9-(1H-苯并三唑-1-基甲基)-9H-咔唑 | 124337-34-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 吲哚及其衍生物
• 中文名称: 9-(1H-苯并三唑-1-基甲基)-9H-咔唑
• 中文别名: 9-(1H-苯并三唑甲基)-9H-咔唑
• 英文名称: 9-benzotriazole-1-ylmethyl-9H-carbazole
• 英文别名: 9-(1H-Benzotriazol-1-ylmethyl)-9H-carbazole；9-(benzotriazol-1-ylmethyl)carbazole
• CAS: 124337-34-4
• 化学式: C₁₉H₁₄N₄
• 分子量: 298.347
• InChiKey: JWLQIMHJRKCIFA-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  190-193 °C (lit.)
• 沸点：
  479.8±37.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.31±0.1 g/cm3(Predicted)
• 稳定性/保质期：

  如果按照规格使用和储存，不会发生分解，也未有已知的危险反应。

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.4
• 重原子数：
  23
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  5.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.05
• 拓扑面积：
  35.6
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

安全信息

• 危险品标志：
  Xi
• 安全说明：
  S26,S36
• 危险类别码：
  R36/37/38
• 海关编码：
  2933990090
• 危险标志：
  GHS07
• 危险性描述：
  H315,H319,H335
• 危险性防范说明：
  P261,P305 + P351 + P338

SDS

1.1 产品标识符
: 9-(1H-苯并三唑-1-基甲基)-9H-咔唑
产品名称
1.2 鉴别的其他方法
无数据资料
1.3 有关的确定了的物质或混合物的用途和建议不适合的用途
仅供科研用途，不作为药物、家庭备用药或其它用途。

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模块 2. 危险性概述
2.1 GHS分类
皮肤刺激 (类别2)
眼刺激 (类别2A)
特异性靶器官系统毒性（一次接触） (类别3)
2.2 GHS 标记要素，包括预防性的陈述
象形图
警示词 警告
危险申明
H315 造成皮肤刺激。
H319 造成严重眼刺激。
H335 可能引起呼吸道刺激。
警告申明
预防
P261 避免吸入粉尘/烟/气体/烟雾/蒸气/喷雾.
P264 操作后彻底清洁皮肤。
P271 只能在室外或通风良好之处使用。
P280 穿戴防护手套/ 眼保护罩/ 面部保护罩。
措施
P302 + P352 如与皮肤接触，用大量肥皂和水冲洗受感染部位.
P304 + P340 如吸入，将患者移至新鲜空气处并保持呼吸顺畅的姿势休息.
P305 + P351 + P338 如与眼睛接触，用水缓慢温和地冲洗几分钟。如戴隐形眼镜并可方便地取
出，取出隐形眼镜，然后继续冲洗.
P312 如感觉不适，呼救中毒控制中心或医生.
P321 具体治疗(见本标签上提供的急救指导)。
P332 + P313 如发生皮肤刺激：求医/ 就诊。
P337 + P313 如仍觉眼睛刺激：求医/就诊。 如仍觉眼睛刺激：求医/就诊.
P362 脱掉沾染的衣服，清洗后方可重新使用。
储存
P403 + P233 存放于通风良的地方。 保持容器密闭。
P405 存放处须加锁。
处理
P501 将内容物/ 容器处理到得到批准的废物处理厂。
2.3 其它危害物 - 无

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模块 3. 成分/组成信息
3.1 物 质
: C19H14N4
分子式
: 298.34 g/mol
分子量
组分 浓度或浓度范围
9-(1H-Benzotriazol-1-ylmethyl)-9H-carbazole
-
CAS 号 124337-34-4

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模块 4. 急救措施
4.1 必要的急救措施描述
一般的建议
请教医生。 出示此安全技术说明书给到现场的医生看。
吸入
如果吸入,请将患者移到新鲜空气处。 如果停止了呼吸,给于人工呼吸。 请教医生。
皮肤接触
用肥皂和大量的水冲洗。 请教医生。
眼睛接触
用大量水彻底冲洗至少15分钟并请教医生。
食入
切勿给失去知觉者从嘴里喂食任何东西。 用水漱口。 请教医生。
4.2 主要症状和影响，急性和迟发效应
据我们所知，此化学，物理和毒性性质尚未经完整的研究。
4.3 及时的医疗处理和所需的特殊处理的说明和指示
无数据资料

