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2-氨基-2-甲基-1-苯基-1-丙酮 | 18903-69-0

中文名称
2-氨基-2-甲基-1-苯基-1-丙酮
中文别名
——
英文名称
2-amino-2-methyl-1-phenylpropan-1-one
英文别名
2-amino-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one;2-Amino-2-methyl-1-phenyl-propan-1-on;α-Amino-isobutyrophenon;α-Aminoisobutyrophenon;2-Amino-2-methylpropiophenon
2-氨基-2-甲基-1-苯基-1-丙酮化学式
CAS
18903-69-0
化学式
C10H13NO
mdl
MFCD09890571
分子量
163.219
InChiKey
VCYOVIPBNXUODX-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    1.3
  • 重原子数:
    12
  • 可旋转键数:
    2
  • 环数:
    1.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.3
  • 拓扑面积:
    43.1
  • 氢给体数:
    1
  • 氢受体数:
    2

SDS

SDS:3449dc19d7178e91a297ed682daeff50
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上下游信息

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文献信息

  • 11-Beta HSD1 inhibitors
    申请人:Xiang Shaoyun Jason
    公开号:US20060025445A1
    公开(公告)日:2006-02-02
    This invention relates to inhibiting 11-beta HSD1.
    这项发明涉及抑制11-beta HSD1。
  • Synthesis and anti-HIV Activity of New Benzimidazole, Benzothiazole and Carbohyrazide Derivatives of the anti-Inflammatory Drug Indomethacin
    作者:Najim A. Al-Masoudi、Nadhir N. A. Jafar、Layla J. Abbas、Sadiq J. Baqir、Christophe Pannecouque
    DOI:10.1515/znb-2011-0914
    日期:2011.9.1
    of indomethacinyl hydrazide 15, prepared from the ester 14, with various ketone precursors. Treatment of 15 with phenyl isothiocyanate or triethyl orthoformate afforded the phenylcarbonothioyl and the oxadiazole derivatives 21 and 22, respectively. The new compounds were assayed against HIV-1 and HIV-2 in MT-4 cells. Compounds 9 and 10 were the most active in inhibiting HIV-2 and HIV-1, respectively
    迫切需要设计和开发新的、更安全的药物来治疗 HIV 感染,对目前的耐药病毒株有效。合成了含有苯并咪唑苯并噻唑嘌呤吡啶残基 8 - 13 的非甾体抗炎药吲哚美辛的新衍生物,目的是开发新的非核苷逆转录酶抑制剂 (NNRTIs)。或者,新的亚胺类似物 16 - 20由 14 制备的吲哚美辛基酰 15 与各种前体缩合合成。用异硫氰酸原甲酸三乙酯处理 15 分别得到酰基和恶二唑衍生物 21 和 22。在 MT-4 细胞中检测了新化合物对 HIV-1 和 HIV-2 的影响。化合物 9 和 10 分别在抑制 HIV-2 和 HIV-1 方面最有效,EC50 ≥ 17.60 μgmL-1 和 > 1.15 μgmL-1(治疗指数(SI)分别≥ 3 和 < 1),和是进一步发展的主要候选人。抗炎药消炎痛苯并咪唑苯并噻唑生物的图解合成及抗HIV活性
  • DERIVATIVES OF 4-PIPERAZIN-1-YL-4-BENZO[B]THIOPHENE SUITABLE FOR THE TREATMENT OF CNS DISORDERS
    申请人:YAMASHITA Hiroshi
    公开号:US20120028920A1
    公开(公告)日:2012-02-02
    A heterocyclic compound or a salt thereof represented by the formula (1): where R 2 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group; A represents a lower alkylene group or lower alkenylene group; and R 1 represents an aromatic group or a heterocyclic group. The compound of the present invention has a wide treatment spectrum for mental disorders including central nervous system disorders, no side effects and high safety.
    一种由式(1)所表示的杂环化合物或其盐:其中R2代表原子或较低的烷基基团;A代表较低的烷基基基团;R1代表芳香基团或杂环基团。本发明的化合物具有广泛的治疗精神障碍的光谱,包括中枢神经系统障碍,无副作用且安全性高。
  • Polymerisierbare Zusammensetzungen
    申请人:CIBA-GEIGY AG
    公开号:EP0269568A2
