2-甲基-4-(三甲基甲硅烷基)-2-丁醇 | 4426-65-7

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 中文名称: 2-甲基-4-(三甲基甲硅烷基)-2-丁醇
• 英文名称: 2-methyl-4-(trimethylsilyl)-2-butanol
• 英文别名: 4-(trimethylsilyl)-2-methyl-2-butanol；me3Si(bu-3-(me,OH))；2-methyl-4-trimethylsilanyl-butan-2-ol；2-Methyl-4-trimethylsilyl-butan-2-ol；2-methyl-4-trimethylsilyl-2-butanol；2-methyl-4-trimethylsilylbutan-2-ol
• CAS: 4426-65-7
• 化学式: C₈H₂₀OSi
• 分子量: 160.332
• InChiKey: AUBGBBZESZXOCM-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  48 °C(Press: 4 Torr)
• 密度：
  0.8255 g/cm3

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.49
• 重原子数：
  10
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  20.2
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2-甲基-4-(三甲基甲硅烷基)-2-丁醇 在 boron trifluoride diacetate 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 反应 0.25h， 以100%的产率得到3-甲基-1-丁烯
  参考文献：
  名称：

  通过甲硅烷基的存在控制碳离子的重排

  摘要：

  具有λ-甲硅烷基的叔醇（3）通常在酸中经历简单的碳离子重排，得到单一的烯烃产物（4），而甲硅烷基不损失。

  DOI：

  10.1016/s0040-4039(01)92922-3
• 作为产物：
  描述：

  3-三甲基硅基丙酸 在 硫酸 作用下， 以 乙醚 为溶剂， 反应 5.5h， 生成 2-甲基-4-(三甲基甲硅烷基)-2-丁醇
  参考文献：
  名称：

  Fleming, Ian; Patel, Shailesh K.; Urch, Christopher J., Journal of the Chemical Society. Perkin transactions I, 1989, p. 115 - 124

  摘要：

  DOI：

文献信息

• The<b><i>γ</i></b>-Silicon Effect. I. Solvent Effects on the Solvolyses of 2,2-Dimethyl-3-(trimethylsilyl)propyl and 3-(Aryldimethylsilyl)-2,2-dimethylpropyl<b><i>p</i></b>-Toluenesulfonates
  作者：Tohru Nakashima、Ryoji Fujiyama、Mizue Fujio、Yuho Tsuno

  DOI：10.1246/bcsj.72.741

  日期：1999.4

  The solvolysis rates of 2,2-dimethyl-3-(trimethylsilyl)propyl and 3-(aryldimethylsilyl)-2,2-dimethylpropyl p-toluenesulfonates were measured in a wide variety of solvents at 45 °C. The solvent effects were analyzed by using the Winstein–Grunwald equation. The solvent effects observed did not give simple linear correlations with the 2-adamantyl YOTs parameter, but showed dispersion behavior in a series

  2,2-二甲基-3-(三甲基甲硅烷基)丙基和3-(芳基二甲基甲硅烷基)-2,2-二甲基丙基对甲苯磺酸酯的溶剂分解速率在45°C下在多种溶剂中测量。使用 Winstein-Grunwald 方程分析溶剂效应。观察到的溶剂效应与 2-金刚烷基 YOT 参数没有给出简单的线性相关性，但在一系列二元溶剂中表现出分散行为。对于 2-金刚烷基对甲苯磺酸酯的极限 kc 溶剂分解，0.59-0.67 的 m 值显着低于 1。无法根据溶剂的亲核辅助来解释偏差模式。发现 3-（芳基二甲基甲硅烷基）衍生物的 m 值降低时的分散行为比 3-（三甲基甲硅烷基）衍生物更显着，并且与 Si-Cγ 键参与的初始阳离子电荷的离域相容速率决定步骤。扩展的双参数处理，log (k/k80E) = mcYOTs + mΔYΔ，successf...
• Carbonium ion rearrangements controlled by the presence of a silyl group
  作者：Ian Fleming、Shailesh K Patel

  DOI：10.1016/s0040-4039(01)92922-3

  日期：——

  Tertiary alcohols with a λ-silyl group (3) generally undergo a simple carbonium ion rearrangement in acid giving a single alkene product (4) with loss of the silyl group.

  具有λ-甲硅烷基的叔醇（3）通常在酸中经历简单的碳离子重排，得到单一的烯烃产物（4），而甲硅烷基不损失。
• High silicon content monomers and polymers suitable for 193 nm bilayer resists
  申请人：International Business Machines Corporation

  公开号：US20020127490A1

  公开（公告）日：2002-09-12

  Polymerizable monomers having silicon containing groups that are transparent at 193 nm; and ethylenically unsaturated group are provided. Polymers from these monomers can be used in processes for forming sub-100 nm images with a chemically amplified, radiation sensitive bilayer resist. The bilayer resist is disposed on a substrate and comprises (i) a top imaging layer comprising a radiation sensitive acid generator and (ii) an organic underlayer. The bilayer resist can be used in the manufacturing of integrated circuits.

  提供了具有硅含基团且在193纳米处透明的可聚合单体；以及乙烯基不饱和基团。这些单体形成的聚合物可用于制备具有化学增感、辐射敏感的双层光阻的亚100纳米图像的工艺中。双层光阻被放置在基底上，包括（i）顶部成像层，包括辐射敏感的酸发生剂和（ii）有机底层。该双层光阻可用于集成电路的制造。
• Gmelin Handbuch der Anorganischen Chemie, Gmelin Handbook: Si: MVol.C, 13, page 39 - 41
  作者：

  DOI：——

  日期：——
• [.beta.-(Trimethylsilyl)ethyl]lithium: a new reagent for carbonyl reductive vinylation
  作者：Stephen R. Wilson、Alexander Shedrinsky

  DOI：10.1021/jo00349a038

  日期：1982.5