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模块 5. 消防措施
5.1 灭火介质
灭火方法及灭火剂
用水雾,耐醇泡沫,干粉或二氧化碳灭火。
5.2 源于此物质或混合物的特别的危害
碳氧化物, 氮氧化物
5.3 给消防员的建议
如必要的话,戴自给式呼吸器去救火。
5.4 进一步信息
无数据资料

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模块 6. 泄露应急处理
6.1 人员的预防,防护设备和紧急处理程序
使用个人防护设备。 防止粉尘的生成。 防止吸入蒸汽、气雾或气体。 保证充分的通风。
将人员撤离到安全区域。 避免吸入粉尘。
6.2 环境保护措施
不要让产物进入下水道。
6.3 抑制和清除溢出物的方法和材料
收集、处理泄漏物，不要产生灰尘。 扫掉和铲掉。 存放进适当的闭口容器中待处理。
6.4 参考其他部分
丢弃处理请参阅第13节。

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模块 7. 操作处置与储存
7.1 安全操作的注意事项
避免接触皮肤和眼睛。 防止粉尘和气溶胶生成。
在有粉尘生成的地方,提供合适的排风设备。一般性的防火保护措施。
7.2 安全储存的条件,包括任何不兼容性
贮存在阴凉处。 容器保持紧闭，储存在干燥通风处。
7.3 特定用途
无数据资料

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模块 8. 接触控制和个体防护
8.1 容许浓度
最高容许浓度
没有已知的国家规定的暴露极限。
8.2 暴露控制
适当的技术控制
按照良好工业和安全规范操作。 休息前和工作结束时洗手。
个体防护设备
眼/面保护
带有防护边罩的安全眼镜符合 EN166要求请使用经官方标准如NIOSH (美国) 或 EN 166(欧盟)
检测与批准的设备防护眼部。
皮肤保护
戴手套取 手套在使用前必须受检查。
请使用合适的方法脱除手套(不要接触手套外部表面),避免任何皮肤部位接触此产品.
使用后请将被污染过的手套根据相关法律法规和有效的实验室规章程序谨慎处理. 请清洗并吹干双手
所选择的保护手套必须符合EU的89/686/EEC规定和从它衍生出来的EN 376标准。
身体保护
防渗透的衣服, 防护设备的类型必须根据特定工作场所中的危险物的浓度和含量来选择。
呼吸系统防护
如须暴露于有害环境中,请使用P95型(美国)或P1型(欧盟 英国
143)防微粒呼吸器。如需更高级别防护,请使用OV/AG/P99型(美国)或ABEK-P2型 (欧盟 英国 143)
防毒罐。
呼吸器使用经过测试并通过政府标准如NIOSH（US）或CEN（EU）的呼吸器和零件。

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模块 9. 理化特性
9.1 基本的理化特性的信息
a) 外观与性状
形状: 粉末
颜色: 灰白色或米色
b) 气味
无数据资料
c) 气味阈值
无数据资料
d) pH值
无数据资料
e) 熔点/凝固点
熔点/凝固点: 190 - 193 °C - lit.
f) 起始沸点和沸程
无数据资料
g) 闪点
无数据资料
h) 蒸发速率
无数据资料
i) 易燃性(固体,气体)
无数据资料
j) 高的/低的燃烧性或爆炸性限度 无数据资料
k) 蒸汽压
无数据资料
l) 蒸汽密度
无数据资料
m) 相对密度
无数据资料
n) 水溶性
无数据资料
o) n-辛醇/水分配系数
无数据资料
p) 自燃温度
无数据资料
q) 分解温度
无数据资料
r) 粘度
无数据资料

