3-methylimidazolium iodide | 878550-42-6

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 唑类
• 英文名称: 3-methylimidazolium iodide
• 英文别名: 1-hexadecyl-3-methylimidazolium iodide；1-Hexadecyl-3-methylimidazolium iodide；1-hexadecyl-3-methylimidazol-3-ium;iodide
• CAS: 878550-42-6
• 化学式: C₂₀H₃₉N₂*I
• 分子量: 434.448
• InChiKey: CWRFMOZAPCJNAX-UHFFFAOYSA-M

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.8
• 重原子数：
  23
• 可旋转键数：
  15
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.85
• 拓扑面积：
  8.8
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  3-methylimidazolium iodide 在 potassium carbonate 、 sulfur 作用下， 以 甲醇 为溶剂， 反应 12.5h， 生成 C₂₀H₃₈N₂S
  参考文献：
  名称：

  Bis(imidazoline-2-thione)–copper(i) catalyzed regioselective boron addition to internal alkynes

  摘要：

  我们开发了基于双（1,3-二取代咪唑啉-2-硫酮）â铜复合物的新型催化系统，用于高区域选择性地溴化内部炔烃。

  DOI：

  10.1039/b919515g
• 作为产物：
  描述：

  N-甲基咪唑 、 碘十六烷 以 丙酮 为溶剂， 反应 12.0h， 生成 3-methylimidazolium iodide
  参考文献：
  名称：

  通过修饰氮来调节咪唑鎓盐的介晶性质3-取代基

  摘要：

  在这项研究中，合成了一系列具有不同N 3取代基（3-位：甲基，乙烯基，乙基，正丙基，正丁基）的咪唑盐，并以碘化物作为抗衡离子（ILC），并其特征在于调节咪唑鎓盐的介晶性质。通过热分析，偏振光学显微镜，X射线粉末衍射和单晶衍射来表征基于咪唑鎓盐的离子液晶。观察到具有近晶A相指状双层结构的液晶相。中间相温度范围随着N 3-取代基的烷基链长度的增加而减小。当乙烯基附着在N 3上时位置上，在相邻层中形成分子间π-π相互作用，这对中间相的形成具有积极作用。咪唑鎓盐的层间距随着连接到N 1和N 3位置的烷基链长度的增加而保持增加，并且随着液晶相中温度的升高而逐渐减小。1-烷基-3-乙烯基咪唑鎓盐具有最小的层间距，这是由于相邻层中的乙烯基和咪唑鎓环之间的分子间π-π相互作用。

  DOI：

  10.1007/s11426-015-5390-1

文献信息

• Regulating the mesogenic properties of imidazolium salts by modifying N3-substituents
  作者：Meng Wang、Xu Pan、Jian Chen、Songyuan Dai

  DOI：10.1007/s11426-015-5390-1

  日期：2015.12

  single-crystalline diffraction. Liquid crystalline phase with a Smectic A phase interdigitated bilayer structure is observed. The mesophase temperature range decreases with the increase of the alkyl chain length of N3-substituent. While when vinyl is attached to the N3 position, intermolecular π-π interactions are formed in adjacent layers, which exert a positive effect on the formation of mesophase. The layer-spacing

  在这项研究中，合成了一系列具有不同N 3取代基（3-位：甲基，乙烯基，乙基，正丙基，正丁基）的咪唑盐，并以碘化物作为抗衡离子（ILC），并其特征在于调节咪唑鎓盐的介晶性质。通过热分析，偏振光学显微镜，X射线粉末衍射和单晶衍射来表征基于咪唑鎓盐的离子液晶。观察到具有近晶A相指状双层结构的液晶相。中间相温度范围随着N 3-取代基的烷基链长度的增加而减小。当乙烯基附着在N 3上时位置上，在相邻层中形成分子间π-π相互作用，这对中间相的形成具有积极作用。咪唑鎓盐的层间距随着连接到N 1和N 3位置的烷基链长度的增加而保持增加，并且随着液晶相中温度的升高而逐渐减小。1-烷基-3-乙烯基咪唑鎓盐具有最小的层间距，这是由于相邻层中的乙烯基和咪唑鎓环之间的分子间π-π相互作用。
• The Fluid-Mosaic Model, Homeoviscous Adaptation, and Ionic Liquids: Dramatic Lowering of the Melting Point by Side-Chain Unsaturation
  作者：Samuel M. Murray、Richard A. O'Brien、Kaila M. Mattson、Christopher Ceccarelli、Richard E. Sykora、Kevin N. West、James H. Davis

  DOI：10.1002/anie.200906169

  日期：2010.4.1

  Defying conventional wisdom: Ionic liquids (ILs) with long, unsaturated alkyl appendages (see top structure) defy established trends that link long ion‐bound alkyl groups to higher melting points. The new ILs are also less viscous than a saturated standard (see bottom structure) at the same temperature. These features parallel those that underpin homeoviscous adaptation in certain organisms and are

  违背传统常识：具有长且不饱和烷基附件的离子液体（IL）（参见顶部结构）无视已建立的趋势，这些趋势将长离子束缚的烷基与更高的熔点联系在一起。在相同温度下，新的离子液体的粘度也比饱和标准液（参见底部结构）低。这些特征与某些生物体内顺应性适应的特征平行，并间接支持类似流体马赛克的纳米级特征。
• MICROSTRUCTURE MANUFACTURING METHOD USING TREATMENT LIQUID FOR INHIBITING PATTERN COLLAPSE IN MICROSTRUCTURES
  申请人：Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.

  公开号：EP2615632B1

  公开（公告）日：2019-05-08
• PROCESSING LIQUID FOR SUPPRESSING PATTERN COLLAPSE OF FINE METAL STRUCTURE AND METHOD FOR PRODUCING FINE METAL STRUCTURE USING SAME
  申请人：Ohto Masaru

  公开号：US20120181249A1

  公开（公告）日：2012-07-19

  There are provided a processing liquid for suppressing pattern collapse of a fine metal structure, containing at least one member selected from an imidazolium halide having an alkyl group containing 12, 14 or 16 carbon atoms, a pyridinium halide having an alkyl group containing 14 or 16 carbon atoms, an ammonium halide having an alkyl group containing 14, 16 or 18 carbon atoms, a betaine compound having an alkyl group containing 12, 14 or 16 carbon atoms, and an amine oxide compound having an alkyl group containing 14, 16 or 18 carbon atoms, and a method for producing a fine metal structure using the same.
• TREATMENT LIQUID FOR INHIBITING PATTERN COLLAPSE IN MICROSTRUCTURES, AND MICROSTRUCTURE MANUFACTURING METHOD USING SAID TREATMENT LIQUID
  申请人：Matsunaga Hiroshi

  公开号：US20130165365A1

  公开（公告）日：2013-06-27

  There are provided a processing liquid for suppressing pattern collapse of a microstructure which includes at least one compound selected from the group consisting of an imidazolium halide containing an alkyl group having 12, 14 or 16 carbon atoms, a pyridinium halide containing an alkyl group having 14 or 16 carbon atoms and an ammonium halide containing an alkyl group having 16 or 18 carbon atoms, and water; and a method for producing a microstructure formed of silicon oxide using the processing liquid.