糖苷。衍生自1，6-己二醇的双-四唑也连接至乙酰化葡萄糖并形成双-N-糖苷。使用FT IR，1 H和13 C NMR光谱进行了结构表征。

  DOI：

  10.1007/s13738-017-1055-7
• 作为产物：
  描述：

  1,6-二氯己烷 在 sodium azide 、 氯化铵 作用下， 以 N,N-二甲基甲酰胺 为溶剂， 反应 144.0h， 生成 1,6-di(1H-tetrazol-5-yl)hexane
  参考文献：
  名称：

  基于丙戊酸类似物四唑衍生物的新型N-糖苷的合成

  摘要：

  合成了基于丙戊酸类似物四唑衍生物的新的N-糖苷。衍生自1，6-己二醇的双-四唑也连接至乙酰化葡萄糖并形成双-N-糖苷。使用FT IR，1 H和13 C NMR光谱进行了结构表征。

  DOI：

  10.1007/s13738-017-1055-7

文献信息

• Tetrazole based corrosion inhibitors
  申请人：Ecolab USA Inc.

  公开号：US09771336B2

  公开（公告）日：2017-09-26

  Disclosed are corrosion inhibitor compounds and compositions useful for preventing or inhibiting corrosion of surfaces found in cooling water applications. In some embodiments, the surfaces may include mild steel, aluminum, brass, copper, galvanized steel, a copper alloy, admirality brass, or any combination thereof. Also disclosed are methods of using the compounds and compositions as corrosion inhibitors. In some embodiments, the corrosion inhibitor compounds and compositions are used in cooling water applications.

  揭示了用于防止或抑制冷却水应用中表面腐蚀的缓蚀剂化合物和组合物。在某些实施例中，这些表面可能包括低碳钢、铝、黄铜、铜、镀锌钢、铜合金、铜镍合金或其任何组合。还揭示了使用这些化合物和组合物作为缓蚀剂的方法。在某些实施例中，这些缓蚀剂化合物和组合物用于冷却水应用。
• TETRAZOLE BASED CORROSION INHIBITORS
  申请人：Ecolab USA Inc.

  公开号：EP3077573A1

  公开（公告）日：2016-10-12
• Metal polishing slurry and chemical mechanical polishing method
  申请人：Yoshikawa Masaru

  公开号：US20100075500A1

  公开（公告）日：2010-03-25

  The invention provides a metal polishing slurry containing a compound represented by the general formula (1): (X 1 ) n -L wherein X 1 represents a heterocycle containing at least one nitrogen atom, n represents an integer of 2 or more, and L represents a linking group having a valence of 2 or more, provided that X 1 s whose number is n may be the same or different, an oxidizer and an organic acid; and a method of chemical mechanical polishing using such slurry. The metal polishing slurry and the chemical mechanical polishing method are used in chemical mechanical polishing in the step of manufacturing semiconductor devices and enable a high polishing rate to be achieved while causing minimal dishing in polishing an object (wafer).
• US9771336B2
  申请人：——

  公开号：US9771336B2

  公开（公告）日：2017-09-26
• [EN] TETRAZOLE BASED CORROSION INHIBITORS<br/>[FR] INHIBITEURS DE CORROSION À BASE DE TÉTRAZOLE
  申请人：ECOLAB USA INC

  公开号：WO2015084830A1

  公开（公告）日：2015-06-11

  Disclosed are corrosion inhibitor compounds and compositions useful for preventing or inhibiting corrosion of surfaces found in cooling water applications. In some embodiments, the surfaces may include mild steel, aluminum, brass, copper, galvanized steel, a copper alloy, admirality brass, or any combination thereof. Also disclosed are methods of using the compounds and compositions as corrosion inhibitors. In some embodiments, the corrosion inhibitor compounds and compositions are used in cooling water applications.