methoxymalonyl dichloride | 122731-79-7

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: methoxymalonyl dichloride
• 英文别名: methoxymalonyl chloride；Chlorocarbonylmethoxy-acetyl chloride；methoxymalonylchloride；2-Methoxypropanedioyl dichloride
• CAS: 122731-79-7
• 化学式: C₄H₄Cl₂O₃
• 分子量: 170.98
• InChiKey: OIFKZHWSLBKFTN-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  203.2±25.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.445±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.4
• 重原子数：
  9
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.5
• 拓扑面积：
  43.4
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  methoxymalonyl dichloride 、 N-(4-methoxybenzyl)-3-oxopentaneamide 以 二氯甲烷 、 甲苯 为溶剂， 生成 4,6-Dihydroxy-5-methoxy-1-(4-methoxybenzyl)-3-propanoylpyridin-2(1H)-one
  参考文献：
  名称：

  ATPENINS

  摘要：

  本发明涉及制备特定2-吡啶酮和2-吡啶醇的过程，涉及这两种类型的新化合物以及它们作为生物活性化合物的用途，特别是用于控制农作物保护中的有害微生物，在医药领域和材料保护中。

  公开号：

  US20100168175A1
• 作为产物：
  描述：

  二甘醇酸 在 氯化亚砜 作用下， 生成 methoxymalonyl dichloride
  参考文献：
  名称：

  HYDROLYSABLE LINKERS AND CROSS-LINKERS FOR ABSORBABLE POLYMERS

  摘要：

  本发明涉及一种新型线性和多臂可水解连接剂和交联剂的发现，用于合成可生物降解聚合物，如聚酯、聚氨酯、聚酰胺、聚脲和可降解环氧胺树脂。本发明的线性和多臂可水解连接剂包括对称和/或非对称的醚羧酸、胺、酰胺二醇、胺多元醇和异氰酸。

  公开号：

  US20090082540A1

文献信息

• Improved process for pyrimidinone compounds
  申请人：ROHM AND HAAS COMPANY

  公开号：EP0812832A1

  公开（公告）日：1997-12-17

  This invention relates to a process for the preparation of pyrimidinone compounds of the formula wherein Ar is an optionally substituted aryl or heteroaromatic moiety, R3 is an optionally substituted alkyl, alkenyl, alkynyl, (C1-C6)alkoxy (C2-C6)alkyl or silyl (C3-C6)alkynyl, R5 is a hydrogen atom, halo, cyano or an optionally substituted alkyl, alkenyl, alkynyl, alkoxy or alkylthio, and R6 is a hydrogen atom, cyano, or an optionally substituted alkyl, cycloalkyl, alkenyl, alkynyl, aryl, aralkyl or heteroaryl. The process comprises reaction of an amidine and a malonic acid derivative to give a hydroxypyrimidinone followed by conversion of the resulting hydroxypyrimidinone to a sulfonyloxypyrimidinone followed by reaction of the resulting sulfonyloxypyrimidinone with an organometallic reagent to give the desired pyrimidinone. The hydroxypyrimidinones, wherein R6 is hydroxy and sulfonyloxypyrimidinones wherein R6 is a substituted sulfonyloxy moiety, are themselves new and useful intermediates in the preparation of the desired pyrimidinones.

  这项发明涉及一种用于制备公式为的吡啶酮化合物的工艺 其中 Ar是可选地取代的芳香族或杂芳基部分， R3是可选地取代的烷基、烯基、炔基、(C1-C6)alkoxy (C2-C6)alkyl或硅基(C3-C6)炔基， R5是氢原子、卤素、氰基或可选地取代的烷基、烯基、炔基、烷氧基或烷硫基，和 R6是氢原子、氰基，或可选地取代的烷基、环烷基、烯基、炔基、芳香族、芳烷基或杂芳基。 该工艺包括将酰胺与马来酸衍生物反应以给出羟基吡啶酮，然后将所得羟基吡啶酮转化为磺酰氧基吡啶酮，然后将所得磺酰氧基吡啶酮与有机金属试剂反应以得到所需的吡啶酮。 其中R6是羟基的羟基吡啶酮和其中R6是取代磺酰氧基基团的磺酰氧基吡啶酮本身就是用于制备所需吡啶酮的新颖有用的中间体。
• Neue Dicarbonsäure-bis(3,5-dicarbamoyl-2,4,6-Triiodanilide), Verfahren zu deren Herstellung sowie diese enthaltende Röntgenkontrastmittel
  申请人：SCHERING AKTIENGESELLSCHAFT

