1-(2-oxo-2-phenylethyl)tetrahydrothiophenium 4-oxo-1-adamantyloxycarbonyldifluoromethanesulfonate

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: 1-(2-oxo-2-phenylethyl)tetrahydrothiophenium 4-oxo-1-adamantyloxycarbonyldifluoromethanesulfonate
• 英文别名: 1,1-difluoro-2-oxo-2-[(4-oxo-1-adamantyl)oxy]ethanesulfonate;1-phenyl-2-(thiolan-1-ium-1-yl)ethanone
• 化学式: C₁₂H₁₃F₂O₆S*C₁₂H₁₅OS
• 分子量: 530.611
• InChiKey: QXKFBIAIPSRQSQ-UHFFFAOYSA-M

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.1
• 重原子数：
  35
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  6.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.62
• 拓扑面积：
  127
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  9

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1-(2-oxo-2-phenylethyl)tetrahydrothiophenium 4-oxo-1-adamantyloxycarbonyldifluoromethanesulfonate 、 1,2-乙二硫醇 在 zinc(II) chloride 作用下， 以 氯仿 为溶剂， 反应 4.5h， 生成
  参考文献：
  名称：

  JP5793833

  摘要：

  公开号：
• 作为产物：
  描述：

  difluorosulfoacetic acid 4-oxo-1-adamantyl ester sodium salt 、 1-(2-oxo-2-phenylethyl)tetrahydrothiophenium bromide 以 水 、 乙腈 为溶剂， 反应 15.0h， 生成 1-(2-oxo-2-phenylethyl)tetrahydrothiophenium 4-oxo-1-adamantyloxycarbonyldifluoromethanesulfonate
  参考文献：
  名称：

  Salt suitable for an acid generator and a chemically amplified resist composition containing the same

  摘要：

  本发明提供了一种具有公式(L)的盐：其中Q代表—CO—基团或—C(OH)—基团；环X代表具有3至30个碳原子的单环或多元环烃基团，当Q是—C(OH)—基团时，在Q位置的氢原子被羟基取代，或者当Q是—CO—基团时，在Q位置的两个氢原子被≡O基团取代，并且单环或多元环烃基团中的至少一个氢原子可以可选地被具有1至6碳原子的烷基、具有1至6碳原子的烷氧基、具有1至4碳原子的全氟烷基、具有1至6碳原子的羟基烷基、羟基或氰基取代；R10和R20各自独立地代表氟原子或具有1至6碳原子的全氟烷基；A+代表有机反离子。本发明还提供了一种包含公式(L)的盐的化学放大抗蚀剂组合物。

  公开号：

  US20070027336A1

文献信息

• Chemically amplified positive resist composition
  申请人：Takemoto Ichiki

  公开号：US20060160017A1

  公开（公告）日：2006-07-20

  The present invention provides a chemically amplified positive resist composition comprising (i) a polymer which is insoluble or poorly soluble in an alkali aqueous solution but becomes soluble in an alkali aqueous solution by the action of an acid, (ii) an acid generator, and (iii) a compound of the formula (I). The present invention also provides an ester derivative useful as a component of the chemically amplified positive resist composition, and process for producing the ester derivative.

  本发明提供了一种化学增感正性光刻胶组合物，包括(i)一种在碱性水溶液中不溶或难溶，但在酸的作用下变为可溶于碱性水溶液的聚合物，(ii)一种酸发生剂，以及(iii)式(I)的化合物。本发明还提供了一种酯衍生物，可用作化学增感正性光刻胶组合物的组分，以及制备酯衍生物的方法。
• CHEMICALLY AMPLIFIED PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN
  申请人：Ichikawa Koji

  公开号：US20100203446A1

  公开（公告）日：2010-08-12

  A chemically amplified photoresist composition, comprises: an acid generator (A) represented by the formula (I), and a resin which comprises a structural unit (b1) derived from a monomer that becomes soluble in an alkali by an action of an acid, a structural unit (b2) derived from a monomer that has an adamantyl group having at least two hydroxyl groups, and a structural unit (b3) derived from a monomer that has a lactone ring; Wherein Q 1 and Q 2 independently represent a fluorine atom or a C 1 to C 6 perfluoroalkyl group; X 1 represents a single bond or —[CH 2 ] k —, a —CH 2 — contained in the —[CH 2 ] k — may be replaced by —O— or —CO, and a hydrogen atom contained in the —[CH 2 ] k — may be replaced by a C 1 to C 4 aliphatic hydrocarbon group; k represents an integer 1 to 17; Y 1 represents an optionally substituted C 4 to C 36 saturated cyclic hydrocarbon group, the —CH 2 — contained in the saturated cyclic hydrocarbon group may be replaced by —O— or —CO; and Z + represents an organic cation.

  一种化学增强型光阻组合物，包括：由式（I）表示的酸发生剂（A），以及树脂，该树脂包括由通过酸作用变为碱溶性的单体衍生的结构单元（b1），由至少具有两个羟基的金刚烷基团的单体衍生的结构单元（b2），以及由具有内酯环的单体衍生的结构单元（b3）；其中，Q1和Q2独立地表示氟原子或C1到C6的全氟烷基团；X1表示单键或—[ ]k—，在—[ ]k—中包含的—CH2—可以被—O—或—CO—所取代，在—[ ]k—中包含的氢原子可以被C1到C4的脂肪烃基团所取代；k表示1到17的整数；Y1表示可选的取代的C4到C36饱和环烃基团，其中饱和环烃基团中的— —可以被—O—或—CO—所取代；Z+表示有机阳离子。
• A salt suitable for an acid generator and a chemically amplified resist composition containing the same
  申请人：Sumitomo Chemical Company, Limited

  公开号：EP1873143B1

  公开（公告）日：2009-04-15
• JP5677673
  申请人：——

  公开号：——

  公开（公告）日：——
• US7625689B2
  申请人：——

  公开号：US7625689B2

  公开（公告）日：2009-12-01