    公开(公告)日:1988-06-01
    Beschrieben werden polymerisierbare Zusammensetzungen enthaltend ein Gemisch aus A) einer Verbindung enthaltend wenigstens einen allyl-oder methallylsubstituierten Bicyclo[2.2.1]hept-5-en-2,3-dicarbonsäureimidrest, und B) einer Verbindung enthaltend wenigstens einen polymerisierbaren Rest der Formel I worin R Wasserstoff oder Methyl ist. Typische Beispiels für A) bzw. B) sind Bis-[4-(allylbicy- clo[2.2.1]hept-5-en-2,3-dicarboximidophenyl)]methan bzw. Acrylate oder Methacrylate von mehrwertigen Alkoholen. Die Mischungen können photopolymerisiert oder hitzegehärtet werden. Sie lassen sich zur Herstellung von Prepregs oder in Abbildungsverfahren einsetzen.
    所述的可聚合组合物含有以下物质的混合物 A) 含至少一个丙基或甲基丙基取代的双环[2.2.1]庚-5--2,3-二甲酰亚胺基的化合物,和 B) 含至少一个式 I 可聚合基的化合物,其中 R 为甲基。 其中 R 为甲基。 A) 或 B) 的典型例子是双-[4-(丙基双环[2.2.1]庚-5--2,3-二甲酰亚胺基)]甲烷或多元醇的丙烯酸甲基丙烯酸。这些混合物可进行光聚合或热固化。它们可用于生产预浸料或成像工艺。
  • Verfahren zur Herstellung eines Musters
    申请人:CIBA-GEIGY AG
    公开号:EP0371924A2
    公开(公告)日:1990-06-06
    Ein Verfahren zur Herstellung eines Musters aus einem elektrisch leitfähigen Material, gekennzeichnet durch (i) galvanisches Abscheiden eines Filmes enthaltend ein photohärtbares organisches Harz auf eine elektrisch leitende Oberfläche, (ii) Ausbilden eines vorbestimmten Musters eines Resists auf dem galvanisch abgeschiedenen Film, welches beim Belichten mit aktinischen Strahlen mit den darunterliegenden Bereichen des galvanisch abgeschiedenen Filmes zusammengehärtet wird, und wobei vorbestimmte Bereiche des galvanisch abgeschiedenen Filmes vom Resist unbedeckt bleiben. (iii) Entfernen der unbedeckten Bereiche des galvanisch abgeschiedenen Filmes durch Behandeln mit einem Lösungsmittel dafür, wobei eine Oberfläche entsteht, die in vorbestimmten Bereichen freiliegendes leitfähiges Material aufweist und in anderen vorbestimmten Bereichen den photogehärteten Resist enthält, der durch den dazwischenliegenden, in bestimmten Bereichen galvanisch abgeschiedenen Film fest mit dem leitfähigen Material verbunden ist. Das Verfahren ist zur Herstellung von gedruckten Schaltungen geeignet.
    一种用导电材料制作图案的方法,其特征是 (i) 在导电表面电沉积一层含有光固化有机树脂的薄膜、 (ii) 在电沉积薄膜上形成抗蚀剂的预定图案,该抗蚀剂与电沉积薄膜的底层区域一起在放 射线照射下固化,其中电沉积薄膜的预定区域仍未被抗蚀剂覆盖。 (iii) 用溶剂去除电沉积薄膜的未覆盖区域,从而形成一个表面,该表面在预定区域中具有暴露的导电材料,在其他预定区域中含有光固化抗蚀剂,该抗蚀剂通过在某些区域中电沉积的中间薄膜与导电材料牢固地结合在一起。 该工艺适用于制造印刷电路。
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表征谱图

  • 氢谱
    1HNMR
  • 质谱
    MS
  • 碳谱
    13CNMR
  • 红外
    IR
  • 拉曼
    Raman
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mass
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ir
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  • 峰位数据
  • 峰位匹配
  • 表征信息
Shift(ppm)
Intensity
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Assign
Shift(ppm)
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测试频率
样品用量
溶剂
溶剂用量
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