  公开号：EP0308364A2

  公开（公告）日：1989-03-22

  Dicarbonsäure-bis(3,5-dicarbamoyl-2,4,6-triiodanilide) der allgemeinen Formel I worin die Amidreste -CONR¹R² und -CONR³R⁴ voneinander verschieden sind und R¹ ein Wasserstoffatom, einen niederen Alkylrest oder R² R² einen gerad- oder verzweigtkettigen Mono- oder Polyhydroxyalkylrest, R³ ein Wasserstoffatom, einen niederen Alkylrest oder R⁴ R⁴ einen gerad- oder verzweigtkettigen Mono- oder Polyhydroxyalkylrest, R⁵ ein Wasserstoffatom, einen niederen Alkylrest oder einen Mono- oder Polyhy­droxyalkylrest und X ein gerad- oder verzweigtkettiges Alkylen mit 1 bis 6 Kohlenstoffatomen, da gewünschtenfalls durch 1 bis 6 Hydroxy- oder Alkoxygruppen substituiert ode durch ein oder mehrere Sauerstoffatome unterbrochen sein kann, bedeutet. Die neuen nichtionischen Verbindungen der Formel I sind aufgrund ihrer guten pharmakologischen und physikochemischen und physikochemischen Eigenschaften als schattengebende Substanzen in Röntgenkontrastmitteln zur Verwendung auf allen Anwendungs­gebieten für Röntgenkontrastmittel hervorragend geeignet.

  一种式 I 的二羧酸双(3,5-二氨基甲酰基-2,4,6-三碘苯胺) 其中酰胺基 -CONR¹R² 和 -CONR³R⁴ 互不相同，且 R¹ 是氢原子、低级烷基或 R² R² 是直链或支链单羟基或多羟基烷基、 R³ 是氢原子、低级烷基或 R⁴ 。 R⁴ 是直链或支链单羟基或多羟基烷基、 R⁵ 是氢原子、低级烷基或单羟基或多羟基烷基，以及 X 是具有 1-6 个碳原子的直链或支链亚烷基，如果需要，可被 1-6 个羟基或 烷氧基取代，或被一个或多个氧原子打断、 手段。 由于其良好的药理和理化性质，式 I 的新型非离子化合物非常适合在 X 射线造影剂的所有应用领域中用作 X 射线造影剂的阴影物质。
• Neue substituierte Dicarbonsäure-bis(3,5-dicarbamoyl-2,4,6-triiodanilide), Verfahren zu deren Herstellung sowie diese enthaltende Röntgenkontrastmittel
  申请人：SCHERING AKTIENGESELLSCHAFT

  公开号：EP0317492A2

  公开（公告）日：1989-05-24

  Die Erfindung betrifft neue substituierte Dicarbonsäure-bis(3,5-dicarbamoyl-­2,4,6-triiodanilide) der allgemeinen Formel I worin R¹ ein Wasserstoffatom, einen C₁-C₄-Alkylrest oder R², R² einen gerad- oder verzweigtkettigen C₂-C₈-Mono- oder Polyhydroxyalkylrest, R³ ein Wasserstoffatom, einen C₁-C₄-Alkylrest oder R², R⁴ ein Wasserstoffatom oder einen C₁-C₄-Alkylrest und n = 1 oder 2 bedeuten, Die neuen nichtionischen Verbindungen der Formel I sind aufgrund ihrer guten pharmakologischen und physikochemischen Eigenschaften als schattengebende Substanzen in Röntgenkontrastmittel zur Verwendung auf allen Anwendungsgebieten für Röntgenkontrastmittel hervorragend geeignet.

  本发明涉及通式 I 的新型取代二羧酸双(3,5-二氨基甲酰基-2,4,6-三碘苯胺) 其中 R¹ 是氢原子、C₁-C₄-烷基或 R²、 R² 是直链或支链 C₂-C₈-单羟基或多羟基烷基、 R³ 是氢原子、C₁-C₄-烷基或 R²、 R⁴ 是氢原子或 C₁-C₄ 烷基，且 n = 1 或 2 表示 由于具有良好的药理和物理化学特性，式 I 的新型非离子化合物非常适合用作 X 射线造影剂中的阴影物质，可用于 X 射线造影剂的所有应用领域。
• Metal polishing slurry and chemical mechanical polishing method
  申请人：Yoshikawa Masaru

  公开号：US20100075500A1

  公开（公告）日：2010-03-25

  The invention provides a metal polishing slurry containing a compound represented by the general formula (1): (X 1 ) n -L wherein X 1 represents a heterocycle containing at least one nitrogen atom, n represents an integer of 2 or more, and L represents a linking group having a valence of 2 or more, provided that X 1 s whose number is n may be the same or different, an oxidizer and an organic acid; and a method of chemical mechanical polishing using such slurry. The metal polishing slurry and the chemical mechanical polishing method are used in chemical mechanical polishing in the step of manufacturing semiconductor devices and enable a high polishing rate to be achieved while causing minimal dishing in polishing an object (wafer).
• US5073362A
  申请人：——

  公开号：US5073362A

  公开（公告）日：1991-12-17