5-甲基庚烷-2,4-二酮 | 40568-43-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 中文名称: 5-甲基庚烷-2,4-二酮
• 英文名称: 5-methyl-heptane-2,4-dione
• 英文别名: 5-Methyl-heptan-2,4-dion；1-Methyl-1-aethyl-acetylaceton；5-methyl-2,4-heptanedione；5-Methylheptane-2,4-dione
• CAS: 40568-43-2
• 化学式: C₈H₁₄O₂
• 分子量: 142.198
• InChiKey: VMPZHUZUESBODJ-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  197.4±13.0 °C(Predicted)
• 密度：
  0.916±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.2
• 重原子数：
  10
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.75
• 拓扑面积：
  34.1
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

安全信息

• 危险类别：
  3
• 危险性防范说明：
  P210,P233,P240,P241,P242,P243,P280,P303+P361+P353,P370+P378,P403+P235,P501
• 危险品运输编号：
  1224
• 危险性描述：
  H225
• 包装等级：
  III

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  5-甲基庚烷-2,4-二酮 在 甲醇 、 镍 作用下， 生成 2-羟基-5-甲基庚烷-4-酮
  参考文献：
  名称：

  Comparative Safety of Filgrastim versus Sargramostim in Patients Receiving Myelosuppressive Chemotherapy

  摘要：

  研究目的：比较在接受骨髓抑制化疗的患者中，预防性使用菲尔格司亭与沙格莫司亭的副作用发生率。 设计：回顾性研究，具有中心交叉设计。 设置：美国十个门诊化疗中心。 患者：490名接受肺癌、乳腺癌、淋巴系统或卵巢肿瘤治疗的患者。 干预：在研究者的判断下，预防性使用菲尔格司亭或沙格莫司亭，剂量由研究者自行决定。 测量与主要结果：评估了副作用的发生频率和严重程度，以及转用替代性粒细胞生长因子的频率。感染引起的发热没有差异。与沙格莫司亭相比，不明原因的发热更为常见（7%对1%，p<0.001），疲劳、腹泻、注射部位反应、其他皮肤病和水肿也更常见（均p<0.05）。骨骼疼痛在使用菲尔格司亭的患者中更为频繁（p=0.06）。接受沙格莫司亭治疗的患者更常转用替代药物（p<0.001）。 结论：与沙格莫司亭相比，使用菲尔格司亭的副作用发生率更低，这表明生活质量和治疗费用也可能存在差异。

  DOI：

  10.1592/phco.20.19.1432.34861
• 作为产物：
  描述：

  5-methyl-heptane-2,4-dione 2-enol tautomer 生成 5-甲基庚烷-2,4-二酮
  参考文献：
  名称：

  Effect of Substituents on the Keto-Enol Equilibrium of Alkyl-substituted β-Diketones

  摘要：

  DOI：

  10.1246/bcsj.46.632

文献信息

• COBALT COMPLEX, METHOD FOR MANUFACTURING SAME, AND METHOD FOR MANUFACTURING COBALT-CONTAINING THIN FILM
  申请人：TOSOH CORPORATION

  公开号：US20220017553A1

  公开（公告）日：2022-01-20

  To provide a cobalt complex which is liquid at room temperature, useful for producing a cobalt-containing thin film under conditions without using an oxidizing gas. A cobalt complex represented by the following formula (1): L 1 -Co-L 2 (1) wherein L 1 and L 2 represent a unidentate amide ligand of the following formula (A), a bidentate amide ligand of the following formula (B) or a hetero atom-containing ligand of the following formula (C): wherein R 1 and R 2 represent a C 1-6 alkyl group or a tri(C 1-6 alkyl)silyl group, and the wave line represents a binding site to the cobalt atom; wherein R 3 represents a tri(C 1-6 alkyl)silyl group, R 4 and R 5 represent a C 1-4 alkyl group, and X represents a C 1-6 alkylene group; wherein R 6 and R 8 represent a C 1-6 alkyl group, R 7 represents a hydrogen atom or a C 1-4 alkyl group, Y represents an oxygen atom or NR 9 , Z represents an oxygen atom or NR 10 , and R 9 and R 10 independently represent a C 1-6 alkyl group.