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模块 10. 稳定性和反应活性
10.1 反应性
无数据资料
10.2 稳定性
无数据资料
10.3 危险反应的可能性
无数据资料
10.4 应避免的条件
无数据资料
10.5 不兼容的材料
强氧化剂
10.6 危险的分解产物
其它分解产物 - 无数据资料

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模块 11. 毒理学资料
11.1 毒理学影响的信息
急性毒性
无数据资料
皮肤刺激或腐蚀
无数据资料
眼睛刺激或腐蚀
无数据资料
呼吸道或皮肤过敏
无数据资料
生殖细胞突变性
无数据资料
致癌性
IARC:
此产品中没有大于或等于 0。1%含量的组分被 IARC鉴别为可能的或肯定的人类致癌物。
生殖毒性
无数据资料
特异性靶器官系统毒性（一次接触）
吸入 - 可能引起呼吸道刺激。
特异性靶器官系统毒性（反复接触）
无数据资料
吸入危险
无数据资料
潜在的健康影响
吸入 吸入可能有害。 引起呼吸道刺激。
摄入 如服入是有害的。
皮肤 如果通过皮肤吸收可能是有害的。 造成皮肤刺激。
眼睛 造成严重眼刺激。
接触后的征兆和症状
据我们所知，此化学，物理和毒性性质尚未经完整的研究。
附加说明
化学物质毒性作用登记: 无数据资料

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模块 12. 生态学资料
12.1 生态毒性
无数据资料
12.2 持久存留性和降解性
无数据资料
12.3 潜在的生物蓄积性
无数据资料
12.4 土壤中的迁移性
无数据资料
12.5 PBT 和 vPvB的结果评价
无数据资料
12.6 其它不利的影响
无数据资料

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模块 13. 废弃处置
13.1 废物处理方法
产品
将剩余的和未回收的溶液交给处理公司。 联系专业的拥有废弃物处理执照的机构来处理此物质。
与易燃溶剂相溶或者相混合，在备有燃烧后处理和洗刷作用的化学焚化炉中燃烧
受污染的容器和包装
作为未用过的产品弃置。

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模块 14. 运输信息
14.1 联合国危险货物编号
欧洲陆运危规: - 国际海运危规: - 国际空运危规: -
14.2 联合国（UN）规定的名称
欧洲陆运危规: 非危险货物
国际海运危规: 非危险货物
国际空运危规: 非危险货物
14.3 运输危险类别
欧洲陆运危规: - 国际海运危规: - 国际空运危规: -
14.4 包裹组
欧洲陆运危规: - 国际海运危规: - 国际空运危规: -
14.5 环境危险
欧洲陆运危规: 否 国际海运危规 海运污染物: 否 国际空运危规: 否
14.6 对使用者的特别提醒
无数据资料

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模块 15 - 法规信息
N/A

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模块16 - 其他信息
N/A

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  9-(1H-苯并三唑-1-基甲基)-9H-咔唑 在 盐酸 、 正丁基锂 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 反应 18.0h， 生成 N-(α-hydroxyphenacyl)carbazole
  参考文献：
  名称：

  1-(Carbazol-9-ylmethyl)benzotriazole anion: a formyl anion equivalent

  摘要：

  The title anion, readily available as its lithium derivative, smoothly reacts with a wide range of electrophiles to give well-characterized products which are easily hydrolyzed to the corresponding aldehydes in high overall yields. The method is compared with currently available routes.

  DOI：

  10.1021/jo00006a034
• 作为产物：
  描述：

  1-(氯甲基)-1H-苯并三唑 、 咔唑 在 sodium hydroxide 作用下， 以 二甲基亚砜 为溶剂， 以90%的产率得到9-(1H-苯并三唑-1-基甲基)-9H-咔唑
  参考文献：
  名称：

  Synthesis of 5,6-dihydro-4H-pyrido[3,2,1-jk]carbazolesvia intermolecular [4+2] cycloaddition

  摘要：

  4-, 4,5- and 4,6-Substituted 5,6-dihydro-4H-pyrido[3,2,1-jk]carbazoles are synthesized regioselectively from carbazole by a novel, two step sequence. (C) 1997 Elsevier Science Ltd.

  DOI：

  10.1016/s0040-4039(97)01663-8

文献信息

• Novel and Efficient Insertions of Carbons Carrying O-, S-, and N-Linked Substituents:  Synthesis of α-Alkoxyalkyl, α-(Alkylthio)alkyl, and α-(Carbazol-9-yl)alkyl Ketones
  作者：Alan R. Katritzky、Linghong Xie、Larisa Serdyuk

  DOI：10.1021/jo960840p

  日期：1996.1.1

  A wide variety of benzotriazolyl-stabilized anions 2, obtained by the lithiation of 1-(alpha-alkoxyalkyl)-, 1-[alpha-(alkylthio)alkyl]-, and 1-[alpha-(carbazol-9-yl)alkyl]benzotriazoles 1, on reaction with aliphatic and aromatic aldehydes and ketones, followed by rearrangement induced by heating in the presence of zinc bromide, furnish one-carbon-homologated alpha-alkoxyalkyl, alpha-(alkylthio)alkyl

  通过1-（α-烷氧基烷基）-，1- [α-（烷硫基）烷基]-和1- [α-（咔唑-9-基）烷基的锂化获得的各种苯并三唑基稳定的阴离子2 ]苯并三唑1，与脂肪族和芳香族醛和酮反应，然后在溴化锌存在下通过加热引发重排，提供一碳均一的α-烷氧基烷基，α-（烷硫基）烷基和α-（咔唑-简单的一锅操作中的9-基）烷基酮4收率高，区域选择性好。在数个烷氧基亚甲基插入中，中间体2-烷氧基氧杂环丁烷的收率高，这表明了重排的环氧机理，为另一类重要化合物多取代的2-烷氧基氧杂环丁烷提供了简便的方法。
• A new route to N-substituted heterocycles
  作者：Alan R. Katritzky、Hengyuan Lang、Xiangfu Lan

  DOI：10.1016/s0040-4020(01)80382-3

  日期：1993.4

  -carbazole, and -benzimidazole, and analogs substituted in the methylene group are converted by lithium aluminum hydride, or by Grignard reagents, or in two cases by organozinc reagents, into the N-substituted heterocycles in good yields.

  N-（苯并三唑-1-基甲基）-吲哚，吡咯，-咔唑和-苯并咪唑以及在亚甲基中取代的类似物通过氢化铝锂，格氏试剂或两种情况下的有机锌试剂转化为N-取代的杂环具有良好的收率。
• CARBAZOLE NOVOLAK RESIN
  申请人：Nissan Chemical Industries, Ltd.

  公开号：EP2444431A1

  公开（公告）日：2012-04-25

  There is provided a resist underlayer film having heat resistance that is used for a lithography process in the production of semiconductor devices, and a high refractive index film having transparency that is used for an electronic device. A polymer comprising a unit structure of Formula (1): wherein each of R1, R2, R3, and R5 may be a hydrogen atom, R4 may be phenyl group or naphthyl group. A resist underlayer film forming composition comprising the polymer, and a resist underlayer film formed from the composition. A high refractive index film forming composition comprising the polymer, and a high refractive index film formed from the composition.

  本发明提供了一种具有耐热性的抗蚀剂底层薄膜，可用于半导体设备生产中的光刻工艺，以及一种具有透明度的高折射率薄膜，可用于电子设备。一种包含式（1）单元结构的聚合物： 其中 R1、R2、R3 和 R5 各可为氢原子，R4 可为苯基或萘基。一种抗蚀剂底层薄膜形成组合物，包含该聚合物，以及由该组合物形成的抗蚀剂底层薄膜。一种高折射率薄膜形成组合物，包括该聚合物，以及由该组合物形成的高折射率薄膜。
• COMPOSITION FOR FORMING RESIST UNDERLAYER FILM CONTAINING HYDROXYL GROUP-CONTAINING CARBAZOLE NOVOLAC RESIN
  申请人：Nissan Chemical Industries, Ltd.