  提供一种在室温下为液体的钴配合物，可用于在不使用氧化气体的条件下制备含钴薄膜。 由以下式（1）表示的钴配合物： L1-Co-L2（1） 其中L1和L2表示以下式（A）的单齿酰胺配体，以下式（B）的双齿酰胺配体或以下式（C）的含杂原子配体： 其中R1和R2表示C1-6烷基或三(C1-6烷基)硅基团，波浪线表示与钴原子的结合位点； 其中R3表示三(C1-6烷基)硅基团，R4和R5表示C1-4烷基，X表示C1-6亚烷基团； 其中R6和R8表示C1-6烷基，R7表示氢原子或C1-4烷基，Y表示氧原子或NR9，Z表示氧原子或NR10，R9和R10独立表示C1-6烷基。
• METAL ALKOXIDE COMPOUND, THIN-FILM-FORMING MATERIAL, METHOD FOR PRODUCING THIN FILM, AND ALCOHOL COMPOUND
  申请人：ADEKA CORPORATION

  公开号：US20150175642A1

  公开（公告）日：2015-06-25

  Disclosed is a metal alkoxide compound having physical properties suitable for a material for forming thin films by CVD, and particularly, a metal alkoxide compound having physical properties suitable for a material for forming metallic-copper thin films. A metal alkoxide compound is represented by general formula (I). A thin-film-forming material including the metal alkoxide compound is described as well. (In the formula, R 1 represents a methyl group or an ethyl group, R 2 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 3 represents a C 1-3 linear or branched alkyl group, M represents a metal atom or a silicon atom, and n represents the valence of the metal atom or silicon atom.

  揭示了一种具有适合用于CVD形成薄膜材料的物理性质的金属烷氧化物化合物，特别是一种具有适合用于形成金属铜薄膜材料的金属烷氧化物化合物。金属烷氧化物化合物由通式（I）表示。还描述了包括金属烷氧化物化合物的薄膜形成材料。（在公式中，R1代表甲基基团或乙基基团，R2代表氢原子或甲基基团，R3代表C1-3直链或支链烷基基团，M代表金属原子或硅原子，n代表金属原子或硅原子的价。
• METHOD FOR PRODUCING BIPHENYLTETRACARBOXYLIC ACID TETRAESTER
  申请人：Nishio Masayuki

  公开号：US20110137069A1

  公开（公告）日：2011-06-09

  Disclosed is a method for producing a biphenyltetracarboxylic acid ester by oxidative coupling a phthalic acid ester by using a catalyst comprising at least a palladium salt, a copper salt and a β-dicarbonyl compound in the presence of a molecular oxygen, wherein the β-dicarbonyl compound is supplied into a reaction mixture liquid intermittently at an interval of less than 30 minutes, or continuously. This method allows, in particular, the selective and economical production of an asymmetric biphenyltetracarboxylic acid tetraester such as 2,3,3′,4′-biphenyltetracarboxylic acid tetraester.

  揭示了一种通过在存在至少一种钯盐、一种铜盐和一种β-二羰基化合物的催化剂的情况下，通过氧化偶联邻苯二甲酸酯来制备二苯四羧酸酯的方法，其中β-二羰基化合物间歇地以小于30分钟的间隔或连续地供给到反应混合液中。该方法特别允许选择性和经济地生产不对称的二苯四羧酸四酯，如2,3,3′,4′-二苯四羧酸四酯。
• ORGANOMETALLIC COMPOUND AND METHOD OF MANUFACTURING INTEGRATED CIRCUIT USING THE SAME
  申请人：SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.

  公开号：US20210388010A1

  公开（公告）日：2021-12-16

  An organometallic compound and a method of manufacturing an integrated circuit (IC) device, the organometallic compound being represented by Formula (I),

  一种有机金属化合物和一种制造集成电路（IC）器件的方法，该有机金属化合物由式（I）表示，
• An organocatalytic C–C bond cleavage approach: a metal-free and peroxide-free facile method for the synthesis of amide derivatives
  作者：Nagaraju Vodnala、Raghuram Gujjarappa、Saibabu Polina、Vanaparthi Satheesh、Dhananjaya Kaldhi、Arup K. Kabi、Chandi C. Malakar

  DOI：10.1039/d0nj04158k

  日期：——

  A facile organocatalytic approach has been devised towards the synthesis of amide derivatives using 1,3-dicarbonyls as easily available acyl-sources under peroxide-free reaction conditions. This transformation was accomplished by the cleavage of the C–C bond in the presence of TEMPO as an organocatalyst and excludes the use of transition-metals and harsh reaction conditions. A broad range of substrates

  已经设计了一种简便的有机催化方法，用于在无过氧化物的反应条件下使用1,3-二羰基作为易于获得的酰基源来合成酰胺衍生物。这种转变是通过在TEMPO作为有机催化剂的存在下裂解C–C键来完成的，并且不使用过渡金属和苛刻的反应条件。具有各种官能团的多种底物被很好地耐受，并以高收率交付了产品。