  公开号：EP2650729A1

  公开（公告）日：2013-10-16

  There is provided a composition for forming a resist underlayer film having heat resistance for use in a lithography process in semiconductor device production. A composition for forming a resist underlayer film, comprising a polymer that contains a unit structure of formula (1) and a unit structure of formula (2) in a proportion of of 3 to 97:97 to 3 in molar ratio: A method for producing a semiconductor device, comprising the steps of: forming an underlayer film using the composition for forming a resist underlayer film on a semiconductor substrate; forming a hard mask on the underlayer film; further forming a resist film on the hard mask; forming a patterned resist film by irradiation of light or electron beams and developing; etching the hard mask according to the patterned resist film; etching the underlayer film according to the patterned hard mask; and processing the semiconductor substrate according to the patterned underlayer film.

  本发明提供了一种用于形成具有耐热性的抗蚀剂底层膜的组合物，该抗蚀剂底层膜可用于半导体器件生产中的光刻工艺。一种用于形成抗蚀剂底层薄膜的组合物，包含一种聚合物，该聚合物含有式（1）的单元结构和式（2）的单元结构，摩尔比为 3 至 97:97 至 3： 一种用于生产半导体器件的方法，包括以下步骤：使用用于在半导体衬底上形成抗蚀剂底层膜的组合物形成底层膜；在底层膜上形成硬掩膜；进一步在硬掩膜上形成抗蚀剂膜；通过光束或电子束的照射和显影形成图案化抗蚀剂膜；根据图案化抗蚀剂膜蚀刻硬掩膜；根据图案化硬掩膜蚀刻底层膜；以及根据图案化底层膜加工半导体衬底。
• LAMINATED BODY INCLUDING NOVOLAC RESIN AS PEELING LAYER
  申请人：Nissan Chemical Corporation

  公开号：EP3706156A1

  公开（公告）日：2020-09-09

  There is provided a laminated body for separating an object to be processed by cutting or the like, or for processing, for example, polishing a back surface of a water, the laminated body comprising an intermediate layer that is disposed between a support and the object to be processed and peelably adheres to the support and the object to be processed, wherein the intermediate layer includes at least a peeling layer in contact with the support, and the peeling layer contains a novolac resin that absorbs light with a wavelength of 190 nm to 600 nm incident through the support, resulting in modification, and a material and a method for separation without mechanical load. A laminated body for polishing a back surface of a wafer, the laminated body comprising an intermediate layer that is disposed between a support and a circuit surface of the wafer and peelably adheres to the support and the circuit surface, wherein the intermediate layer includes an adhesion layer in contact with the wafer and a peeling layer in contact with the support, and the peeling layer contains a novolac resin that absorbs light with a wavelength of 190 nm to 600 nm incident through the support, resulting in modification. The light transmittance of the peeling layer at a wavelength range of 190 nm to 600 nm may be 1 to 90%. The modification caused by absorption of light may be photodecomposition of the novolac resin.

  提供了一种层压体，用于通过切割等方式分离待加工物体，或用于加工，例如，抛光水的背面，层压体包括中间层，该中间层设置在支撑物和待加工物体之间，并可剥离地粘附在支撑物和待加工物体上、其中，中间层至少包括一个与支撑物接触的剥离层，剥离层含有一种酚醛树脂，可吸收通过支撑物入射的波长为 190 纳米至 600 纳米的光，从而产生改性效果，以及一种无需机械负荷即可分离的材料和方法。 一种用于抛光晶片背面的层压体，该层压体包括中间层，该中间层设置在晶片的支撑件和电路表面之间，并可剥离地粘附在支撑件和电路表面上，其中，中间层包括与晶片接触的粘附层和与支撑件接触的剥离层，剥离层包含一种酚醛树脂，该酚醛树脂可吸收通过支撑件入射的波长为 190 纳米至 600 纳米的光，从而产生改性效果。剥离层在 190 纳米至 600 纳米波长范围内的透光率可达 1%至 90%。光吸收引起的改性可能是酚醛树脂的光分解。

表征谱图